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钨钒共溅掺杂二氧化钒薄膜的制备及其光学特性 被引量:11
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作者 覃源 李毅 +10 位作者 方宝英 佟国香 王晓华 丁杰 王峰 严梦 梁倩 陈少娟 陈建坤 郑鸿柱 袁文瑞 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第12期343-348,共6页
为了解决VO2薄膜掺杂后相变温度高,相变前后红外透射率差值减小等问题,利用磁控共溅射的方法,在普通玻璃基底上溅射沉积钨钒薄膜,再在常压氮氧混合气氛中退火,制备了性能良好的掺钨VO2薄膜。分析对比了不同混合气氛中氧化生成的钨掺杂VO... 为了解决VO2薄膜掺杂后相变温度高,相变前后红外透射率差值减小等问题,利用磁控共溅射的方法,在普通玻璃基底上溅射沉积钨钒薄膜,再在常压氮氧混合气氛中退火,制备了性能良好的掺钨VO2薄膜。分析对比了不同混合气氛中氧化生成的钨掺杂VO2薄膜的组分和结构,发现VO2有明显的(011)和(200)生长取向,并且随着混合气氛中氧含量的增加,薄膜颗粒大小从50nm增大到80nm。钨掺杂VO2薄膜的相变温度下降到31℃,相变前后红外透射率差值为41%。结果表明通过高效的钨掺杂可以降低VO2薄膜的相变温度,改善红外区域的透射光谱特性,减小钨掺杂带来的透射率损失。 展开更多
关键词 薄膜 热致变色 氮氧混合 共溅射 常压
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HIPIMS技术制备CrN及CrAlN涂层的性能 被引量:8
2
作者 朱宇杰 马景灵 +2 位作者 王广欣 秦聪慧 Heinz Rolf Stock 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第4期127-135,共9页
用高能脉冲靶和双极脉冲靶共溅射的方式,采用高功率脉冲磁控溅射技术(HIPIMS)在高速钢基片(W18Cr4V)上制备了CrN涂层和CrAlN涂层((H+B)CrN、(H+B)CrAlN);同时采用第四代电弧离子镀技术(ARC evaporators)在高速钢基片上制备了CrN涂层和Cr... 用高能脉冲靶和双极脉冲靶共溅射的方式,采用高功率脉冲磁控溅射技术(HIPIMS)在高速钢基片(W18Cr4V)上制备了CrN涂层和CrAlN涂层((H+B)CrN、(H+B)CrAlN);同时采用第四代电弧离子镀技术(ARC evaporators)在高速钢基片上制备了CrN涂层和CrAlN涂层(ARC CrN、ARC CrAlN)。采用划痕试验、X射线衍射、扫描电镜和电化学腐蚀测试等研究了涂层的形貌和性能。结果表明:共溅射制备的涂层膜基结合力更强,临界载荷最高可达到72.2 N,表面晶粒更细小,缺陷少,横截面组织致密;同时该方法制备的CrAlN((H+B)CrAlN)涂层的高温抗氧化性能最佳;共溅射制备的涂层的耐腐蚀性能比电弧离子镀制备的涂层更好。 展开更多
关键词 高功率脉冲磁控溅射技术(HIPIMS) 共溅射 CRN CRALN 膜基结合力 耐腐蚀性
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脉冲峰值电流对HIPIMS/DCMS共沉积制备AlCrTiN涂层性能的影响 被引量:7
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作者 贵宾华 周晖 +2 位作者 郑军 张延帅 杨拉毛草 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期56-65,共10页
利用HIPIMS与DCMS共沉积技术制备AlCrTiN复合硬质涂层,通过调控Al Cr靶脉冲峰值电流来制备不同峰值电流下的AlCrTiN涂层。采用XRD、SEM等分析手段表征不同峰值电流下AlCrTiN涂层的组织结构及微观形貌;通过纳米压痕、真空退火、高温摩擦... 利用HIPIMS与DCMS共沉积技术制备AlCrTiN复合硬质涂层,通过调控Al Cr靶脉冲峰值电流来制备不同峰值电流下的AlCrTiN涂层。采用XRD、SEM等分析手段表征不同峰值电流下AlCrTiN涂层的组织结构及微观形貌;通过纳米压痕、真空退火、高温摩擦磨损试验分析涂层的力学性能、热稳定性能及摩擦学性能。结果表明:AlCrTiN涂层为典型的面心立方结构,随峰值电流的增加,(111)及(200)晶面呈现竞争生长的状态;随真空退火温度上升,各涂层硬度值出现明显下降。1 000℃退火后,各涂层硬度维持在17 GPa附近;随摩擦环境温度的上升,各涂层摩擦因数整体呈下降趋势;280 A所制备涂层因高温抗氧化性能及磨屑排出能力的不足导致其高温磨损率迅速增加,800℃下其磨损的主要形式为氧化磨损和粘着磨损。 展开更多
关键词 高功率磁控溅射 直流反应磁控溅射 共沉积 组织结构 力学性能 耐磨性能
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钨-氮化铝太阳能选择性吸收表面的研制 被引量:5
4
作者 谢光明 于凤勤 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 1999年第3期35-37,共3页
