玻璃基TiN及Ti／TiN薄膜的磁控溅射法制备及其显微硬度

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摘要用磁控溅射方法在玻璃基片上制备了TiN及Ti／TiN薄膜，研究了氮气与氩气流量比、沉积时间、靶功率和基片台温度对TiN及Ti／TiN薄膜显微硬度的影响，用XRD对薄膜的物相进行了分析，用SEM观察了薄膜的表面形貌，制备出了显微硬度／HV为1097．433的Ti／TiN薄膜。讨论了Ti／TiN薄膜显微硬度提高机理。

作者赵青南武刚董玉红

机构地区武汉理工大学江苏秀强玻璃工艺股份有限公司

出处《建筑玻璃与工业玻璃》 2013年第7期19-21,共3页 Architectural Glass and Functional Glass

关键词磁控溅射 TIN薄膜 Ti TIN薄膜显微硬度

分类号 O484.43 [理学—固体物理]

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