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纳米金刚石薄膜的制备 被引量:8
1
作者 杨保和 崔建 +3 位作者 熊瑛 陈希明 孙大智 李翠平 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期625-627,共3页
采用微波等离子体化学气相沉积系统,利用氢气、甲烷、氩气和氧气为前驱气体,在直径为5 cm的(111)取向镜面抛光硅衬底上沉积出高平整度纳米金刚石薄膜。利用扫描电镜、X射线衍射谱和共焦显微显微拉曼光谱我们分析了薄膜的表面形貌和结构... 采用微波等离子体化学气相沉积系统,利用氢气、甲烷、氩气和氧气为前驱气体,在直径为5 cm的(111)取向镜面抛光硅衬底上沉积出高平整度纳米金刚石薄膜。利用扫描电镜、X射线衍射谱和共焦显微显微拉曼光谱我们分析了薄膜的表面形貌和结构特征。该薄膜平均粒径约为20 nm。X射线衍射谱分析表明该薄膜具有立方相对称(111)择优取向金刚石结构。在该薄膜一阶微显微拉曼光谱中,1332 cm-1附近微晶金刚石的一阶特征拉曼峰减弱消失,可明显观测到的三个拉曼散射峰分别位于1147 cm-1、1364 cm-1和1538 cm-1,与己报导的纳米金刚石拉曼光谱类似。该方法可制备出粒径约为20 nm粒度分布均匀致密具有较高含量的sp3键的纳米金刚石薄膜。 展开更多
关键词 纳米金刚石薄膜 微波等离子体化学气相沉积
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直流电弧等离子体喷射法高速制备高质量纳米金刚石膜研究 被引量:6
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作者 相炳坤 左敦稳 +1 位作者 李多生 陈荣发 《超硬材料工程》 CAS 2008年第5期1-4,共4页
利用直流电弧等离子体喷射法沉积装置在底径Ф65mm高5mm的Mo球面衬底上成功制备出纳米金刚石薄膜,文章研究了在稳定电弧状态下碳氢比对金刚石膜形貌的影响。通过扫描电子显微镜、原子力显微镜及Raman光谱对样品的晶粒尺寸及质量进行了... 利用直流电弧等离子体喷射法沉积装置在底径Ф65mm高5mm的Mo球面衬底上成功制备出纳米金刚石薄膜,文章研究了在稳定电弧状态下碳氢比对金刚石膜形貌的影响。通过扫描电子显微镜、原子力显微镜及Raman光谱对样品的晶粒尺寸及质量进行了表征。研究结果表明:在稳定电弧状态下,通过提高碳氢比可以在Mo球面衬底上的表面高速沉积出高质量的纳米金刚石薄膜,晶粒尺寸大约为4-80nm,平均粒径27.4nm。 展开更多
关键词 纳米金刚石膜 直流电弧等离子体喷射法 碳氢比
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双光束复合脉冲激光辐照沉积纳米金刚石薄膜 被引量:5
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作者 杨慧敏 任旭东 +2 位作者 郑腊梅 任乃飞 唐少雄 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期160-163,共4页
利用双光束复合脉冲激光辐照石墨悬浮液沉积技术,制备了高效率、高质量的纳米金刚石薄膜,成功解决了金刚石薄膜沉积不均匀和衬底温度对金刚石薄膜的影响。通过拉曼光谱仪和高分辨率透射电镜对薄膜的微观结构和组成进行了检测分析,实验... 利用双光束复合脉冲激光辐照石墨悬浮液沉积技术,制备了高效率、高质量的纳米金刚石薄膜,成功解决了金刚石薄膜沉积不均匀和衬底温度对金刚石薄膜的影响。通过拉曼光谱仪和高分辨率透射电镜对薄膜的微观结构和组成进行了检测分析,实验结果表明,Raman光谱的D峰出现在1334cm-1处,G峰出现在1571cm-1处,沉积的薄膜致密均匀,晶粒平均尺寸在5nm左右。在制备过程中通过复合激光束辅以温度为金刚石薄膜的生长提供了更有利的条件,并在常温常压下连续制备出了粒度分布均匀的纳米金刚石薄膜。 展开更多
关键词 薄膜 纳米金刚石薄膜 双光束脉冲激光沉积 衬底温度
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电泳沉积纳米金刚石涂层场发射阴极工艺研究 被引量:5
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作者 张艳阳 张志勇 +1 位作者 翟春雪 杨万昌 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2010年第1期119-121,125,共4页