为了改善太阳能选择性吸收表面的中高温性能;采用掺钨的氨化铝金属陶瓷复合材料作为太阳能选择性吸收涂层。根据复合材料的有效介质理论;对金属陶瓷膜系的光学性能进行理论计算;采用磁控多靶反应共溅射的方法对膜系进行反演寻优工艺... 为了改善太阳能选择性吸收表面的中高温性能;采用掺钨的氨化铝金属陶瓷复合材料作为太阳能选择性吸收涂层。根据复合材料的有效介质理论;对金属陶瓷膜系的光学性能进行理论计算;采用磁控多靶反应共溅射的方法对膜系进行反演寻优工艺实验;在对复合膜的金属粒子体积分数f、厚度d进行多次组合实验后,取得了制备最佳组合膜系的溅射工艺参数。实验结果表明;必须利用金属陶瓷吸收层与基底金属的干涉效应,再加减反射层才能得到理想的选择性吸收效果,吸收率 a>0.9,发射率ε(353K)<0.1。当温度高于350℃时性能稳定,吸收率α变化不大,而发射率ε不超过0.1。与多层渐变吸收涂层相比;金属陶瓷选择性吸收涂层具有膜系结构简单、膜层减少、膜厚降低等优点。该涂层适用于低倍聚光式真空管集热器。 展开更多
关键词 金属陶瓷 太阳能 选择性吸收表面 集热器
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一种双靶磁控溅射制备的Mg掺杂的NiO薄膜
5
作者 王新 丛凡超 罗明海 《微电子学》 CAS 北大核心 2024年第1期145-148,共4页
采用磁控溅射“共溅射”方法,将Ar气作为溅射气体,高纯NiO和MgO双陶瓷靶作为溅射靶材。当控制NiO和MgO靶的溅射功率分别为190 W和580 W,溅射真空度为2 Pa,衬底温度为300℃时,得到了Mg掺杂的NiO(Ni_(0.61)Mg_(0.39)O)薄膜。该薄膜是一种... 采用磁控溅射“共溅射”方法,将Ar气作为溅射气体,高纯NiO和MgO双陶瓷靶作为溅射靶材。当控制NiO和MgO靶的溅射功率分别为190 W和580 W,溅射真空度为2 Pa,衬底温度为300℃时,得到了Mg掺杂的NiO(Ni_(0.61)Mg_(0.39)O)薄膜。该薄膜是一种具有(200)择优取向的晶态薄膜。薄膜表面比较平整,晶粒分布致密,晶粒尺寸约46.9 nm。(200)衍射峰位置相对未掺杂的NiO薄膜向小角度偏移约0.2°。合金薄膜在可见光波段具有较大的透过率,而在300 nm附近透过率陡然下降,其光学带隙向高能方向移动到了3.95 eV。该研究为采用磁控溅射制备高质量的Mg掺杂的NiO薄膜提供了技术支撑。 展开更多
关键词 磁控溅射 共溅射 Mg掺杂的NiO薄膜 带隙
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溅射Cu/In叠层预置膜再硒化法制备CuInSe_2薄膜 被引量:4
6
作者 李健 朱洁 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期312-318,共7页
采用Cu、In双靶,低功率直流磁控溅射的方法沉积Cu-In双层预置膜,然后采用固态源硒化法生成CuInSe_2 (CIS)薄膜。采用SEM和EDX观察和分析薄膜的表面形貌与成分,用XRD表征薄膜的组织结构。重点分析了不同衬底,不同铜、铟溅射顺序对Cu-In... 采用Cu、In双靶,低功率直流磁控溅射的方法沉积Cu-In双层预置膜,然后采用固态源硒化法生成CuInSe_2 (CIS)薄膜。采用SEM和EDX观察和分析薄膜的表面形貌与成分,用XRD表征薄膜的组织结构。重点分析了不同衬底,不同铜、铟溅射顺序对Cu-In双层预置膜与CuInSe_2半导体薄膜成分、形貌和相结构的影响,分析了不同溅射顺序下薄膜的生长机制。以镀Mo玻璃为衬底生长的薄膜具有更理想的形貌;在Cu-In膜制备过程中采用先溅射Cu后溅射In的沉积顺序,能有效地利用元素In润湿能力强的特点,使Cu、In充分结合形成均匀致密的Cu-In预置膜,经硒化处理得到了具有单一黄铜矿结构的CuInSe_2半导体薄膜。 展开更多
关键词 磁控溅射 Cu-In双层膜 溅射顺序 CIS膜
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Tuning magnetic properties, thermal stability and microstructure of NdFeB magnets with diffusing Pr-Zn films 被引量:5
7
作者 Jiajie Li Xiangyun Huang +6 位作者 Liangliang Zeng Bo Ouyang Xiaoqiang Yu Munan Yang Bin Yang Rajdeep Singh Rawat Zhenchen Zhong 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第6期81-87,共7页
Grain boundary diffusion process(GBDP)serves as a promising approach in improving magnetic properties and thermal stability of Nd FeB permanent magnets.Herein,non-heavy rare earth Pr-Zn films deposited on the magnet s... Grain boundary diffusion process(GBDP)serves as a promising approach in improving magnetic properties and thermal stability of Nd FeB permanent magnets.Herein,non-heavy rare earth Pr-Zn films deposited on the magnet surface using DC-magnetron sputtering system are reported.The thermal stability and coercivity enhancement mechanism of Pr-Zn GBDP magnets were investigated.Results show that the coercivity of Pr-Zn GBDP