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薄膜的力学测试技术 被引量:41
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作者 陈隆庆 赵明暤 张统一 《机械强度》 CAS CSCD 北大核心 2001年第4期413-429,共17页
对薄膜力学性能的测试方法。
关键词 薄膜 力学性能 残余应力 弹性模量 强度 硬度 纳米压痕 压痕断裂法 微悬臂梁 鼓膜试验 MEMS
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金属薄膜电阻率与表面粗糙度、残余应力的关系 被引量:24
2
作者 唐武 邓龙江 +1 位作者 徐可为 Jian LU 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期617-620,共4页
针对磁控溅射Au金属薄膜,从实验角度研究了该薄膜电阻率与表面粗糙度、残余应力的关系,并对结果进行了分析。结果表明:薄膜电阻率随着表面粗糙度及残余应力的增加而增大。分析认为,晶体取向可能在金属薄膜力学性能和功能性之间有某种联... 针对磁控溅射Au金属薄膜,从实验角度研究了该薄膜电阻率与表面粗糙度、残余应力的关系,并对结果进行了分析。结果表明:薄膜电阻率随着表面粗糙度及残余应力的增加而增大。分析认为,晶体取向可能在金属薄膜力学性能和功能性之间有某种联系,并从应变能角度给予了解释。该结果为进一步探讨薄膜力学性能和功能特性的内在关系提供了研究基础。 展开更多
关键词 金属薄膜 电阻率 表面粗糙度 残余应力
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MEMS薄膜中的残余应力问题 被引量:17
3
作者 朱长纯 赵红坡 +1 位作者 韩建强 崔万照 《微纳电子技术》 CAS 2003年第10期30-34,共5页
在制造微电子机械系统(MEMS)的器件的过程中,通常要进行高温的薄膜淀积或生长,因此薄膜中存在的残余应力很多情况下影响着器件结构的特性,有时甚至严重劣化器件的性能。本文以实例具体分析了薄膜残余应力的影响,并介绍了残余应力的起源... 在制造微电子机械系统(MEMS)的器件的过程中,通常要进行高温的薄膜淀积或生长,因此薄膜中存在的残余应力很多情况下影响着器件结构的特性,有时甚至严重劣化器件的性能。本文以实例具体分析了薄膜残余应力的影响,并介绍了残余应力的起源、产生机制以及控制。 展开更多
关键词 MEMS 薄膜 残余应力 微电子机械系统 产生机制
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河南省典型覆膜作物地膜残留状况及其影响因素研究 被引量:15
4
作者 郭战玲 张薪 +3 位作者 寇长林 杨占平 张香凝 李太魁 《河南农业科学》 CSCD 北大核心 2016年第12期58-61,71,共5页
2011 -2 0 1 4 年采用问卷调查及取样检测方法对河南省典型覆膜作物(花生、棉花)地膜残留状况进行系统调查,分析其影响因素,并通过定点试验监测方法研究地膜残留系数,以期为河南省地膜残留防治提供参考.结果表明,河南省花生、棉花覆... 2011 -2 0 1 4 年采用问卷调查及取样检测方法对河南省典型覆膜作物(花生、棉花)地膜残留状况进行系统调查,分析其影响因素,并通过定点试验监测方法研究地膜残留系数,以期为河南省地膜残留防治提供参考.结果表明,河南省花生、棉花覆膜种植区土壤耕层地膜残留量为6.8 ~37 . 3 kg/ hm^2,平均值为2 0 . 4 kg/ hm^2.花生地块地膜平均残留量为2 4 . 9 kg/ hm^2,棉花地块为13.5kg/ hm^2.不同取样点地膜残留量存在明显差异,主要与作物类型、地膜用量、覆膜比例、覆膜年限、土壤质地及回收情况有关,地膜用量越大、覆膜比例越高、覆膜年限越长,地膜回收率越低,地膜残留污染的风险越大;棉花地块的地膜残留量明显低于花生地块.花生和棉花地块的地膜残留系数分别为0 . 7 1 % 和1. 1 1 % .目前,河南省花生、棉花覆膜种植区地膜污染状况较轻,但如果不注重地膜回收工作,残留量会逐年增加,成为地膜残留污染区域. 展开更多
关键词 地膜 花生 棉花 残留系数
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悬臂梁法测量不锈钢基体上铜膜和银膜残余应力 被引量:9
5
作者 任凤章 周根树 +2 位作者 赵文轸 胡志忠 郑茂盛 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期478-480,共3页