采用电泳沉积(EPD)制备薄膜的方法,在金属钛片上均匀地涂覆纳米金刚石涂层,经真空热处理,制成场发射阴极。该文主要研究了不同的电泳液配方、电泳电压及电泳时间对涂层制备的影响。实验结果表明,粘度系数较大的电泳液及较低的电泳电压... 采用电泳沉积(EPD)制备薄膜的方法,在金属钛片上均匀地涂覆纳米金刚石涂层,经真空热处理,制成场发射阴极。该文主要研究了不同的电泳液配方、电泳电压及电泳时间对涂层制备的影响。实验结果表明,粘度系数较大的电泳液及较低的电泳电压下适当延长电泳时间有利于改善涂层的均匀性和致密性;典型样品开启电场为5.5 V/μm,在20 V/μm场强下的电流密度达到169μA/cm^2。发光测试表明,发光点密度较大且均匀分布,发光稳定,亮度较高。用X-射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对样品的成份及形貌进行了分析,结合其场发射测试结果,解释了样品性能的差异和变化。 展开更多
关键词 纳米金刚石涂层 场发射阴极 电泳沉积 薄膜
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微波等离子体下GaN的分解与纳米金刚石膜的沉积 被引量:3
5
作者 田寒梅 刘金龙 +3 位作者 陈良贤 魏俊俊 黑立富 李成明 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第1期7-12,共6页
采用微波等离子体化学气相沉积(microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD)技术系统地研究了GaN的分解机制。结果表明微波等离子体富氢环境促进了GaN的分解反应,分解过程由表面缺陷开始,向侧面扩展,最后沿氮极性面进行;氢等离... 采用微波等离子体化学气相沉积(microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD)技术系统地研究了GaN的分解机制。结果表明微波等离子体富氢环境促进了GaN的分解反应,分解过程由表面缺陷开始,向侧面扩展,最后沿氮极性面进行;氢等离子体中通入少量氮气能够显著抑制GaN的分解,在此基础上采用两步生长法成功实现在GaN上纳米金刚石膜的直接沉积。 展开更多
关键词 氮化镓 分解 微波等离子体化学气相沉积 纳米金刚石膜
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基于硅过渡层纳米金刚石膜/GaN复合膜系的制备(英文) 被引量:3
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作者 刘金龙 田寒梅 +3 位作者 陈良贤 魏俊俊 黑立富 李成明 《新型炭材料》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期518-524,共7页
本文研发了一种简便有效的在GaN半导体衬底上直接生长纳米金刚石膜的方法。研究发现,直接将GaN衬底暴露于氢等离子体中5 min即发生分解,且随着温度从560℃升高至680℃,这种分解反应愈加剧烈,很难在GaN衬底上直接形成结合力良好的纳米金... 本文研发了一种简便有效的在GaN半导体衬底上直接生长纳米金刚石膜的方法。研究发现,直接将GaN衬底暴露于氢等离子体中5 min即发生分解,且随着温度从560℃升高至680℃,这种分解反应愈加剧烈,很难在GaN衬底上直接形成结合力良好的纳米金刚石膜。通过在GaN衬底上镀制几纳米厚的硅过渡层,在富氢金刚石生长环境下,抑制了GaN衬底的分解,同时在GaN衬底上沉积了约2μm厚的纳米金刚石膜。硅过渡层厚度是决定纳米金刚石与GaN衬底结合力的主要因素。当硅过渡层厚度为10 nm时,纳米金刚石膜与GaN衬底呈现出大于10 N的结合力,可能与硅过渡层在金刚石生长过程中向SiC过渡层转变有关。 展开更多
关键词 氮化镓 硅过渡层 纳米金刚石膜 直接生长 分解
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纳米金刚石涂层刀具高速铣削7075铝合金的工艺参数优化 被引量:3
7
作者 邵伟平 张韬 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2022年第4期473-480,共8页
采用热丝CVD法制备纳米金刚石薄膜涂层刀具,利用场发射扫描电子显微镜表征薄膜的表面形貌,并用已制备的CVD金刚石涂层刀具,在无润滑干切条件下高速铣削7075铝合金工件,对其精铣工艺参数进行单因素及正交试验,探索精铣后工件的表面粗糙... 采用热丝CVD法制备纳米金刚石薄膜涂层刀具,利用场发射扫描电子显微镜表征薄膜的表面形貌,并用已制备的CVD金刚石涂层刀具,在无润滑干切条件下高速铣削7075铝合金工件,对其精铣工艺参数进行单因素及正交试验,探索精铣后工件的表面粗糙度变化规律并进行工艺参数优化。结果表明:随着主轴转速n从5000 r/min提高到8000 r/min,工件平均表面粗糙度在逐级缓慢降低;当进给速度v_(f)在1000~7000 mm/min范围内,随着v_(f)提高工件平均表面粗糙度快速增大,在v_(f)为7000 mm/min时,其值达1.790μm;当轴向切削深度a_(p)在0.1~0.4 mm范围内,随着a_(p)提高,工件平均表面粗糙度逐步增大,但a_(p)在0.2 mm之后其增大趋势变缓。对7075铝合金工件精铣表面粗糙度影响最大的是v_(f),其次为n,a_(p)的影响最弱;其精铣的最优参数组合是a_(p)=0.2 mm、v_(f)=1000 mm/min、n=8000 r/min,精铣后的表面粗糙度平均值为0.516μm。选用纳米金刚石薄膜涂层刀具精铣7075铝合金时,为得到较低的表面粗糙度,应选择高主轴转速、低进给速度、合适的轴向切削深度。 展开更多
