在N2气中进行硅的快速热处理制备超薄SiOxNy膜
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1曾天亮,陈平,江志庚,李志彭.PECVD SiON膜的性质及其在双层互连工艺中的应用[J].Journal of Semiconductors,1992,13(6):386-390. 被引量:2
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2陈蒲生,杨光有.雪崩热电子注入对快速热氮化的SiO_xN_y膜陷阱的影响[J].Journal of Semiconductors,1991,12(7):405-411. 被引量:4
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3杨继业,姚毅.一种提高SONOS Flash产品VTP/VTE窗口的方法[J].集成电路应用,2017,34(3):44-49.
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4刘世祥,朱美芳,石万全,刘渝珍,韩一琴,刘金龙,陈国,孙景兰,陈培毅,唐勇.发蓝绿光纳米硅薄膜的快速热处理制备[J].发光学报,1998,19(3):212-215.
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5练晓娟,杨鑫,刘尚军,陈金伟,王瑞林.溶胶-凝胶法及热处理制备β-Bi_2O_3薄膜[J].材料保护,2013,46(S1):62-64. 被引量:1
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6吕志军,胡明,陈涛,后顺保,梁继然,栗力.磁控溅射结合快速热处理制备相变氧化钒薄膜[J].微纳电子技术,2012,49(1):27-32. 被引量:5
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7蔡雅楠,崔灿,沈洪磊,梁大宇,李培刚,唐为华.热处理对富硅氧化硅薄膜中硅纳米晶形成的影响[J].物理学报,2012,61(15):494-499. 被引量:1
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8沈鸿烈,高超,黄海宾.真空热处理制备β-FeSi2光电薄膜的研究[J].功能材料,2007,38(A01):370-372. 被引量:1
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9材料[J].电子科技文摘,2000(1):7-7.
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10韩菲,李健.稀土Dy掺杂对ZnO,CdO和SnO_2薄膜性能的影响[J].半导体技术,2014,39(12):936-942. 被引量:2