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新型电子清洗工艺对半导体表面的清洗效果 被引量:6
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作者 曹宝成 马洪磊 +6 位作者 罗升旭 刘可辛 于新好 杜信荣 福建 李玉香 计锋 《山东大学学报(自然科学版)》 CSCD 1995年第2期174-177,共4页
报告了一种新型电子清洗工艺.该工艺采用了被命名为DZ—1和DZ—2的两种新型电子清洗剂分别与95%体积的去离子水配制成清洗液,先后用超声波清洗.用高频C—V测试和原子吸收光谱分析研究了清洗效果.用该工艺清洗过的硅片生... 报告了一种新型电子清洗工艺.该工艺采用了被命名为DZ—1和DZ—2的两种新型电子清洗剂分别与95%体积的去离子水配制成清洗液,先后用超声波清洗.用高频C—V测试和原子吸收光谱分析研究了清洗效果.用该工艺清洗过的硅片生长的二氧化硅层中固定电荷密度在1010cm-2数量级;去重金属离子能力与常规CMOS/SOS栅氧化工艺相当.新型清洗工艺具有操作简单、价格低廉、且无毒、无腐蚀和对人体无危害、对环境无污染的优点. 展开更多
关键词 半导体表面 清洗工艺 电子清洗剂
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射频磁控溅射法生长Mg_xZn_(1-x)O薄膜的结构和光学特性 被引量:1
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作者 张锡健 马洪磊 +4 位作者 王卿璞 马瑾 福建 肖洪地 计峰 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期4309-4312,共4页
用射频磁控溅射法在80℃的衬底温度下制备出MgxZn1-xO(0≤x≤0.30)薄膜.x射线衍射(XRD)结果表明,MgxZn1-xO薄膜为单相六角纤锌矿结构,没有形成任何显著的MgO分离相,MgxZn1-xO薄膜的择优取向平行于与衬底垂直的c轴;c轴晶格常数随着Mg含... 用射频磁控溅射法在80℃的衬底温度下制备出MgxZn1-xO(0≤x≤0.30)薄膜.x射线衍射(XRD)结果表明,MgxZn1-xO薄膜为单相六角纤锌矿结构,没有形成任何显著的MgO分离相,MgxZn1-xO薄膜的择优取向平行于与衬底垂直的c轴;c轴晶格常数随着Mg含量的增加逐渐减小.在MgxZn1-xO薄膜的光透射谱中出现锐利的吸收边,由透射谱估算出MgxZn1-xO薄膜的带隙宽度由3.32eV(x=0)线性地增加到3.96eV(x=0.30). 展开更多
关键词 MgxZn1-xO薄膜 射频磁控溅射 Mg含量 纤锌矿结构 薄膜 光学特性 生长 衬底温度 光透射谱 X射线衍射 择优取向
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氮化锌粉末的制备和结构性质 被引量:3
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作者 福建 马洪磊 +5 位作者 薛成山 庄惠照 张锡建 马瑾 计峰 肖洪地 《中国科学(G辑)》 CSCD 2004年第6期610-619,共10页
将Zn粉末置于流量为500mL/min的NH3气流中,在600℃氮化温度下氮化120min的最佳条件下,制备出高质量的Zn3N2粉末.用x射线衍射(XRD)测量了Zn3N2粉末的结构,Zn3N2粉末是具有立方结构的晶体,其晶格常数a为0.9788nm.用扫描电子显微镜(SEM)观... 将Zn粉末置于流量为500mL/min的NH3气流中,在600℃氮化温度下氮化120min的最佳条件下,制备出高质量的Zn3N2粉末.用x射线衍射(XRD)测量了Zn3N2粉末的结构,Zn3N2粉末是具有立方结构的晶体,其晶格常数a为0.9788nm.用扫描电子显微镜(SEM)观察了Zn3N2粉末的表面形貌,发现Zn3N2粉末具有非常丰富的晶粒表面形貌.用透射电子显微镜(TEM)验证了晶粒形状的多样性.X射线光电子谱(XPS)表明Zn3N2的化学键状态与ZnO及金属Zn明显不同,表明N-Zn键的形成.用计算机模拟了Zn3N2晶体的立体结构,用高分辨电子显微镜(HRTEM)观察了Zn3N2粉末的内部结构,观察结果与Partin等提出的Zn3N2结构模型符合很好. 展开更多
关键词 氮化锌 粉末制备 结构性质 氮化法 X射线衍射 光电子谱 半导体材料
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新型电子清洗工艺 被引量:4
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作者 马洪磊 曹宝成 +1 位作者 福建 李玉香 《微电子技术》 1997年第1期60-61,共2页
关键词 电子清洗工艺 工业废水 排放标准 电子工业
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溅射法生长Mg_xZn_(1-x_O薄膜的结构和光学特性 被引量:1