magnet increases from 963.96 kA m^-1 to 1317.14 kA m^-1 without any remanence reduction.Notably,the demagnetization curve of Pr-Zn GBDP magnet still remains a high squareness ratio.The temperature coefficient of coercivity and anti-demagnetization ability of Pr-Zn GBDP magnet under high temperatures are improved after GBDP treatment.The well-optimized rare earth-rich(RE-rich)grain boundary phases and high effective anisotropy field of(Nd,RE)2 Fe14 B magnetic hardening layers surrounding main grains are the key factors to impact the magnetic properties and thermal stability of Nd FeB permanent magnets via GBDP treatment. 展开更多
关键词 NDFEB co-sputtering Pr-Zn films Thermal stability coERCIVITY mechanism
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High-throughput screening for biomedical applications in a Ti-Zr-Nb alloy system through masking co-sputtering 被引量:5
8
作者 Xue-Hui Yan Jiang Ma Yong Zhang 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第9期86-94,共9页
A method of co-sputtering deposition combined with physical masking was applied to the parallel preparation of a ternary Ti-NbZr system alloy. Sixteen independent specimens with varying compositions were obtained. The... A method of co-sputtering deposition combined with physical masking was applied to the parallel preparation of a ternary Ti-NbZr system alloy. Sixteen independent specimens with varying compositions were obtained. Their microstructure, phase structure,Young’s modulus, nanoindentation hardness, and electrochemical behavior in a phosphate buffer solution(PBS) were studied in detail. It was revealed that the Ti-Zr-Nb alloys possess a single BCC structure. As confirmed via nanoindentation tests, the Young’s modulus of the specimens ranged from 80.3 to 94.8 GPa and the nanoindentation hardness ranged from 3.6 to 5.0 GPa.By optimizing the composition of the specimens, the Ti34Zr52Nb14 alloy was made to possess the lowest modulus in this work(76.5 GPa). Moreover, the Ti34Zr52Nb14 alloy showed excellent corrosion resistance in PBS without any tendency for pitting at anodic potentials up to 1 Vsce. These preliminary advantages offer the opportunity to explore new orthopedic implant alloys based on Ti-Zr-Nb alloys. Moreover, this work provides an effective method for the parallel preparation of biomedical alloys. 展开更多
关键词 HIGH-THROUGHPUT BIOMEDICAL materials co-sputtering physical mask Young’s MODULUS
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组合靶共溅射沉积Cu-W复合薄膜的结构与性能
9
作者 郭中正 闫万珺 +3 位作者 张殿喜 杨秀凡 蒋宪邦 周丹彤 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2024年第4期38-45,共8页
