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多晶硅发射极双极晶体管的工艺设计及计算机模拟 被引量:4
1
作者 刘其贵 吴金 +2 位作者 郑娥 魏同立 何林 《电子器件》 CAS 2002年第1期97-100,共4页
在简要分析多晶硅发射极双极晶体管特点的基础上 ,根据国内现有的双极工艺水平 ,设计了用于制备多晶硅发射极双极晶体管的工艺流程 ,并给出了一个最小尺寸晶体管的版图 ,最后对设计的多晶硅发射极晶体管的频率特性进行了模拟。
关键词 多晶硅 发射极 双极晶体管 工艺设计 计算机模拟
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多晶硅发射极NPN管的辐射效应研究 被引量:3
2
作者 陈光炳 张培健 谭开洲 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2018年第4期520-523,528,共5页
为了研究多晶硅发射极双极晶体管的辐射可靠性,对多晶硅发射极NPN管进行了不同偏置条件下^(60)Coγ射线的高剂量率辐照试验和室温退火试验。试验结果表明,辐射后,基极电流I_B显著增大,而集电极电流I_C变化不大;反偏偏置条件下,I_B的辐... 为了研究多晶硅发射极双极晶体管的辐射可靠性,对多晶硅发射极NPN管进行了不同偏置条件下^(60)Coγ射线的高剂量率辐照试验和室温退火试验。试验结果表明,辐射后,基极电流I_B显著增大,而集电极电流I_C变化不大;反偏偏置条件下,I_B的辐射损伤效应在辐射后更严重;室温退火后,I_B有一定程度的持续损伤。多晶硅发射极NPN管与单晶硅发射极NPN管的辐射对比试验结果表明,多晶硅发射极NPN管的抗辐射性能较好。从器件结构和工艺条件方面,分析了多晶硅发射极NPN管的辐射损伤机理。分析了多晶硅发射极NPN管与单晶硅发射极NPN管的辐射损伤区别。 展开更多
关键词 多晶硅发射极 NPN管 辐照偏置 60Coγ射线 辐射损伤
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MODEL AND MODELING OF LOW TEMPERATURE CURRENT GAIN OF POLYSILICON EMITTER BIPOLAR TRANSISTORS
3
作者 黄流兴 魏同立 +1 位作者 郑茳 曹俊诚 《Journal of Electronics(China)》 1994年第3期277-283,共7页
A unified model of low temperature current gain of polysilicon emitter bipolar transistors based on effective recombination method is presented, incorporating band-gap narrowing, carrier freezing-out, tunneling of hol... A unified model of low temperature current gain of polysilicon emitter bipolar transistors based on effective recombination method is presented, incorporating band-gap narrowing, carrier freezing-out, tunneling of holes through polysilicon/silicon interface oxide layer and reduced mobility mechanism in polysilicon. The modeling results based on this model are in good agreement with experimental data. 展开更多
关键词 BIPOLAR TRANSISTOR polysilicon emitter CURRENT GAIN Low temperature
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S波段100W硅脉冲功率晶体管 被引量:2
