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ICP-AES测定三甲基镓中痕量杂质 被引量:2

DETERMINATION OF IMPURITIES IN TRIMETHYLGALLIUM BY ICP AES
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摘要 本文建立了用ICP-AES测定三甲基镓中杂质Ca、Mg、Co、Ba、Cd、Ni、Li、Fe、Cu、Zn、Cr、Ti、V、Mo、Mn和Si等16种元素的方法。研究了样品的处理、基体镓对杂质元素的背景干扰、谱线干扰以及谱线强度的影响。检测限均小于1μg/g,测定的相对标准偏差小于1%。 In this article,it was reported that ICP AES was used to analyze impurities in trimethylgallium.Gallium matrix could not produce background and spectral overlapping interferences.
出处 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1997年第6期53-66,共14页 Spectroscopy and Spectral Analysis
关键词 ICP-AES 三甲基镓 砷化镓单晶薄膜 杂质 ICP AES, Trimethylgallium
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