关键词 切削加工工艺 CVD纳米金刚石薄膜涂层刀具 精加工 高速铣削 正交试验 优化组合
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Preparation Nano-Diamond Film by Sol-Gelled Coating Method for Field Emission Display
8
作者 Xiuxia Zhang Shuyi Wei Qianyu Ji 《Advances in Nanoparticles》 2017年第1期1-9,共9页
The mixture of Nano-graphite and organic vehicles doped to Nano-diamond paste. The suitable paste proportion was found. Nano-diamond film (NDF) was prepared by sol-gel coating method on ITO glass at 3000/min. The fiel... The mixture of Nano-graphite and organic vehicles doped to Nano-diamond paste. The suitable paste proportion was found. Nano-diamond film (NDF) was prepared by sol-gel coating method on ITO glass at 3000/min. The field emission characteristics of luminance-current, luminance-voltage and luminance-power of Nano-diamond film were analyzed and tested. Comparing these tested curves, the luminance was well proportional to current was got. Theoretic, the inner resistance of NDF field emission display (FED) consumes electric energy and real voltage change between the cathode and the anode of NDF-FED was very small after electrons emit. So the characteristic of NDF-FED was preferable to describe by luminance-current linear relationship, which was advantageous to device tested and designed. 展开更多
关键词 nano-diamond film (NDF) SOL-GEL Coating Method Suitable PASTE PROPORTION Field Emission Display (FED)
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Application of printed nanocrystalline diamond film for electron emission cathode
9
作者 张秀霞 Shuyi Wei +4 位作者 Chongmin Lei Jie wei Bingheng Lu Yucheng Ding Changchun Zhu 《功能材料信息》 2013年第2期7-10,共4页
