烫印箔用真空蒸发镀锡膜工艺参数的确定 被引量：2

1

作者 武天海 《真空与低温》 2011年第1期41-44,共4页

通过对铝和锡2种材料物理性能的理论分析和在高真空连续蒸发卷绕镀铝设备进行的实验,其结果为用于烫印锡膜的真空蒸发镀锡膜提供了合理的工艺参数。

关键词 真空蒸发镀 锡膜 工艺

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覆盖铝的不连续锡膜结构及光学性质研究

2

作者 吴广明 钱振型 《应用科学学报》 CAS CSCD 1993年第3期271-276,共6页

该文研究了不连续锡膜上覆盖铝膜的光学性质.发现覆盖铝对不连续锡膜的光学性质影响很大,增强了可见光区的光谱选择吸收和红外反射率.不连续锡膜的填隙因子对这种膜系的光学性质影响较大.应用所建立的结构模型和Maxwell-Garnett理论,计... 该文研究了不连续锡膜上覆盖铝膜的光学性质.发现覆盖铝对不连续锡膜的光学性质影响很大,增强了可见光区的光谱选择吸收和红外反射率.不连续锡膜的填隙因子对这种膜系的光学性质影响较大.应用所建立的结构模型和Maxwell-Garnett理论,计算了这种双层结构膜的反射曲线,结果与实验基本相符.这种膜系具有各种美丽的反射色,有可能作为新型的建筑、灯具、室内等装饰用的镜面材料. 展开更多

关键词 不连续膜 铝 锡膜 光学性质

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蒸镀薄膜的分形生长行为

3

作者 王克智 李文川 《化学研究与应用》 CAS CSCD 1991年第3期99-101,共3页

自Mandelbrot的分形几何学问世以来,分形理论的应用日趋广泛。在薄膜生长方面亦是如此。真空蒸镀薄膜的生长遵循着一定的规律。基本上是:(1)成核在此期间形成小的晶核,它们按统计规律分布(有一些例外)在基片表面上;(2)晶核生长并形成较... 自Mandelbrot的分形几何学问世以来,分形理论的应用日趋广泛。在薄膜生长方面亦是如此。真空蒸镀薄膜的生长遵循着一定的规律。基本上是:(1)成核在此期间形成小的晶核,它们按统计规律分布(有一些例外)在基片表面上;(2)晶核生长并形成较大的岛这些岛通常具有小晶体(微晶)的形状;(3)岛(微晶)和岛(微晶)之间聚集并形成含有空沟道的许多连接着的网络;(4)沟道被填充,形成连续的薄膜。 展开更多

关键词 分形 锡膜 生长 蒸镀

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鼓膜法表征锂电池用锡膜的弹性模量

4

作者 戴翠英 潘勇 +2 位作者 马增胜 雷维新 王子菡 《现代应用物理》 2015年第4期293-298,共6页

采用电沉积方法制备了用作锂电池负极材料的锡膜,并利用扫描电镜和X射线衍射仪对其表面形貌和织构进行表征。利用鼓膜法和数字散斑相关法,对锡膜的鼓包变形进行了高精度的全场位移测量。根据测定的薄膜压力及独立膜中心点挠度曲线,结合... 采用电沉积方法制备了用作锂电池负极材料的锡膜,并利用扫描电镜和X射线衍射仪对其表面形貌和织构进行表征。利用鼓膜法和数字散斑相关法,对锡膜的鼓包变形进行了高精度的全场位移测量。根据测定的薄膜压力及独立膜中心点挠度曲线,结合圆形鼓膜理论模型,实验测得厚度为125μm的锡膜平均弹性模量约为23.325 GPa。 展开更多

关键词 鼓膜实验 锡膜 全场位移 弹性模量

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真空和大气退火对 ITO 膜特性的影响 被引量：9

5

作者 王德苗 黄士勇 +1 位作者 任高潮 陈抗生 《浙江大学学报（自然科学版）》 EI CSCD 1997年第4期533-538,共6页

ＩＴＯ膜主要受溅射过程中溅射参数的影响．本文分析和验证真空和大气退火也改善和提高ＩＴＯ的特性，根据我们的实验条件，本文主要研究退火工艺对ＩＴＯ膜的面电阻、可见光透过率、热稳定性及晶向结构等特性的影响．