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作者 张锡健 马洪磊 +5 位作者 王卿璞 马瑾 福建 肖洪地 计峰 王翠英 《功能材料与器件学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期11-14,共4页
用射频磁控溅射法在不同衬底上制备出了MgxZn1-xO薄膜。X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)研究结果表明,薄膜为六角纤锌矿结构,具有(002)方向择优取向;随氧分压增加,(002)衍射峰的角度变大,表征薄膜表面粗糙程度的方均根粗糙度减小。... 用射频磁控溅射法在不同衬底上制备出了MgxZn1-xO薄膜。X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)研究结果表明,薄膜为六角纤锌矿结构,具有(002)方向择优取向;随氧分压增加,(002)衍射峰的角度变大,表征薄膜表面粗糙程度的方均根粗糙度减小。室温光致发光谱中有多个紫外及可见光致发光峰,其中344nm发光峰应来源于近带边发射。室温透射谱表明薄膜在可见光区具有极高的透过率,薄膜的吸收边位于340nm附近,进而估算出MgxZn1-xO薄膜的带隙宽度为3.59eV,与光致发光结果一致。 展开更多
关键词 MgxZn1-xO薄膜 射频磁控溅射 光致发光
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The Convergence Characteristic of the Forward I-V Characteristic Curves of a Semiconductor Silicon Barrier at Different Temperatures
6
作者 苗庆海 卢烁今 +2 位作者 张兴华 福建 朱阳军 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期663-667,共5页
The /-V-(T) characteristic curves of p-n junctions with the forward voltage as the independent variable, the logarithm of forward current as the dependent variable, and the junction temperature as the parameter, alm... The /-V-(T) characteristic curves of p-n junctions with the forward voltage as the independent variable, the logarithm of forward current as the dependent variable, and the junction temperature as the parameter, almost converge at one point in the first quadrant. The voltage corresponding with the convergence point nearly equals the bandgap of the semiconductor material. This convergence point can be used to obtain the I-V characteristic curve at any temperature. 展开更多
关键词 semiconductor barrier bandgap convergent point forward I-V characteristic curves
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二氧化锡纳米线的生长机理研究
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作者 福建 李立君 +5 位作者 崔晓东 马洪磊 马瑾 张锡健 计峰 肖洪地 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A07期2662-2665,共4页
使用水平石英管式电炉,以二氧化锡和石墨的混合物为原材料、高纯氮气为载气,在850℃温度下用直接热蒸发法制备二氧化锡纳米线.衬底硅片的直径为10mm,其上覆盖一层5nm厚的金催化剂.原材料放在石英舟中,离原材料30mm的下风口处放置... 使用水平石英管式电炉,以二氧化锡和石墨的混合物为原材料、高纯氮气为载气,在850℃温度下用直接热蒸发法制备二氧化锡纳米线.衬底硅片的直径为10mm,其上覆盖一层5nm厚的金催化剂.原材料放在石英舟中,离原材料30mm的下风口处放置硅衬底,原材料和硅衬底都放置在石英管的中部电炉的恒温区内.用扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)观察到二氧化锡的纳米线结构;X射线衍射(XRD)表明二氧化锡纳米线具有四方金红石结构;选区电子衍射(SAED)照片表明二氧化锡纳米线具有完善的晶体结构.不同生长时间下制备样品的扫描电子显微镜和透射电子显微镜照片再现了二氧化锡纳米线的生长过程,该纳米线的生长符合传统的VLS生长机制. 展开更多