The low-cost and large area screen-printed nano-diamond film (NDF) for electronic emission was fabricated. The edges and corners of nanocrystalline diamond are natural field-emitters. The nano-diamond paste for screen... The low-cost and large area screen-printed nano-diamond film (NDF) for electronic emission was fabricated. The edges and corners of nanocrystalline diamond are natural field-emitters. The nano-diamond paste for screen-printing was fabricated of mixing nano-graphite and other inorganic or organic vehicles. Through enough disperse in isopropyl alcohol by ultrasonic nano-diamond paste was screen-printed on the substrates to form NDF. SEM images showed that the surface morphology of NDF was improved, and the nano-diamond emitters were exposed from NDF through the special thermal-sintering technique and post-treatment process. The field emission characteristics of NDF were measured under -6 all conditions with 10 Pa pressure. The results indicated that the field emission stability and emission uniformity of NDF were improved through hydrogen plasma post-treatment process. The turn-on field decreased from 1.60 V/ μm to 1.25 V/ μm . The screen-printed NDF can be applied to the displays electronic emission cathode for low-cost outdoor in large area. 展开更多
关键词 摘要 编辑部 编辑工作 读者
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热丝化学气相沉积法在CH_4/H_2混合气体中低温生长超薄纳米金刚石膜(英文) 被引量:7
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作者 张衡 郝天亮 +1 位作者 石成儒 韩高荣 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期81-85,共5页
用热丝化学气相沉积方法研究了低温(-550℃)和低反应气压(-7 Torr)下硅片上金刚石膜的成核和生长.成核过程中采用2.5%的CH。浓度,在经充分超声波预处理的硅片上获得了高达1.5×10^11cm^-2的成核密度.随CH4浓度的增加所成... 用热丝化学气相沉积方法研究了低温(-550℃)和低反应气压(-7 Torr)下硅片上金刚石膜的成核和生长.成核过程中采用2.5%的CH。浓度,在经充分超声波预处理的硅片上获得了高达1.5×10^11cm^-2的成核密度.随CH4浓度的增加所成膜中的金刚石晶粒尺寸由亚微米转变到纳米级.成功合成了表面粗糙度小于4nm、超薄(厚度小于500nm)和晶粒尺寸小于50nm的纳米金刚石膜.膜与衬底结合牢固.膜从可见光至红外的光吸收系数小于2×10^4cm^-1.用我们常规的HFCVD技术,在低温度和低压下可以生长出表面光滑超薄的纳米金刚石膜. 展开更多
关键词 热丝化学气相沉积 纳米金刚石膜 超声波预处理 低温生长 光吸收系数
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CVD金刚石薄膜摩擦学性能的研究现状 被引量:3
11
作者 孙洪涛 王小平 +4 位作者 王丽军 孙义清 王金烨 王子风 曹双迎 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期47-52,73,共7页
化学气相沉积(Chemical vapor deposition,CVD)金刚石薄膜通常是一种表面粗糙的多晶薄膜,其摩擦系数相对于光滑金刚石明显偏高,这制约着其在摩擦学领域的应用。在综合分析近年来该领域研究的基础上,总结了CVD金刚石薄膜摩擦学性能的主... 化学气相沉积(Chemical vapor deposition,CVD)金刚石薄膜通常是一种表面粗糙的多晶薄膜,其摩擦系数相对于光滑金刚石明显偏高,这制约着其在摩擦学领域的应用。在综合分析近年来该领域研究的基础上,总结了CVD金刚石薄膜摩擦学性能的主要影响因素,并从降低其摩擦系数的角度出发,着重讨论了几种提高CVD金刚石薄膜摩擦性能的途径。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 摩擦学性能 纳米金刚石薄膜 掺杂类金刚石薄膜