关键词 退火 透光率 晶向结构 氧化膜锡膜 大气退火

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铜-康铜热电偶的锡膜焊接及热电特性 被引量：5

6

作者 石文星 颜岩 +1 位作者 彭晓峰 陆佩强 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 2002年第3期43-44,46,共3页

提出一种制作铜 -康铜热电偶的新方法 :锡膜焊接法。既保证了焊接设备价格低廉 ,又避免了热电偶出现沾污、脆断等缺陷。利用此法制作的热电偶 ,各热电偶的一致性好 ,在 - 40～10 0℃温度范围内 ,与标准热电偶的热电特性吻合得很好 ,其... 提出一种制作铜 -康铜热电偶的新方法 :锡膜焊接法。既保证了焊接设备价格低廉 ,又避免了热电偶出现沾污、脆断等缺陷。利用此法制作的热电偶 ,各热电偶的一致性好 ,在 - 40～10 0℃温度范围内 ,与标准热电偶的热电特性吻合得很好 ,其精度达到± 0 .1℃ 。 展开更多

关键词 铜-康铜热电偶 锡膜焊接 热电特性

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一种新的铜－康铜热电偶制作方法 被引量：4

7

作者 石文星 陆佩强 《天津商学院学报》 1996年第1期79-80,共2页

一种新的铜－康铜热电偶制作方法石文星，陆佩强钢－康铜热电偶在－２００℃～４００℃温度范围内，具有热电势和温度关系近似线性，而且热电势大、灵敏度高、复制性好等优点，它是一种准确度高的廉金属热电偶。铜－康钢热电偶分度号为... 一种新的铜－康铜热电偶制作方法石文星，陆佩强钢－康铜热电偶在－２００℃～４００℃温度范围内，具有热电势和温度关系近似线性，而且热电势大、灵敏度高、复制性好等优点，它是一种准确度高的廉金属热电偶。铜－康钢热电偶分度号为Ｔ，当测量０℃以上温度时，红色电极... 展开更多

关键词 铜-康铜热电偶 热电偶 锡膜焊接法

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ITO玻璃在线等离子体清洗的研究 被引量：3

8

作者 吴桂初 王德苗 +1 位作者 任高潮 陈抗生 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2001年第6期499-500,共2页

通过在线等离子体清洗的玻璃基片表面沉积的ITO (或SiO2 )膜 ,不仅具有优良的光电特性 ,而且提高了膜层在基片上的附着力。与未经在线等离子体清洗的基片沉积的ITO膜相比 ,膜层附着力提高了 3.5倍。此项成果已在ITO膜透明导电玻璃连续... 通过在线等离子体清洗的玻璃基片表面沉积的ITO (或SiO2 )膜 ,不仅具有优良的光电特性 ,而且提高了膜层在基片上的附着力。与未经在线等离子体清洗的基片沉积的ITO膜相比 ,膜层附着力提高了 3.5倍。此项成果已在ITO膜透明导电玻璃连续生产线上得到应用。 展开更多

关键词 等离子体 表面处理 ITO膜 附着力 氧化铟锡膜 导电玻璃 液晶显示器 导电电极 制备

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加热器ITO膜层图案刻蚀对改变热量分布的研究

9

作者 邹一杰 颜子越 +1 位作者 陈云昌 符昭邦 《光电子技术》 CAS 2024年第3期254-259,共6页

为了控制加热器的加热均匀性,改变加热器表面的热量分布,提出一种基于ITO膜层图案刻蚀的加热器设计与加工方法。首先结合理论计算设计初步图案,用图案刻蚀的方法加工样品进行测试,找到ITO膜层图案刻蚀与热量分布的规律;然后结合具体项... 为了控制加热器的加热均匀性,改变加热器表面的热量分布,提出一种基于ITO膜层图案刻蚀的加热器设计与加工方法。首先结合理论计算设计初步图案,用图案刻蚀的方法加工样品进行测试,找到ITO膜层图案刻蚀与热量分布的规律;然后结合具体项目设计一种可以满足产品要求的ITO膜层图案,制作加热器样品并测试热量分布;最后将相关数据进行整理与总结,为ITO膜层图案设计及加热器制作提供一种可行性方案。 展开更多

