真空技术及应用系列讲座第十八讲真空蒸发镀膜被引量：3

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摘要 1概述真空蒸发镀膜（简称蒸镀）是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质，使之汽化，蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。蒸镀是PVD技术中发展最早，应用较为广泛的镀膜技术，尽管后来发展起来的溅射镀和离子镀在许多方面要比蒸发镀优越，但真空蒸发镀膜技术仍有许多优点，如设备与工艺相对比较简单。

作者张以忱

机构地区东北大学

出处《真空》 CAS 2013年第1期95-96,共2页 Vacuum

关键词真空蒸发镀膜真空技术应用讲座镀膜技术 PVD技术真空条件固态薄膜

分类号 O484 [理学—固体物理] TB4 [理学—物理]

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