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硼源浓度对纳米金刚石薄膜掺硼的影响 被引量:4
12
作者 熊礼威 崔晓慧 +2 位作者 汪建华 龚国华 邹伟 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第3期6-9,24,共5页
目的研究纳米金刚石薄膜生长掺硼的内在机理,实现对该过程的精确控制。方法采用微波等离子体化学气相沉积法,以氢气稀释的乙硼烷为硼源,进行纳米金刚石薄膜的生长过程掺硼实验,研究硼源浓度对掺硼纳米金刚石薄膜晶粒尺寸、表面粗糙度、... 目的研究纳米金刚石薄膜生长掺硼的内在机理,实现对该过程的精确控制。方法采用微波等离子体化学气相沉积法,以氢气稀释的乙硼烷为硼源,进行纳米金刚石薄膜的生长过程掺硼实验,研究硼源浓度对掺硼纳米金刚石薄膜晶粒尺寸、表面粗糙度、表面电阻和表面硼原子浓度的影响。结果随着硼源浓度的增加,纳米金刚石薄膜的表面粗糙度和晶粒尺寸增大,表面电阻则先下降,而后趋于平衡。结论纳米金刚石薄膜掺硼后,表面电导性能可获得改善,表面粗糙度和晶粒尺寸则会增大。在700℃条件下掺硼15 min,最佳的硼源浓度(以硼烷占总气体流量的百分比计)为0.02%。 展开更多
关键词 纳米金刚石薄膜 掺硼 硼源浓度 化学气相沉积
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Preparation of Nano-Crystalline Diamond Films on Poly-Crystalline Diamond Thick Films by Microwave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
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作者 熊礼威 汪建华 +2 位作者 满卫东 翁俊 刘长林 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第3期310-313,共4页
Nano-crystalline diamond (NCD) films were prepared on poly-crystalline diamond (PCD) thick flims by the microwave plasma enhanced chemical vapor deposition (MPCVD) method. Free standing PCD thick film (50 mm in... Nano-crystalline diamond (NCD) films were prepared on poly-crystalline diamond (PCD) thick flims by the microwave plasma enhanced chemical vapor deposition (MPCVD) method. Free standing PCD thick film (50 mm in diameter) with a thickness of 413 μm was deposited in CHn/H2 plasma. It was then abraded for 2 hours and finally cut into pieces in a size of 10×10 mm^2 by pulse laser. NCD fihns were deposited on the thick film substrates by introducing a micro-crystalline diamond (MCD) interlayer. Results showed that a higher carbon concentration (5%) and a lower substrate temperature (650℃) were feasible to obtain a highly smooth interlayer, and the appropriate addition of oxygen (2%) into the gas mixture was conducive to obtaining a smooth nano-crystalline diamond film with a tiny grain size. 展开更多