关键词 加热器 图案设计 氧化铟锡膜层刻蚀 热量分布

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TFT-LCD HADS显示模式下黑白Mura机理研究及设计优化 被引量：3

10

作者 郑箫逸 袁帅 +4 位作者 崔晓鹏 林鸿涛 陈维涛 薛海林 邵喜斌 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2019年第3期261-266,共6页

随着高分辨率TFT-LCD HADS产品的开发,一种与像素ITO图形密切相关、有明暗(黑白)亮度差异、不同视角观察下存在黑白反转现象的Mura不良高发。经过对不良产品的参数测量和模拟分析,确定发生该不良的原因是在邻近区域内,像素开口区内的像... 随着高分辨率TFT-LCD HADS产品的开发,一种与像素ITO图形密切相关、有明暗(黑白)亮度差异、不同视角观察下存在黑白反转现象的Mura不良高发。经过对不良产品的参数测量和模拟分析,确定发生该不良的原因是在邻近区域内,像素开口区内的像素电极ITO(1ITO)图形和公共电极ITO(2ITO)图形发生了不同程度的相对偏移,电场分布存在差异,因此亮度发生明显差异;而且由于图形间的相对偏移导致电极间的电场发生偏移,形成像素左右两侧的一侧为强电场,一侧为弱电场,因而会出现从一侧观察发亮而从另一侧观察发暗、左右视角观察的黑白反转现象。Mura区与相邻OK区1ITO?2ITO对位差异为0.5μm。通过1ITO和2ITO的线宽设计优化,可提高产品对此偏移不均一的容忍度。最终采用最佳1ITO、2ITO线宽条件生产,配合1ITO和2ITO共用设备及TP非线性补正等条件并举,此不良由高发时的14.2%降至0.2%以下。本文研究成果对于高分辨率HADS产品的设计和性能改善,有着重要的指导和参考意义。 展开更多

关键词 黑白Mura 对位偏移 氧化铟锡膜 电场 均一

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基于ITO图案化的LCD低温加热设计 被引量：1

11

作者 张大伟 赵小珍 +2 位作者 屈军 袁扬胜 彭继 《光电子技术》 CAS 北大核心 2018年第2期122-126,140,共6页

为了改善机载LCD在低温加热过程中出现的不均匀、四角发蓝现象,提出了一种基于ITO图案化的加热器设计方法。首先通过Pro/E软件设计ITO图形,接着利用ANSYS Workbench对屏组件进行有限元热仿真,得到了机载LCD的低温加热功耗以及稳态温度... 为了改善机载LCD在低温加热过程中出现的不均匀、四角发蓝现象,提出了一种基于ITO图案化的加热器设计方法。首先通过Pro/E软件设计ITO图形,接着利用ANSYS Workbench对屏组件进行有限元热仿真,得到了机载LCD的低温加热功耗以及稳态温度分布图,最后根据仿真数据制作LCD,并进行样品试验。结果表明,对于15.24cm的LCD,在相同的功率下,图案化的加热器加热更加均匀,且四角发蓝现象得到明显的改善。 展开更多

关键词 液晶显示器 氧化铟锡膜图案化 有限元热仿真 稳态温度分布图 功耗

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颗粒锡膜形貌与氧压及基片温度的相关性

12

作者 成照宇 刘向东 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第12期103-105,共3页

利用电阻式真空蒸镀系统制备出了颗粒锡膜,并通过场发射电子显微镜(FSEM)对其生长进行了表征。研究发现,锡膜的表面形貌与氧压及基片温度强烈相关。随着氧压升高,锡膜颗粒粒径减小,形状趋于规则;随着基片温度升高,锡膜颗粒趋于规则,粒... 利用电阻式真空蒸镀系统制备出了颗粒锡膜,并通过场发射电子显微镜(FSEM)对其生长进行了表征。研究发现,锡膜的表面形貌与氧压及基片温度强烈相关。随着氧压升高,锡膜颗粒粒径减小,形状趋于规则;随着基片温度升高,锡膜颗粒趋于规则,粒径先增后减。就颗粒锡膜的连通性及气敏性进行了初步研究,成膜后高温退火有助于提高颗粒锡膜的连通性,200℃工作环境下膜对氧气具有相当高的气敏性。 展开更多