用嵌入组合型靶材,采用磁控共溅射方法,在单晶硅和聚酰亚胺衬底上制备Cu-W复合薄膜。分别运用能谱仪、X射线衍射仪、扫描电镜和原子力显微镜对Cu-W复合薄膜的成份、结构及表面形貌进行分析表征。选用微小力测试系统、纳米压痕仪及四探... 用嵌入组合型靶材,采用磁控共溅射方法,在单晶硅和聚酰亚胺衬底上制备Cu-W复合薄膜。分别运用能谱仪、X射线衍射仪、扫描电镜和原子力显微镜对Cu-W复合薄膜的成份、结构及表面形貌进行分析表征。选用微小力测试系统、纳米压痕仪及四探针仪分别测试复合薄膜的屈服强度σ_(0.2)和裂纹萌生临界应变ε_(c)、显微硬度H及电阻率ρ。结果表明:可通过调整组合型靶材环状溅射刻蚀区内W靶所占的面积比,有效地调控复合薄膜的W含量。随W靶的面积占比从6%增至30%,Cu-W复合薄膜的W含量从2.6 at.%增至16.9 at.%。W在Cu中的固溶度延展,复合膜内存在面心立方(fcc)Cu(W)亚稳固溶体,随复合膜中W含量增加,W在Cu中的固溶度从1.7 at.%W增至10 at.%W,复合膜的平均晶粒从32 nm减小至16 nm,表面光洁度提高。W含量增加时,复合膜的屈服强度σ_(0.2)、显微硬度H及电阻率ρ增加,而裂纹萌生临界应变ε_(c)减小。 展开更多
关键词 组合靶 共溅射 Cu-W复合薄膜
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热扩渗PrZn合金膜层对烧结NdFeB磁性能与耐热性能的影响 被引量:6
10
作者 郭诚君 李家节 +3 位作者 杨牧南 周头军 陈金水 饶先发 《中国稀土学报》 CAS CSCD 北大核心 2017年第2期215-220,共6页
采用直流磁控共溅射技术,在烧结态NdFeB磁体表面沉积一层非重稀土低熔点PrZn合金,在750℃×3 h进行真空热扩渗处理,500℃×2 h进行回火处理,研究此种工艺对磁体的磁性能、耐热性能及显微组织结构的影响。晶界扩散处理后,磁体在... 采用直流磁控共溅射技术,在烧结态NdFeB磁体表面沉积一层非重稀土低熔点PrZn合金,在750℃×3 h进行真空热扩渗处理,500℃×2 h进行回火处理,研究此种工艺对磁体的磁性能、耐热性能及显微组织结构的影响。晶界扩散处理后,磁体在保持剩磁和方形度基本不变的情况下,矫顽力由963.96 k A·m^(-1)提高到1317.14 k A·m^(-1),即在原来的基础上增加了36.64%。磁体的耐热性得以提高,α_(Br)和β_(Hcj)均得以改善,α_(Br)由原样的-0.1188%·℃^(-1)降低到扩渗样的-0.1180%·℃^(-1),β_(Hcj)由原样的-0.5533%·℃^(-1)降低为扩渗样的-0.5133%·℃^(-1)。磁体显微组织结构的改善以及成分分布的优化,是晶界扩散处理后磁体矫顽力和耐热性得以改善的最主要原因。 展开更多
关键词 共溅射 热扩渗 烧结NDFEB 磁性能 耐热性能
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Conversion of magnetron-sputtered sacrificial intermediate layer into a stable FeCo-LDH catalyst for oxygen evolution reaction
11
作者 Zhiquan Lang Guang-Ling Song +4 位作者 Xingpeng Liao Wenzhong Huang Yixing Zhu Haipeng Wang Dajiang Zheng 《Nano Research》 SCIE EI CSCD 2024年第5期4307-4313,共7页
Controllable and scalable preparation of electrocatalyst materials holds significant importance for their practical application.Magnetron sputtering is a highly effective synthesis method,known for its producing unifo... Controllable and scalable preparation of electrocatalyst materials holds significant importance for their practical application.Magnetron sputtering is a highly effective synthesis method,known for its producing uniform films and allowing easy control of component compositions.In this paper,we propose an in-situ synthesis method for layered double hydroxide(LDH)electrocatalysts through sacrificing magnetron sputtered films.The resulting FeCo-LDH catalyst demonstrated a low overpotential of only 300 mV at 10 mA·cm^(-2).Furthermore,we conducted spectroscopic analysis to investigate the surface changes of the catalysts during the oxygen evolution reaction(OER)process.Our findings indicated that the formation of Co oxyhydroxides plays a beneficial role in enhancing the catalytical performance of the FeCo-LDH for OER reaction.This restructuring strategy of converting a magnetron-sputtered sacrificial film into a catalytical LDH introduces a new avenue to the synthesis of transition metal-based electrocatalysts. 展开更多
