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ITO膜溅射成膜装置

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作者一弓

出处《等离子体应用技术快报》 2000年第9期15-16,共2页

关键词氧化铟锡膜溅射成膜装置薄膜

分类号 O484.1 [理学—固体物理] TB43 [理学—物理]

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等离子体应用技术快报

2000年第9期

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