关键词 diamond thick film nano-crystalline diamond film microwave plasma en hanced chemical vapor deposition
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氩气浓度对热丝法化学气相沉积纳米金刚石膜的影响 被引量:3
14
作者 任瑛 张贵锋(指导) +1 位作者 侯晓多 姜辛 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2009年第11期61-64,共4页
采用热丝化学气相沉积方法,以Ar+CH4+H2混合气体作为气源,通过改变氩气浓度,在单晶硅(100)基片上沉积纳米金刚石膜;采用扫描电子显微镜、原子力显微镜、X射线衍射仪和拉曼光谱仪等分析了纳米金刚石膜的形貌、微结构以及残余应力。结果表... 采用热丝化学气相沉积方法,以Ar+CH4+H2混合气体作为气源,通过改变氩气浓度,在单晶硅(100)基片上沉积纳米金刚石膜;采用扫描电子显微镜、原子力显微镜、X射线衍射仪和拉曼光谱仪等分析了纳米金刚石膜的形貌、微结构以及残余应力。结果表明:随着氩气浓度的增大,膜的晶粒尺寸逐渐减小到纳米级;由于晶粒细化导致膜内残余应力由拉应力变为压应力,并且压应力随氩气浓度的增大呈现先增大后减小的趋势;当氩气体积分数为98%时,即在贫氢的气氛中成功获得了平均晶粒尺寸为54 nm、均方根粗糙度约为14.7 nm的纳米金刚石膜。 展开更多
关键词 纳米金刚石膜 热丝化学气相沉积 氩气浓度
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不同等离子体体系中纳米金刚石薄膜制备的研究 被引量:3
15
作者 李伟 汪建华 周详 《真空与低温》 2013年第3期150-154,共5页
利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法分别在CH4/H2/Ar体系、CH4/H2/O2体系和C2H5OH/H2体系中进行纳米金刚石(NCD)薄膜的制备研究。采用原子力显微镜(AFM)和激光拉曼光谱(Raman)等方法对不同体系中制备得到的NCD薄膜的表面形貌及其质... 利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法分别在CH4/H2/Ar体系、CH4/H2/O2体系和C2H5OH/H2体系中进行纳米金刚石(NCD)薄膜的制备研究。采用原子力显微镜(AFM)和激光拉曼光谱(Raman)等方法对不同体系中制备得到的NCD薄膜的表面形貌及其质量进行了检测。结果表明:在CH4/H2体系中添加O2对于促进高平整度NCD薄膜的效果明显优于添加Ar;C2H5OH/H2体系更有利于制备颗粒更细、金刚石相含量更高的NCD薄膜。利用等离子体CVD技术的相关理论对上述结论进行了理论分析。 展开更多
关键词 纳米金刚石薄膜 微波等离子 化学气相沉积
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应用于半导体器件的掺杂纳米金刚石膜 被引量:2
16
作者 苏含 汪建华 +2 位作者 熊礼威 刘鹏飞 江川 《武汉工程大学学报》 CAS 2011年第10期68-72,共5页
金刚石膜有着高的热导率、宽禁带、高的介质击穿场强、高的载流子迁移率等优点,是非常理想的半导体材料.本文介绍了掺杂纳米金刚石薄膜作为半导体器件工作层的优点,综述了金刚石p型掺杂和n型掺杂的研究现状,并对影响纳米金刚石薄膜生长... 金刚石膜有着高的热导率、宽禁带、高的介质击穿场强、高的载流子迁移率等优点,是非常理想的半导体材料.本文介绍了掺杂纳米金刚石薄膜作为半导体器件工作层的优点,综述了金刚石p型掺杂和n型掺杂的研究现状,并对影响纳米金刚石薄膜生长的因素进行了探讨.指出了金刚石膜在半导体器件的应用趋势,并对其应用前景进行展望. 展开更多
关键词 纳米金刚石膜 半导体器件 掺杂
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微波功率对掺氮纳米金刚石薄膜组成、结构及性能的影响 被引量:1
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作者 王兵 王延平 +2 位作者 熊鹰 周亮 叶勤燕 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第20期2848-2850,2854,共4页
以CH4和CO2作生长金刚石薄膜的反应气体,以Ar作载气将三聚氰胺甲醇饱和溶液带入沉积室内作氮掺杂源,用微波等离子体化学气相沉积法在单晶硅衬底上制备出掺氮纳米金刚石薄膜。通过拉曼光谱、原子力显微镜、霍尔效应研究了掺氮纳米金刚石... 以CH4和CO2作生长金刚石薄膜的反应气体,以Ar作载气将三聚氰胺甲醇饱和溶液带入沉积室内作氮掺杂源,用微波等离子体化学气相沉积法在单晶硅衬底上制备出掺氮纳米金刚石薄膜。通过拉曼光谱、原子力显微镜、霍尔效应研究了掺氮纳米金刚石薄膜的组成、结构和导电性能,重点研究了微波输入功率对薄膜特性的影响。结果表明,制备的掺氮纳米金刚石薄膜具有良好的电子导电性,且随着激发等离子体微波功率的增大,其晶粒尺寸、晶界宽度、表面粗糙度和电导率增大,在最佳微波功率条件下制备出电子电导率高、材料质量好的纳米金刚石薄膜。 展开更多