用悬臂梁法研究了不锈钢4Cr13基体上的Cu膜和Ag膜的平均残余应力和残余应力分布。结果表明,Cu膜和Ag膜的平均残余应力和分布残余应力随膜厚的增加而急剧减小。2种膜生长过程中界面应力很大,而生长应力很小。Cu膜在厚度较小时,残余应力... 用悬臂梁法研究了不锈钢4Cr13基体上的Cu膜和Ag膜的平均残余应力和残余应力分布。结果表明,Cu膜和Ag膜的平均残余应力和分布残余应力随膜厚的增加而急剧减小。2种膜生长过程中界面应力很大,而生长应力很小。Cu膜在厚度较小时,残余应力值很大,超过了铜块材的断裂强度。 展开更多
关键词 悬臂梁法 薄膜 残余应力 界面应力 生长应力
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会宁县农田地膜使用与残留污染调查研究 被引量:14
6
作者 任稳江 刘生学 +4 位作者 李耀辉 任亮 李国华 赵仰徽 李城德 《甘肃农业科技》 2016年第1期56-62,共7页
为了摸清会宁县农田地膜残留状况,依据生态区域及地膜应用特点,进行了会宁县地膜残留现状调查。结果表明,会宁县农田都有不同程度的地膜残留污染,地膜残留量为12.45~211.05 kg/hm^2,且存在区域差异。其污染程度受人为作用、种植作物、... 为了摸清会宁县农田地膜残留状况,依据生态区域及地膜应用特点,进行了会宁县地膜残留现状调查。结果表明,会宁县农田都有不同程度的地膜残留污染,地膜残留量为12.45~211.05 kg/hm^2,且存在区域差异。其污染程度受人为作用、种植作物、地膜厚度、利用次数等因素的影响。 展开更多
关键词 农田 地膜 残留污染 调查 会宁县
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金刚石薄膜残余应力的X射线透射测量法 被引量:7
7
作者 朱宏喜 毛卫民 冯惠平 《物理测试》 CAS 2005年第6期21-24,共4页
用X射线衍射透射法测量了不同沉积工艺CVD自支撑金刚石薄膜的残余应力,并对应力测试结果进行初步分析。与常规法相比,透射法直接测量薄膜表面不同方向的正应变,计算出正应力值,不需要复杂的转换计算,测量过程简捷、准确,克服了常规法的... 用X射线衍射透射法测量了不同沉积工艺CVD自支撑金刚石薄膜的残余应力,并对应力测试结果进行初步分析。与常规法相比,透射法直接测量薄膜表面不同方向的正应变,计算出正应力值,不需要复杂的转换计算,测量过程简捷、准确,克服了常规法的不足,有利于推动薄膜残余应力的研究。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 残余应力 X射线透射法
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厚度对TiN薄膜力学性能的影响 被引量:11
8
作者 赵升升 周晟昊 +2 位作者 余红雅 匡同春 曾德长 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第3期291-295,共5页
采用电弧离子镀方法制备了不同厚度TiN薄膜,并对其硬度、结合力、残余应力、摩擦磨损特性等力学性能进行了系统性研究,以揭示硬质薄膜厚度对其力学性能的影响规律。结果表明,随着厚度增加,薄膜表面大颗粒增加,膜基界面剪切力增大,薄膜... 采用电弧离子镀方法制备了不同厚度TiN薄膜,并对其硬度、结合力、残余应力、摩擦磨损特性等力学性能进行了系统性研究,以揭示硬质薄膜厚度对其力学性能的影响规律。结果表明,随着厚度增加,薄膜表面大颗粒增加,膜基界面剪切力增大,薄膜硬度逐渐增加,结合力逐渐下降,摩擦系数略有下降;而薄膜应力沿层深分布趋势基本一致,都呈钟罩形分布;磨损率随薄膜厚度变化不大,即薄膜越厚越耐磨。 展开更多
关键词 硬质薄膜 力学性能 薄膜厚度 TIN 残余应力
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关于农田废旧地膜机械化回收及综合利用的建议 被引量:11
9
作者 石鑫 杨豫新 牛长河 《新疆农机化》 2022年第1期40-42,共3页
地膜覆盖栽培在保质增收的同时带来了严重的“白色污染”,机械化回收和地膜除杂再利用已成为农膜污染治理的必要环节。本文论述了现阶地膜机械化回收与废旧地膜综合利用存在的问题,提出应用“控增量,减存量”的治理策略,简述了地膜回收... 地膜覆盖栽培在保质增收的同时带来了严重的“白色污染”,机械化回收和地膜除杂再利用已成为农膜污染治理的必要环节。本文论述了现阶地膜机械化回收与废旧地膜综合利用存在的问题,提出应用“控增量,减存量”的治理策略,简述了地膜回收、分离除杂及资源化利用设备的优劣并提出相关建议,以期为农田地膜综合利用率提供参考。 展开更多
关键词 新疆 残膜 污染 回收 资源化利用