4
作者 傅义珠 李相光 +4 位作者 张树丹 王佃利 王因生 康小虎 姚长军 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2000年第2期123-127,共5页
报道了一种高增益高效率 S波段硅脉冲功率晶体管的研制结果。该器件在 f=2 .4~ 2 .6GHz,D=1 0 % ,τp=1 0 0 μs,Vc=36V条件下输出功率 1 0 0 W、增益 9d B、效率 50 %。在 f=2 .6GHz短脉宽条件下输出功率 1 60 W、增益 8.0 d B、效率 ... 报道了一种高增益高效率 S波段硅脉冲功率晶体管的研制结果。该器件在 f=2 .4~ 2 .6GHz,D=1 0 % ,τp=1 0 0 μs,Vc=36V条件下输出功率 1 0 0 W、增益 9d B、效率 50 %。在 f=2 .6GHz短脉宽条件下输出功率 1 60 W、增益 8.0 d B、效率 60 %。 展开更多
关键词 微波功率晶体管 S波段
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P波段脉冲输出150W高增益功率晶体管 被引量:1
5
作者 王因生 单宁 +4 位作者 王佃利 林川 张树丹 康小虎 林金庭 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1998年第1期15-19,共5页
采用微波功率管二次发射极镇流和掺砷多晶硅发射极覆盖树枝状结构等新工艺技术,研制出用于工程的实用化P波段脉冲大功率晶体管。该器件由16个单胞内匹配而成,在该频带内,脉宽500μs,占空比15%,脉冲输出150W,增益大于10dB,集电... 采用微波功率管二次发射极镇流和掺砷多晶硅发射极覆盖树枝状结构等新工艺技术,研制出用于工程的实用化P波段脉冲大功率晶体管。该器件由16个单胞内匹配而成,在该频带内,脉宽500μs,占空比15%,脉冲输出150W,增益大于10dB,集电极效率大于50%。 展开更多
关键词 二次发射极镇流 多晶硅发射极 微波功率晶体管
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亚微米双层多晶硅自对准双极晶体管性能研究
6
作者 张志勇 海潮和 《电子与封装》 2005年第9期29-33,共5页
本文采用亚微米工艺和自对准技术制作了发射区宽度分别为0.8μm和0.4μm的两种双层多晶硅自对准双极晶体管。其中采用的是深沟和LOCOS两种隔离联合的隔离方法;EB间自对准是通过均匀的高质量的SiNx侧墙实现的,EB结击穿电压高达4.5V;窄的... 本文采用亚微米工艺和自对准技术制作了发射区宽度分别为0.8μm和0.4μm的两种双层多晶硅自对准双极晶体管。其中采用的是深沟和LOCOS两种隔离联合的隔离方法;EB间自对准是通过均匀的高质量的SiNx侧墙实现的,EB结击穿电压高达4.5V;窄的发射区使得发射极多晶硅在发射区窗口严重堆积,引起了双极晶体管的电流增益增大,同时也降低了管子的速度。工艺和器件模拟显示,发射极多晶硅采用原位掺杂技术,双极晶体管的性能得到了很大的改善。 展开更多
关键词 亚微米工艺 自对准技术 双层多晶硅 双极晶体管 原位掺杂
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多晶硅发射极晶体管的低温频率特性研究 被引量:1
7
作者 黄流兴 魏同立 郑茳 《电子科学学刊》 CSCD 1994年第5期545-549,共5页
本文考虑低温下半导体中载流子冻析效应和浅能级杂质的陷阱效应等因素,分析了多晶硅发射极晶体管的低温频率特性。研究表明,受载流子冻析效应的影响,基区电阻在低温下随温度下降接近于指数上升,使晶体管的频率性能变环;而由于浅能级杂... 本文考虑低温下半导体中载流子冻析效应和浅能级杂质的陷阱效应等因素,分析了多晶硅发射极晶体管的低温频率特性。研究表明,受载流子冻析效应的影响,基区电阻在低温下随温度下降接近于指数上升,使晶体管的频率性能变环;而由于浅能级杂质的陷阱效应,低温下基区和发射区渡越时间变长,截止频率下降。这些因素在低温器件设计中应予重视。 展开更多