关键词 真空沉积 颗粒锡膜 FSEM 气敏性

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锡膜修饰玻碳电极测定药品中铋的含量

13

作者 李新华 岳志劲 +1 位作者 李卫华 刘永文 《山西大同大学学报（自然科学版）》 2019年第2期4-7,共4页

采用同位电沉积法将Bi^(3+)和Sn^(2+)还原在玻碳电极表面上,建立了示差脉冲阳极溶出伏安法(DPASV)测定Bi^(3+)的新方法。实验结果表明:Bi^(3+)在0.10 mol/L H_2SO_4溶液中在-0.90 V同位富集1.0×10^(-3)mol/L Sn^(2+)150 s后,Bi^(3... 采用同位电沉积法将Bi^(3+)和Sn^(2+)还原在玻碳电极表面上,建立了示差脉冲阳极溶出伏安法(DPASV)测定Bi^(3+)的新方法。实验结果表明:Bi^(3+)在0.10 mol/L H_2SO_4溶液中在-0.90 V同位富集1.0×10^(-3)mol/L Sn^(2+)150 s后,Bi^(3+)L范围内呈线性关系,线性方程为Ip=0.959 c+0.496 3,相关系数为L,用同一电极对同一个样品进行了15次平行测定,相对标准偏差RSD为3.28%,样品加标回收率为98.48%, RSD为1.05%。该方法用于测定胃铋治药品中Bi(III)的含量,结果满意。 展开更多

关键词 锡膜电极 胃铋治 示差脉冲阳极溶出伏安法(DPASV)

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衬底偏压对膜表面层成分的影响

14

作者 仲永安 张怀武 许武毅 《表面技术》 EI CAS CSCD 1990年第1期11-15,共5页

本文就溅射镀膜中,衬底偏压对膜表面层成份的影响作了定性分析。给出了在不同偏压下氧化铟锡(简称ITO)膜表面成份的俄歇探针分析结果,X射线衍射结果以及扫描电镜能谱和观察结果,从而得出衬底在加偏压0～100伏之间时,有利用提高膜的性能... 本文就溅射镀膜中,衬底偏压对膜表面层成份的影响作了定性分析。给出了在不同偏压下氧化铟锡(简称ITO)膜表面成份的俄歇探针分析结果,X射线衍射结果以及扫描电镜能谱和观察结果,从而得出衬底在加偏压0～100伏之间时,有利用提高膜的性能的结论. 展开更多

关键词 溅射镀膜 偏压 氧化铟锡膜

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ITO膜溅射成膜装置

15

作者 一弓 《等离子体应用技术快报》 2000年第9期15-16,共2页

关键词 氧化铟锡膜 溅射成膜装置 薄膜

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不连续锡膜的异常光学性质研究

16

作者 吴广明 钱振型 《薄膜科学与技术》 1991年第4期27-33,共7页

本文研究了不连续锡膜在可见光区的光学性质，在MaxwelloGarnett(MG)理论中引入自由电子模型很好地解释了实验结果。结果表明：光谱反射峰及其宽度的变化主要由填隙因子Q决定的。

关键词 异常光学性质 不连续锡膜 可见光区

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透光导电ITO膜的制备及其光电特性的研究 被引量：16

17

作者 周引穗 王俊 +4 位作者 杨晓东 董庆彦 高爱华 胡晓云 陆治国 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第9期1077-1080,共4页

采用溶胶 凝胶方法制备ITO膜 ,并从制备工艺上研究了各种因素对ITO膜光电特性的影响 最后制出的ITO膜厚度约为 5 0nm ,在可见光区平均透射比达 97% ,最高达 99.5 5 % ,电阻率在 2 .0Ω·cm左右 ,最低达到 0 .

