真空镀膜稳定性与均匀性研究被引量：3

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摘要真空镀膜的质量受多种因素的影响,镀膜工艺参数等诸多要素直接影响到真空镀膜的稳定性与均匀性。本文以真空蒸发镀膜和PECVD法为例,详细分析了影响镀膜稳定性与均匀性的工艺问题,希望对于实际真空镀膜工作质量的提供有所启发和帮助。

作者刘海勇刘丽娜高鹏

机构地区天津核工业理化工程研究院

出处《中国新技术新产品》 2015年第7期59-60,共2页 New Technology & New Products of China

关键词真空镀膜蒸发镀 PECVD 稳定性均匀性

参考文献4

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