关键词 双极晶体管 多晶硅发射极 低温频率
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一种单层多晶硅BiCMOS工艺研究
8
作者 周均 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 1999年第1期10-14,共5页
介绍了一种单层多晶硅CMOS工艺。该工艺采用P型衬底、N型P型双埋层、N型薄外延结构,掺杂多晶硅作为CMOS晶体管栅极和双极NPN晶体管的发射极。CMOS晶体管采用源漏自对准结构,钛和铝双层金属作为元件互连线,PEC... 介绍了一种单层多晶硅CMOS工艺。该工艺采用P型衬底、N型P型双埋层、N型薄外延结构,掺杂多晶硅作为CMOS晶体管栅极和双极NPN晶体管的发射极。CMOS晶体管采用源漏自对准结构,钛和铝双层金属作为元件互连线,PECVDSiNx介质作为钝化薄膜。 展开更多
关键词 半导体工艺 BICMOS 自对准结构 多晶硅发射极
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低温多晶硅发射极晶体管电流增益模型和模拟 被引量:1
9
作者 黄流兴 魏同立 +1 位作者 郑茳 曹俊诚 《电子科学学刊》 CSCD 1994年第2期207-211,共5页
本文考虑禁带变窄效应、载流子冻析效应和多晶硅/单晶硅界面复合与氧化层隧穿效应,采用有效复合速度方法,建立了多晶硅发射极晶体管电流增益的温度关系模型。模拟计算结果与实验符合较好。
关键词 双极晶体管 发射极 电流增益
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77K下工作的双层多晶硅发射区RCA器件和电路 被引量:1
10
作者 叶红飞 高玉芝 +5 位作者 金海岩 罗葵 宁宝俊 莫邦燹 张广勤 张利春 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第9期1207-1211,共5页
研究了掺磷双层多晶硅 RCA器件和电路的制备工艺及其温度特性 .在工艺中采用自对准双极结构 ,生长一层 RCA超薄氧化层 ,并用快速热退火处理 RCA氧化层 .研制的多晶硅发射区 RCA晶体管不仅具有较低的电流增益 -温度依赖关系 ,而且还具有... 研究了掺磷双层多晶硅 RCA器件和电路的制备工艺及其温度特性 .在工艺中采用自对准双极结构 ,生长一层 RCA超薄氧化层 ,并用快速热退火处理 RCA氧化层 .研制的多晶硅发射区 RCA晶体管不仅具有较低的电流增益 -温度依赖关系 ,而且还具有较快的工作速度 .首次制备出多晶硅发射区 RCA ECL静态二分频器在室温下其工作频率为 1.1— 1.2 GHz,在液氮温度下能够正常工作 ,工作频率可达 730 MHz. 展开更多
关键词 RCA晶体管 ECL集成电路 双层多晶硅 发射区
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双极晶体管发射极电阻的提取方法及应用研究
11
作者 邱盛 王文捷 +1 位作者 王健安 张培健 《微电子学》 CAS 北大核心 2019年第2期164-167,共4页
以双多晶自对准互补双极器件中NPN双极晶体管为例,阐述了发射极电阻提取的基本原理和数学方法。在大电流情况下,NPN管的基极电流偏离理想电流是发射极串联电阻效应引起的。该提取方法综合考虑了辐照过程中NPN管的电流增益退化特性,分析... 以双多晶自对准互补双极器件中NPN双极晶体管为例,阐述了发射极电阻提取的基本原理和数学方法。在大电流情况下,NPN管的基极电流偏离理想电流是发射极串联电阻效应引起的。该提取方法综合考虑了辐照过程中NPN管的电流增益退化特性,分析了总剂量辐照效应对NPN管的损伤机理和模式。该提取方法适用于多晶硅发射极器件,也适用于SiGe HBT器件。 展开更多
关键词 多晶硅发射极 发射极电阻 总剂量辐照 电流增益退化
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多晶硅发射区中的少数载流子注入理论
12
作者 马平西 张利春 王阳元 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第8期17-22,34,共7页