关键词 magnetron co-sputtering surface reconstruction ELECTROCATALYST oxygen evolution reaction
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硒化技术对CuInSe_2薄膜表面形貌和晶相的影响 被引量:4
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作者 李健 朱洁 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期574-582,共9页
以共溅射法制备的Cu-In预制膜为衬底材料,以硒粉为原料,尝试了几种特殊的硒化方案,包括单源硒化法、双源硒化法、表面喷粉硒化法、分步硒化退火和同步硒化退火等5种具有代表性和创新性的方案,研究了硒源的摆放方式、升温方法对薄膜质量... 以共溅射法制备的Cu-In预制膜为衬底材料,以硒粉为原料,尝试了几种特殊的硒化方案,包括单源硒化法、双源硒化法、表面喷粉硒化法、分步硒化退火和同步硒化退火等5种具有代表性和创新性的方案,研究了硒源的摆放方式、升温方法对薄膜质量的影响,比较了不同方法制备的CuInSe2(CIS)薄膜在形貌、成分、相结构等方面的异同.系统地分析了硒化温度、退火温度和退火时间对CuInSe2薄膜成分的影响,研究了各元素的百分含量随硒化退火条件的变化规律,为更准确地把握CIS薄膜的成分和相结构提供有益的借鉴. 展开更多
关键词 Cu-In预置膜 共溅射 硒化 CIS膜
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衬底温度对共溅射制备AZO薄膜光电性能影响 被引量:5
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作者 何双赐 钟志成 +1 位作者 汪竞阳 魏彦锋 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 2018年第5期784-788,共5页
以Al金属和ZnO陶瓷作为溅射靶材,采用直流和射频双靶磁控共溅射的方法在玻璃衬底上制备Al掺杂ZnO(AZO)透明导电薄膜,采用X线光电子能谱仪、X线衍射(XRD)仪、扫描电子显微镜、原子力显微镜、紫外-可见分光光度计和霍耳效应测试仪对薄膜... 以Al金属和ZnO陶瓷作为溅射靶材,采用直流和射频双靶磁控共溅射的方法在玻璃衬底上制备Al掺杂ZnO(AZO)透明导电薄膜,采用X线光电子能谱仪、X线衍射(XRD)仪、扫描电子显微镜、原子力显微镜、紫外-可见分光光度计和霍耳效应测试仪对薄膜的微观形貌结构及光电性能进行了表征和分析,探究了不同衬底温度对薄膜光电性能的影响。结果表明,所制备的AZO薄膜均具有c轴取向生长的六角纤锌矿结构,在衬底温度为300℃时AZO薄膜结晶质量最好,电阻率最低(为1.43×10-3Ω·cm)。所有样品薄膜在380~780nm区间平均透过率大于90%,随着衬底温度的升高,AZO薄膜的吸收边出现了蓝移。 展开更多
关键词 Al掺杂ZnO(AZO)薄膜 共溅射 衬底温度 光电性能 蓝移
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CeO_2掺杂TiO_2催化剂薄膜的制备与表征 被引量:4
14
作者 郑树凯 潘锋 +3 位作者 王金良 郝维昌 张俊英 王天民 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第11期22-24,共3页
以 Ar为工作气体 ,O2 为反应气体 ,利用射频磁控溅射技术成功地在载玻片上沉积了透明 Ti O2 催化剂薄膜。同时利用共溅射技术制备了掺杂 Ce O2 的 Ti O2 催化剂薄膜。采用 X射线衍射 (XRD)、Raman光谱、UV- VIS- NIR分光光度计、原子力... 以 Ar为工作气体 ,O2 为反应气体 ,利用射频磁控溅射技术成功地在载玻片上沉积了透明 Ti O2 催化剂薄膜。同时利用共溅射技术制备了掺杂 Ce O2 的 Ti O2 催化剂薄膜。采用 X射线衍射 (XRD)、Raman光谱、UV- VIS- NIR分光光度计、原子力显微镜 (AFM) 展开更多
关键词 TIO2 薄膜 CEO2 掺杂 共溅射
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Magnetron co-sputtering synthesis and nanoindentation studies of nanocrystalline(TiZrHf)_(x)(NbTa)_(1–x)high-entropy alloy thin films 被引量:4
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作者 Changjun Cheng Xiaofu Zhang +1 位作者 Michel J.R.Haché Yu Zou 《Nano Research》 SCIE EI CSCD 2022年第6期4873-4879,共7页