关键词 制备 ITO膜 溶胶-凝胶 光电特性 掺锡氧化铟膜 透光导电膜

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基于有机电致发光显示的透明导电膜ITO 被引量：12

18

作者 占红明 饶海波 张化福 《液晶与显示》 CAS CSCD 2004年第5期386-390,共5页

介绍了ITO作为OLED器件阳电极时,ITO各参数对OLED整体性能,如发光亮度、效率、寿命和稳定性的影响,并以溅射ITO工艺为例,分析了制备与处理环境对ITO的方阻、透过率、表面平整度及功函数的影响。针对其成因,提出了一些改进措施。对高性... 介绍了ITO作为OLED器件阳电极时,ITO各参数对OLED整体性能,如发光亮度、效率、寿命和稳定性的影响,并以溅射ITO工艺为例,分析了制备与处理环境对ITO的方阻、透过率、表面平整度及功函数的影响。针对其成因,提出了一些改进措施。对高性能平板显示OLED器件用透明导电阳极的研制具有一定的参考价值。 展开更多

关键词 铟锡氧化物膜 有机电致发光显示 透明导电膜 荧光寿命 表面平整度 透过率

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镁合金锡酸盐化学转化膜生长过程研究 被引量：9

19

作者 吴丹 杨湘杰 《特种铸造及有色合金》 CAS CSCD 北大核心 2008年第11期885-888,共4页

采用环保型锡酸盐化学转化工艺,并利用扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射(XRD)和全浸腐蚀试验等手段,研究了AZ91D镁合金锡酸盐化学转化膜不同生长阶段的形貌特征及其耐蚀性。结果表明,整个过程可分为3个阶段,成膜初期,膜重... 采用环保型锡酸盐化学转化工艺,并利用扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射(XRD)和全浸腐蚀试验等手段,研究了AZ91D镁合金锡酸盐化学转化膜不同生长阶段的形貌特征及其耐蚀性。结果表明,整个过程可分为3个阶段,成膜初期,膜重迅速增加,在α相上生成MgSnO3;约10min后膜的生长速度减小,锡酸盐开始在β相上沉积。此后,膜溶解速度加快,由于α相上的锡酸盐颗粒间隙远大于β相上的颗粒间隙,金属的溶解主要发生在α相上。同时新的膜不断生成,达到动态平衡。此后,随时间延长,膜溶解速度大于成膜速度,膜重减小。经化学处理30min左右,锡酸盐膜层的耐蚀性最好。 展开更多

关键词 镁合金 锡酸盐转化膜 生长机理

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镁锂合金表面锡酸盐转化膜研究 被引量：7

20

作者 张春红 刘建强 +1 位作者 郑庆庆 汤金勇 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 2008年第10期29-31,共3页

采用无铬锡酸盐转化技术在镁锂合金表面形成了锡酸盐转化膜,利用扫描电镜、能谱、X射线衍射、极化曲线、析氢实验等对锡酸盐转化膜的结构和耐蚀性进行了研究。结果表明,锡酸盐转化膜由近似球形的均匀颗粒组成,较致密,主要成分为MgSnO3,... 采用无铬锡酸盐转化技术在镁锂合金表面形成了锡酸盐转化膜,利用扫描电镜、能谱、X射线衍射、极化曲线、析氢实验等对锡酸盐转化膜的结构和耐蚀性进行了研究。结果表明,锡酸盐转化膜由近似球形的均匀颗粒组成,较致密,主要成分为MgSnO3,呈晶态结构特征。锡酸盐转化膜的成膜时间对镁锂合金阳极极化电流有影响:成膜时间为45min时,阳极极化电流最小,转化膜对镁锂合金基体的保护作用最强。锡酸盐转化膜明显降低了镁锂合金的析氢量,改善了镁锂合金的耐蚀性。 展开更多

关键词 镁锂合金 锡酸盐转化膜 显微结构 耐蚀性

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