本文提出了一种新的多晶硅发射区少数载流子注入理论.考虑了晶粒间界厚度和其中的少数载流子复合,假设晶粒间界和晶粒具有不同的少数载流子迁移率和寿命.引入少数载流子迁移率和寿命随多晶硅厚度变化的函数,通过求解与单晶硅少数载流子... 本文提出了一种新的多晶硅发射区少数载流子注入理论.考虑了晶粒间界厚度和其中的少数载流子复合,假设晶粒间界和晶粒具有不同的少数载流子迁移率和寿命.引入少数载流子迁移率和寿命随多晶硅厚度变化的函数,通过求解与单晶硅少数载流子注入形式上完全相同的连续性方程,不仅得到了前人关于晶粒间界对少数载流子具有阻碍和复合双重作用的结论,而且成功地区分了不同晶粒间界对降低注入饱和少数载流子电流贡献的大小.其中,第一个晶粒间界能够最有效地减少注入饱和少数载流子电流.与此同时,本文还得到了能够降低注入饱和少子电流百分之十以上的有效晶粒间界个数与晶粒/晶粒间界界面态密度和晶粒大小之间的关系. 展开更多
关键词 多晶硅 发射区 载流子注入 晶粒
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一种高电流增益的SiGe HBT的研制
13
作者 赵安邦 《中国集成电路》 2008年第6期55-60,共6页
研制了一种平面集成多晶发射极SiGe HBT。经测量,在室温下电流增益β大于1500,最大达到2800,其Vceo为5V,厄利(Early)电压VA大于10V,βVA乘积达到15000以上。这种器件对多晶硅发射极砷杂质浓度分布十分敏感。
关键词 SIGE 异质结双极晶体管 平面集成 多晶硅发射极
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双多晶硅自对准结构双极型晶体管工作于饱和开关特性的解析模型(Ⅱ)
14
作者 乐中道 龙忠琪 《浙江工业大学学报》 CAS 1995年第3期224-230,共7页
本文是文献[1]的续篇,给出了在多晶硅和单晶硅发射极区域中涉动电流和存贮电荷的解析分析,将它们表示成发射结电压Vbe的函数。在文献[1]中已知Vbe决定于基区中的正态模涉动电流,从而发射极区域中的涉动电流与存贮电荷也... 本文是文献[1]的续篇,给出了在多晶硅和单晶硅发射极区域中涉动电流和存贮电荷的解析分析,将它们表示成发射结电压Vbe的函数。在文献[1]中已知Vbe决定于基区中的正态模涉动电流,从而发射极区域中的涉动电流与存贮电荷也是收集极传导电流Ic和收集极与基极之间电位差Vcb的函数。在此基础上,并与文献[1]相结合,本文对双多晶硅自对准结构双极型晶体管工作于饱和的行为提出了一个严格的解析模型。 展开更多
关键词 双极型 晶体管 多晶硅发射极 开关特性
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一种具有高电流增益的平面集成SiGe HBT
15
作者 赵安邦 谭开洲 +4 位作者 吴国增 李荣强 张静 钟怡 刘道广 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2006年第5期576-579,583,共5页
研制了一种平面集成多晶发射极SiGe HBT。经测量,在室温下电流增益β大于1 500,最大达到2 800,其Vceo为5 V,厄利(Early)电压VA大于10 V,βVA乘积达到15 000以上。这种器件对多晶硅发射极砷杂质浓度分布十分敏感。
关键词 SIGE 异质结双极晶体管 平面集成 多晶硅发射极
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基于BiCMOS工艺的D类功率放大器设计
16
作者 朱洲 李冰 肖志强 《电子与封装》 2009年第5期28-30,38,共4页
文章首先详细研究了D类音频放大器和相关的BiCMOS的基本原理和结构,并在此基础上综合现阶段国内市场对D类功率放大器的需求,开发了基于0.6μm特征线宽、双层多晶、双层金属的多晶发射极BiCMOS工艺的D类功率放大器。该D类音频放大器,在5... 文章首先详细研究了D类音频放大器和相关的BiCMOS的基本原理和结构,并在此基础上综合现阶段国内市场对D类功率放大器的需求,开发了基于0.6μm特征线宽、双层多晶、双层金属的多晶发射极BiCMOS工艺的D类功率放大器。该D类音频放大器,在5V电压下可以以1.4W/Ch的功率驱动阻抗为8的负载。它同样可驱动阻抗为4的负载,5V电压下提供的最大功率为2.1W/Ch。同时还详细描述了前置音频放大器,三角波产生电路、比较器,死区控制电路,输出驱动电路等子模块的设计内容。电路在Cadence环境下进行设计和仿真验证,经过仿真表明电路设计性能良好,符合设计要求,可广泛应用于便携式电子产品。 展开更多