Refractory high-entropy alloys(HEAs)possess many useful properties such as high strength and high-temperature stability.So far,most studies on refractory HEAs have been limited to a few well-known compositions and on ... Refractory high-entropy alloys(HEAs)possess many useful properties such as high strength and high-temperature stability.So far,most studies on refractory HEAs have been limited to a few well-known compositions and on their coarse-grain bulk forms.Here we fabricate nanocrystalline(TiZrHf)_(x)(NbTa)_(1−x)HEA thin films with a large range of compositions(x=0.07–0.90)by the direct current(DC)magnetron co-sputtering technique and measure their mechanical properties using the nanoindentation method.All the as-deposited HEA thin films show a solid-solution body-centered cubic(bcc)structure.As the compositional ratio(x)increases,the elastic modulus decreases from 153 to 123 GPa,following the trend of the rule of mixture.As x increases,the hardness first decreases from 6.5 GPa(x=0.07)to the lowest value(4.6 GPa,x=0.48)and then increases to the highest value(7.1 GPa,x=0.90),showing a concave trend.The change in hardness might be attributed to the combinational influence caused by the atomic size and modulus effects,as well as the texture effect.The authors also propose a few open questions for future studies on this and related HEA systems. 展开更多
关键词 high-entropy alloys nanocrystalline alloys refractory metals thin films magnetron co-sputtering NANOINDENTATION
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Si掺杂Ag基超分辨薄膜读出性能研究 被引量:5
16
作者 赵石磊 耿永友 施宏仁 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第6期297-302,共6页
超分辨薄膜是一种能够实现突破光学衍射极限的功能薄膜,它在超分辨近场光存储技术中起到至关重要的作用。采用磁控溅射共溅的方式制备了Ag掺杂一定量Si的超分辨复合薄膜,测试了其作为掩膜层的超分辨光盘读出性能,并获得了最佳的薄膜制... 超分辨薄膜是一种能够实现突破光学衍射极限的功能薄膜,它在超分辨近场光存储技术中起到至关重要的作用。采用磁控溅射共溅的方式制备了Ag掺杂一定量Si的超分辨复合薄膜,测试了其作为掩膜层的超分辨光盘读出性能,并获得了最佳的薄膜制备条件,即当Ag溅射功率为55 W,Si为95 W,溅射时间为80s,薄膜厚度为39nm时,超分辨光盘的读出信号载噪比(CNR)最高为28dB。用X射线光电子能谱测量了上述薄膜的组成,用扫描电子显微镜观察了薄膜微区形貌,并用椭圆偏振光谱仪测量了薄膜的光学常数和厚度。超分辨复合薄膜的读出机理可以用Ag的散射型机理解释。光盘在持续读出10万次以后读出信号基本没有下降。 展开更多
关键词 光存储 超分辨薄膜 共溅 载噪比 稳定性
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一种崭新的镀膜技术——等离子体束溅射 被引量:3
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作者 M.J.Thwaites 方立武 王晓伟 《真空》 CAS 北大核心 2005年第1期43-45,共3页
详细描述一种等离子体高效溅射系统及应用工艺。此种崭新的溅射技术结合了蒸发镀的高效及溅射镀的高性能特点,特别在多元合金以及磁性薄膜的制备,具有其他手段无可比拟的优点。
关键词 高利用率等离子体溅射 共溅射 汇聚线圈
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Amorphous germanium-crystalline bismuth films as a promising anode for magnesium-ion batteries