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硅基底多层薄膜结构材料残余应力的微拉曼测试与分析 被引量:10
10
作者 邓卫林 仇巍 +2 位作者 焦永哲 张青川 亢一澜 《实验力学》 CSCD 北大核心 2012年第1期1-9,共9页
针对MEMS器件制备中两种典型的硅基底多层薄膜结构的残余应力问题,本文提出了利用微拉曼光谱技术测量其残余应力的方法,分析并给出了硅基底多层薄膜结构中的残余应力分布规律。实验结果表明,在硅基底和薄膜内存在较大的工艺残余应力,残... 针对MEMS器件制备中两种典型的硅基底多层薄膜结构的残余应力问题,本文提出了利用微拉曼光谱技术测量其残余应力的方法,分析并给出了硅基底多层薄膜结构中的残余应力分布规律。实验结果表明,在硅基底和薄膜内存在较大的工艺残余应力,残余应力在基底内靠近薄膜两侧部分呈非线性变化,在基底内主要呈线性变化,并引起基底整体翘曲。基于实验结果分析,提出了硅基底多层薄膜结构的分层结构模型。本文工作表明微拉曼光谱技术是测量与研究硅基底多层薄膜结构残余应力的一种有力手段。 展开更多
关键词 多层薄膜 硅基底 残余应力 分层结构模型 微拉曼光谱
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Effect of Residual Stress on the Corrosion Behavior of Austenitic Stainless Steel 被引量:8
11
作者 Osamu Takakuwa Hitoshi Soyama 《Advances in Chemical Engineering and Science》 2015年第1期62-71,共10页
In this paper we demonstrate that the residual stress introduced by several different surface finishes affects the critical current density for passivation and the passive current density in the anodic polarization cu... In this paper we demonstrate that the residual stress introduced by several different surface finishes affects the critical current density for passivation and the passive current density in the anodic polarization curve of austenitic stainless steel and that those critical current densities can be reduced by controlling the residual stress by applying a cavitating jet to the backs of specimens. The results show that the current density either increased or decreased depending on the surface finish, and that was decreased by introducing compressive residual stress for all surface finishes. 展开更多
关键词 residual Stress Corrosion PASSIVE film Plarization STAINLESS Seel
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调制比对HiPIMS制备多层DLC薄膜耐腐蚀性能的影响 被引量:9
12
作者 贾昆鹏 王雪 +3 位作者 徐锋 施莉莉 赵延超 左敦稳 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第2期35-40,共6页