关键词 D类功率放大器 死区控制 H桥 BICMOS工艺 多晶发射极 便携式
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2μm高速双极工艺的研究
17
作者 杨华丽 陈学良 +1 位作者 何晓阳 肖德元 《微电子学》 CAS CSCD 1994年第4期46-48,共3页
本文报导了2μm高性能单层多晶硅双极器件及工艺。为了改善器件性能,对基础工艺的改进和完善作了试验,如减少外延自掺杂及缺陷;改善EC漏电;降低发射极串联电阻等。并列出了典型的工艺参数及器件参数。用本工艺得到环振门延迟为... 本文报导了2μm高性能单层多晶硅双极器件及工艺。为了改善器件性能,对基础工艺的改进和完善作了试验,如减少外延自掺杂及缺陷;改善EC漏电;降低发射极串联电阻等。并列出了典型的工艺参数及器件参数。用本工艺得到环振门延迟为250~500ps,有的可达200ps。 展开更多
关键词 双极工艺 多晶硅 双极集成电路
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一种快速电压变换器的研制
18
作者 羊庆龄 孟华群 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2003年第2期160-162,共3页
 介绍了一种快速电压变换器的电路、版图及工艺设计。该电路采用多晶硅发射极自对准工艺制作,获得了小于50ns的输入输出延迟时间。该电路可广泛应用于GaAsFET功率放大器的控制电路中。
关键词 电压变换器 工艺设计 多晶硅发射极 自对准工艺 输入输出延迟时间 模拟集成电路 GaAs-FET功率放大器
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基于Matlab的基极电流理想因子提取方法研究
19
作者 冯筱佳 邱盛 +2 位作者 张静 崔伟 张培健 《微电子学》 CAS 北大核心 2020年第2期267-271,共5页
采用Matlab数字分析方法,结合多晶硅发射极双极器件基极电流的构成情况,阐述了不同理想因子电流成分分离的基本原理和数学方法。利用该方法分析了多晶硅发射极双极器件在正向大电流激励下的电参数退化过程中不同理想因子基极电流的变化... 采用Matlab数字分析方法,结合多晶硅发射极双极器件基极电流的构成情况,阐述了不同理想因子电流成分分离的基本原理和数学方法。利用该方法分析了多晶硅发射极双极器件在正向大电流激励下的电参数退化过程中不同理想因子基极电流的变化情况,分析了导致各电流分量变化的物理机制。该理想因子提取方法普遍适用于各类双极型器件。 展开更多
关键词 多晶硅发射极 MATLAB 基极电流 理想因子
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多晶硅膜及其薄发射极退火特性的研究
20
作者 徐静平 余岳辉 《微电子学》 CAS CSCD 1994年第2期61-65,共5页
本文详细研究了退火方式和条件对多晶硅膜结构、电性能以及多晶硅接触薄发射极的发射极电阻的影响。结果表明,1000℃以上热退火对于减小发射极电阻、降低多晶硅膜的电阻率有利;激光退火不但能减小发射极电阻,导致更低的多晶硅膜... 本文详细研究了退火方式和条件对多晶硅膜结构、电性能以及多晶硅接触薄发射极的发射极电阻的影响。结果表明,1000℃以上热退火对于减小发射极电阻、降低多晶硅膜的电阻率有利;激光退火不但能减小发射极电阻,导致更低的多晶硅膜电阻率,而且还能获得极浅的单晶发射结,在改善薄发射极晶闸管特性方面显示出较大优势。 展开更多
关键词 多晶硅膜 薄发射极 热退火 激光退火
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