关键词 微波等离子体 纳米金刚石薄膜 掺杂 电导率
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镍铬合金镀覆纳米非晶金刚石膜后耐腐蚀性能的实验研究 被引量:1
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作者 宋媛 刘江伟 王俐杰 《中国医学工程》 2014年第6期16-16,18,共2页
目的通过检测并分析在镍铬合金表面镀覆纳米非晶金刚石膜前后自然腐蚀电位和腐蚀电流密度变化情况,探讨应用纳米非晶金刚石膜在改善非贵金属耐腐蚀性能方面的意义。方法将16个镍铬合金铸件随机分为镀覆纳米非晶金刚石膜的A组及不做任何... 目的通过检测并分析在镍铬合金表面镀覆纳米非晶金刚石膜前后自然腐蚀电位和腐蚀电流密度变化情况,探讨应用纳米非晶金刚石膜在改善非贵金属耐腐蚀性能方面的意义。方法将16个镍铬合金铸件随机分为镀覆纳米非晶金刚石膜的A组及不做任何处理的B组,每组8个铸件。采用电化学实验方法分别检测并记录A、B组在两种pH值人工唾液中的自然腐蚀电位、腐蚀电流密度数值及线性极化曲线,将所得数据进行统计学分析。结果 A组自然腐蚀电位高于B组,腐蚀电流密度低于B组;两组中,随pH值降低,合金表面自然腐蚀电位均出现降低,腐蚀电流密度升高;但A组表现为较小的变化幅度。结论表面镀覆纳米非晶金刚石膜后可提高镍铬合金的耐腐蚀性能;随pH值的降低,合金耐腐蚀性能会发生不同程度的下降,镀膜后下降幅度较小,表明镍铬合金表面镀覆纳米非晶刚石膜后耐腐蚀性能得到改善。 展开更多
关键词 纳米非晶金刚石膜 镍铬合金 PH值 电化学腐蚀
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等离子平板显示中冷阴极纳米金刚石膜的制备(英文)
19
作者 祝雪丰 王林军 +4 位作者 胡广 刘建敏 黄建 徐金勇 夏义本 《电子器件》 CAS 2008年第1期72-76,共5页
讨论大面积4cm×4cm纳米金刚石膜制备工艺.采用电子辅助-热丝化学气相沉积法(EA-HFCVD)在硅片上沉积纳米金刚石膜.生长过程中,预先加6安培偏流生长1小时,然后在0.8千帕条件下,无偏流生长3小时.原子力镜表征晶粒尺寸为30纳米.样品上... 讨论大面积4cm×4cm纳米金刚石膜制备工艺.采用电子辅助-热丝化学气相沉积法(EA-HFCVD)在硅片上沉积纳米金刚石膜.生长过程中,预先加6安培偏流生长1小时,然后在0.8千帕条件下,无偏流生长3小时.原子力镜表征晶粒尺寸为30纳米.样品上任意三点采用原子力镜表征,表现出良好均匀性.采用偏振光椭圆率测量仪和分光计分别表征样品的折射率和透射率.红外波段透过率超过50%.金刚石膜表面分别进行氢化和氧化处理.通过表征,氢化处理后膜比氧化处理后膜对应的γ值大,约为0.45 . 展开更多
关键词 纳米金刚石膜 高γ 透过率 电子辅助-热丝化学气相沉积法(EA-HFCVD)
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氨气对热阴极CVD法制备纳米金刚石膜的影响
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作者 黄海亮 马红安 +4 位作者 王丹 刘艳凤 左桂红 姜宏伟 彭鸿雁 《超硬材料工程》 CAS 2011年第2期10-14,共5页
采用直流热阴级化学气相沉积(DC-PACVD)方法,以NH3+CH4+H2混合气体作为气源,通过改变氨气浓度,在单晶硅(111)基片上沉积纳米金刚石膜.采用扫描电子显微镜、原子力显微镜和拉曼光谱仪分析了不同氨气浓度下制备的纳米金刚石膜。结果表明:... 采用直流热阴级化学气相沉积(DC-PACVD)方法,以NH3+CH4+H2混合气体作为气源,通过改变氨气浓度,在单晶硅(111)基片上沉积纳米金刚石膜.采用扫描电子显微镜、原子力显微镜和拉曼光谱仪分析了不同氨气浓度下制备的纳米金刚石膜。结果表明:在基体温度为700℃条件下,随着氨气浓度的增大,纳米金刚石膜中的金刚石相含量增加,非金刚石相含量相对减少;晶粒的平均粒度减小。在一定范围内氨气浓度增加,有助于提高纳米金刚石膜质量;在氨气流量达到8 mL/min时,获得了质量最好的纳米金刚石膜,其平均晶粒尺寸约为64 nm、均方根粗糙度约为27.4 nm。并提出了掺氮纳米金刚石薄膜的生长模型,对相应现象给出了解释。 展开更多
关键词 纳米金刚石膜 直流热阴极化学气相沉积 氨气浓度
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