18
作者 Zhonghua Zhang Meijia Song +2 位作者 Conghui Si Wenrun Cui Yan Wang 《eScience》 2023年第1期45-52,共8页
Magnesium-ion batteries(MIBs)are promising alternatives to lithium-ion batteries due to their safety and high theoretical specific capacity,and the abundance of magnesium reserves.However,their anodes and electro-lyte... Magnesium-ion batteries(MIBs)are promising alternatives to lithium-ion batteries due to their safety and high theoretical specific capacity,and the abundance of magnesium reserves.However,their anodes and electro-lytes severely restrict the development of MIBs,so alloy-type anodes provide an effective strategy to circum-vent the surface passivation issue encountered with Mg metal in conventional electrolytes.Theoretically,a germanium anode can deliver a high specific capacity of 1476 mAh g?1,but hitherto,no experimental reports have described Ge in MIBs.Herein,we experimentally verified that Ge could reversibly react with Mg 2þions through the design of dual-phase Ge–Bi film electrodes fabricated by magnetron co-sputtering.Notably,a Ge 57 Bi 43 electrode delivered a high specific capacity of 847.5 mAh g?1,owing to the joint alloying reactions of Ge and Bi with Mg,which was much higher than the specific capacity of Bi(around 385 mAh g?1).Moreover,the Ge–Bi anode showed excellent rate performance,good cycling stability,and superior compatibility with conventional electrolytes such as Mg(TFSI)2.More importantly,the Mg storage mechanism of the Ge–Bi anode was unveiled by operando X-ray diffraction,and density functional theory calculations rationalized that the introduction of Bi to form Ge–Bi evidently decreased the defect formation energy and effectively boosted the electrochemical reactivity of Ge with Mg. 展开更多
关键词 Magnesium-ion batteries Alloy-type anodes Operando X-ray diffraction Density functional theory calculations Magnetron co-sputtering
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基于不同溅射方法制备铜锌锡硫薄膜及太阳电池 被引量:3
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作者 徐信 蒋志 +2 位作者 李志山 陆熠磊 王书荣 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第7期1011-1020,共10页
采用共溅射及分步溅射方法在涂钼的钠钙玻璃衬底上分别形成金属预制层,先后在低温及高温下对金属预制层进行合金后硫化,制备了铜锌锡硫(Cu2Zn SnS4,CZTS)薄膜。研究了薄膜的晶体结构、表面和截面形貌、元素组分、薄膜中的相纯度及元... 采用共溅射及分步溅射方法在涂钼的钠钙玻璃衬底上分别形成金属预制层,先后在低温及高温下对金属预制层进行合金后硫化,制备了铜锌锡硫(Cu2Zn SnS4,CZTS)薄膜。研究了薄膜的晶体结构、表面和截面形貌、元素组分、薄膜中的相纯度及元素的化学状态。结果表明:共溅射预制层得到的CZTS薄膜的表面及截面形貌优于分步溅射预制层得到的CZTS薄膜。用紫外-可见分光光度计与Hall测试系统表征了CZTS薄膜的光电特性,发现在200℃退火15 h能有效降低CZTS薄膜的缺陷态密度,增加CZTS薄膜中的载流子迁移率和扩散系数。研究结果表明,采用共溅射制备CZTS薄膜太阳电池性能优于分步溅射法,且经过退火处理的CZTS薄膜制备的电池特性均得到有效提高。基于分步溅射法制备的CZTS吸收层制备的电池开路电压为722 m V,短路电流密度为11.2 mA/cm2,最高转换效率为3.22%;基于共溅射法制备的CZTS吸收层制备的电池开路电压为637 m V,短路电流密为15.0 mA/cm2,最高转换效率为3.88%。 展开更多