为获得具备优异耐腐蚀性能的类金刚石(DLC)涂层,采用高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)在硅片表面制备软(低sp3含量)硬(高sp3含量)交替多层类金刚石薄膜,探究调制比对薄膜耐腐蚀性能的影响。采用XPS、四探针电阻仪、轮廓仪对薄膜成分、电... 为获得具备优异耐腐蚀性能的类金刚石(DLC)涂层,采用高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)在硅片表面制备软(低sp3含量)硬(高sp3含量)交替多层类金刚石薄膜,探究调制比对薄膜耐腐蚀性能的影响。采用XPS、四探针电阻仪、轮廓仪对薄膜成分、电阻率、残余应力进行检测分析,通过电化学测试获得多层DLC薄膜的极化曲线。结果表明:相较于低衬底偏压(-25 V)下沉积的纯软DLC薄膜,高衬底偏压(-75 V)下沉积的纯硬DLC薄膜sp3含量明显升高;纯软薄膜电阻率为100.53 kΩ·cm,纯硬DLC薄膜电阻率高达1585.21 kΩ·cm,电阻率随着硬膜厚度的增加而增加;薄膜中残余应力随着调制比(软∶硬)的减小而上升,纯硬DLC薄膜残余应力为0.943 GPa,而纯软薄膜残余应力仅为0.095 GPa。电化学试验结果显示,调制比为1∶2的多层DLC薄膜自腐蚀电位为-0.014 V,自腐蚀电流密度为36.6 n A/cm2,具有相对最佳的耐腐蚀性能。 展开更多
关键词 DLC薄膜 软硬交替 调制比 电阻率 残余应力 耐腐蚀性
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磁控溅射Cu膜的织构与残余应力 被引量:8
13
作者 赵海阔 雒向东 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第2期150-152,164,共4页
用磁控溅射工艺在不同沉积温度制备200 nm与2μm厚的Cu膜,并用X射线衍射仪(XRD)与光学相移方法测量薄膜织构与残余应力。结果表明,对于200 nm厚Cu膜,随着沉积温度T增加,晶粒取向组成几乎保持不变,薄膜具有较低拉应力且不断减小;而对于2... 用磁控溅射工艺在不同沉积温度制备200 nm与2μm厚的Cu膜,并用X射线衍射仪(XRD)与光学相移方法测量薄膜织构与残余应力。结果表明,对于200 nm厚Cu膜,随着沉积温度T增加,晶粒取向组成几乎保持不变,薄膜具有较低拉应力且不断减小;而对于2μm厚Cu膜,随着T增加,Cu〈111〉/Cu〈200〉晶粒取向组成比值急剧减小,薄膜具有较大的拉应力且不断减小。根据表面能、应变能及缺陷形成等机制对薄膜残余应力与织构的演化特征进行了分析。 展开更多
关键词 铜膜 织构 残余应力 沉积温度
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多晶硅薄膜残余应力显微拉曼谱实验分析 被引量:7
14
作者 吴昊 孟永钢 +2 位作者 苏才钧 郭占社 温诗铸 《机械强度》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期233-236,共4页
利用显微拉曼谱对桥式多晶硅薄膜梁的残余应力进行测量,该多晶硅薄膜采用典型的MEMS(micro-electro-mechanical systems)工艺制造。实验结果表明,多晶硅薄膜梁的中部存在很大的拉伸残余应力(约1GPa),且多晶硅薄膜的残余应力沿梁长方向... 利用显微拉曼谱对桥式多晶硅薄膜梁的残余应力进行测量,该多晶硅薄膜采用典型的MEMS(micro-electro-mechanical systems)工艺制造。实验结果表明,多晶硅薄膜梁的中部存在很大的拉伸残余应力(约1GPa),且多晶硅薄膜的残余应力沿梁长方向大致呈对称分布,这种内应力分布与制造过程中的ICP(inductively-coupled plasma)工艺密切相关。多晶硅薄膜梁在残余应力作用下的变形情况可以通过WYKO白光形貌仪准确地表征,经过ANSYS计算,薄膜残余应力分布状况与显微拉曼谱法的测量结果吻合。因而,显微拉曼谱法是测量多晶硅薄膜残余应力的一种准确而可靠的方法。 展开更多
关键词 拉曼谱 多晶硅 薄膜 残余应力
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硬度合金基体上CVD金刚石薄膜的形态表征 被引量:8
15
作者 匡同春 刘正义 +3 位作者 周克崧 代明江 王德政 张宁冯碧 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第1期89-92,共4页
采用SEM、Raman光谱、XRD等测试方法,对直流等离子体射流CVD法在硬质合金基体上合成的金刚石膜进行了形貌和结构分析。结果表明,该方法合成的金刚石膜形貌和质量受基体表面上的温度梯度、化学物质(原子氢、碳氢基团等... 采用SEM、Raman光谱、XRD等测试方法,对直流等离子体射流CVD法在硬质合金基体上合成的金刚石膜进行了形貌和结构分析。结果表明,该方法合成的金刚石膜形貌和质量受基体表面上的温度梯度、化学物质(原子氢、碳氢基团等)浓度梯度的影响较大。膜层内存在GPa数量级的残余压应力,微观应力很小。嵌镶块尺寸为纳米数量级,且随甲烷浓度增高而减小,由此而估算的位错密度统计平均值达1010cm-2数量级。综合XRD和Raman光谱结果。 展开更多