关键词 铜锌锡硫薄膜 共溅射 分步溅射 太阳电池 硫化
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Wear Resistance of TiN_x/CF_y Coatings Deposited by RF Magnetron Co-Sputtering 被引量:2
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作者 Lin Zhu Jinwu Wang Zhuang Liu 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第12期1207-1216,共10页
TiN x/CF y composite coatings were prepared by RF magnetron co-sputtering using twin cylindrical tube targets with Ar and N 2 mixtures.The composition of the coatings deposited at various positions was analyzed by X-r... TiN x/CF y composite coatings were prepared by RF magnetron co-sputtering using twin cylindrical tube targets with Ar and N 2 mixtures.The composition of the coatings deposited at various positions was analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) and Rutherford back-scattering spectrometry(RBS).The results revealed that the composition of the deposited coatings has a wide range of TiN x and CFy contents at different deposition positions,which leads to different structures and performances.The hardness of the composite coatings increases from 32 to 1603 HV with increasing the TiN x concentration.The static contact angle of water ranges from 20° to 102° and decreases upon the incorporation of more TiN x into the CF y polymer.The presence of the CF y groups enhances the contact angle between the coating and the solutions dropped onto it,which could effectively protect the coating from corrosion and improve the wear resistance properties in high relative humidity(RH).The brittleness of the coatings decreases due to the softness of the CF y component,which can bear most of the load and result in less probability of crack formation.XPS results demonstrate the existence of a Ti-(C N) chemical bond in the composite coatings,which improves the wear resistance of the coatings.It is indicated that the wear resistance of the TiN x/CF y coatings is independent of the hardness.However,these properties depend on the uniform structure and the existence of chemical bonding between the TiN x and CF y phases.Moreover,a specific ratio between the soft CF y phase and the hard TiN x phase can produce coatings with good wear resistance. 展开更多
关键词 TiNx/CFy composite coatings Magnetron co-sputtering Wear resistance
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