关键词 CVD 金刚石膜 薄膜 硬质合金
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用基片曲率法测量薄膜应力 被引量:6
16
作者 安兵 张同俊 +1 位作者 袁超 崔昆 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2003年第7期13-15,共3页
 采用基片曲率法设计和制作了一种测量薄膜应力的装置,它具有简单、无损伤、快速、易于操作、精度高的优点。使用该装置测量了射频磁控溅射镀制的Cu单层膜和Ag/Cu多层膜的应力,结果表明薄膜残余应力是均匀的,但随沉积条件不同而不同。C...  采用基片曲率法设计和制作了一种测量薄膜应力的装置,它具有简单、无损伤、快速、易于操作、精度高的优点。使用该装置测量了射频磁控溅射镀制的Cu单层膜和Ag/Cu多层膜的应力,结果表明薄膜残余应力是均匀的,但随沉积条件不同而不同。Cu单层膜和Ag/Cu多层膜处于压应力状态,外加-200V偏压时,Ag/Cu多层膜则转变为很小的拉应力状态。XRD表明Ag/Cu多层膜已结晶,呈现Ag(111)/Cu(111)择优取向。 展开更多
关键词 基片曲率法 薄膜 残余应力
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农用地膜残留及其防治技术研究 被引量:7
17
作者 蔡子睿 杨相龙 +2 位作者 刘人杰 吴腾 黄碧捷 《绿色科技》 2020年第24期89-91,共3页
农用地膜残留是当前农田环境污染与生态破坏的重大议题之一,随着我国《农用薄膜管理办法》的正式实施,农田残膜污染治理和资源化回收利用必将得到广泛的发展。结合文献研究和实践的方法,对农用地膜利用方式、残留量的影响因素、残膜形... 农用地膜残留是当前农田环境污染与生态破坏的重大议题之一,随着我国《农用薄膜管理办法》的正式实施,农田残膜污染治理和资源化回收利用必将得到广泛的发展。结合文献研究和实践的方法,对农用地膜利用方式、残留量的影响因素、残膜形态分布和利用措施进行了综述,以期为我国农用地膜残留防治技术实践提供参考。 展开更多
关键词 农用地膜 残膜量 防治技术
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基片曲率法在多孔硅薄膜残余应力检测中的应用 被引量:7
18
作者 邸玉贤 计欣华 +2 位作者 胡明 秦玉文 陈金龙 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第10期5451-5454,共4页
通过基底曲率法设计和制作了一种测量薄膜应力的装置,它具有全场性、非接触性、高分辨率、无破坏、数据获取速度快等特点.使用该装置测量了电化学腐蚀法制作的多孔硅薄膜的残余应力,并研究了孔隙率和基底掺杂浓度对残余应力的影响,结果... 通过基底曲率法设计和制作了一种测量薄膜应力的装置,它具有全场性、非接触性、高分辨率、无破坏、数据获取速度快等特点.使用该装置测量了电化学腐蚀法制作的多孔硅薄膜的残余应力,并研究了孔隙率和基底掺杂浓度对残余应力的影响,结果表明随着孔隙率的增加和硼离子掺杂浓度的提高,多孔硅表面的拉伸应力逐渐加大,由此表明多孔硅薄膜的微观结构与残余应力的大小有着密切的联系. 展开更多
关键词 薄膜 残余应力 孔隙率 多孔硅
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残膜污染调研及机械化回收装备 被引量:7
19
作者 侯书林 张佳喜 +1 位作者 谢建华 王旭峰 《新疆农机化》 2016年第5期12-14,共3页
文中阐述了地膜覆盖技术及残膜污染现状,重点统计了新疆部分地区地膜残留量,分析了残膜回收机械存在的主要技术问题,并介绍了中国农业大学工学院在残膜机械化回收技术与装备上的研究成果,对今后残膜污染回收治理提出了建议。
关键词 地膜 覆盖 残留量 机械化回收 技术 装备
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物理气相沉积薄膜应力产生机理的理论分析 被引量:6
20
作者 房永思 唐武 +2 位作者 翁小龙 邓龙江 徐可为 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第12期1959-1961,共3页
在一维线性谐振子模型基础上,应用薛定谔方程分析了晶体中原子的概率分布;将晶体中原子的概率分布定义为原子云,解释了物理气相沉积法制备薄膜时残余应力产生的原因,建立了薄膜残余应力产生机理的理论模型。
关键词 薛定谔方程 原子云 薄膜 残余应力
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