关键词 二氧化锡 纳米线 生长机理
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退火温度对低温生长Mg_xZn_(1-x)O薄膜光学性质的影响 被引量:1
8
作者 张锡健 马洪磊 +4 位作者 王卿璞 马瑾 福建 肖洪地 计峰 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期437-440,共4页
用射频磁控溅射法在80℃衬底温度下制备出MgxZn1-xO(x=0·16)薄膜,用X射线衍射(XRD)、光致发光(PL)和透射谱研究了退火温度对MgxZn1-xO薄膜结构和光学性质的影响.测量结果显示,MgxZn1-xO薄膜为单相六角纤锌矿结构,并且具有沿c轴的... 用射频磁控溅射法在80℃衬底温度下制备出MgxZn1-xO(x=0·16)薄膜,用X射线衍射(XRD)、光致发光(PL)和透射谱研究了退火温度对MgxZn1-xO薄膜结构和光学性质的影响.测量结果显示,MgxZn1-xO薄膜为单相六角纤锌矿结构,并且具有沿c轴的择优取向;随着退火温度的升高,(002)XRD峰强度、平均晶粒尺寸和紫外PL峰强度增大,(002)XRD峰半高宽(FWHM)减小.结果证明,用射频磁控溅射法通过适当控制退火温度可得到高质量MgxZn1-xO薄膜. 展开更多
关键词 MgxZn1-xO薄膜 射频磁控溅射 退火
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氮化镓粉末的合成及其结构性质的研究 被引量:1
9
作者 肖洪地 马洪磊 +5 位作者 薛成山 马瑾 福建 张希键 计峰 胡文容 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期221-223,共3页
在950℃氮化温度下,通过β-Ga2O3粉末与流动的NH3反应35min制备出GaN粉末.XRD、XPS、FTIR、TEM的测量结果表明:GaN粉末是六角纤锌矿结构的单晶晶粒,其晶格常数a=0.3191nm,c=0.5192nm;在粉末表面,Ga和N两种元素比约为1:1;GaN晶粒的形状... 在950℃氮化温度下,通过β-Ga2O3粉末与流动的NH3反应35min制备出GaN粉末.XRD、XPS、FTIR、TEM的测量结果表明:GaN粉末是六角纤锌矿结构的单晶晶粒,其晶格常数a=0.3191nm,c=0.5192nm;在粉末表面,Ga和N两种元素比约为1:1;GaN晶粒的形状为棒状. 展开更多
关键词 Ga2O3粉末 GaN粉末 氮化温度
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APCVD方法制备SnO2薄膜的结构和光致发光特性 被引量:1
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作者 计峰 马瑾 +4 位作者 王玉恒 余旭浒 福建 程传福 马洪磊 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期1199-1200,1204,共3页
采用常压化学气相沉积法(APCVD)在玻璃衬底上制备出SnO2薄膜,对薄膜的结构和光致发光性质及退火处理对薄膜结构和发光特性的影响进行了研究.制备SnO2薄膜为六角金红石结构,最大晶粒尺寸约为1000nm.室温光致发光(PL)谱测量表明,在396nm... 采用常压化学气相沉积法(APCVD)在玻璃衬底上制备出SnO2薄膜,对薄膜的结构和光致发光性质及退火处理对薄膜结构和发光特性的影响进行了研究.制备SnO2薄膜为六角金红石结构,最大晶粒尺寸约为1000nm.室温光致发光(PL)谱测量表明,在396nm处存在强的发光峰.研究了退火处理对发光性质的影响,并对辐射机理进行了探索. 展开更多
关键词 APCVD 氧化锡薄膜 光致发光
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ZnO:Ga透明导电膜的低温制备及特性研究
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作者 余旭浒 马瑾 +5 位作者 计峰 王玉恒 福建 张锡健 程传福 马洪磊 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期1131-1133,共3页
采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上低温制备出高质量的镓掺杂氧化锌(ZnO:Ga)透明导电膜,对薄膜的结构和光电特性以及制备参数对薄膜性能的影响进行了研究.制备的ZnO:Ga是具有六角纤锌矿结构的多晶薄膜,最佳择优取向为(002)方向.薄膜的最... 采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上低温制备出高质量的镓掺杂氧化锌(ZnO:Ga)透明导电膜,对薄膜的结构和光电特性以及制备参数对薄膜性能的影响进行了研究.制备的ZnO:Ga是具有六角纤锌矿结构的多晶薄膜,最佳择优取向为(002)方向.薄膜的最低电阻率达到了3.9×10-4Ωcm,方块电阻~4.6Ω/□,薄膜具有良好的附着性,在可见光区的平均透过率达到90%以上. 展开更多
关键词 磁控溅射 ZNO:GA 光电特性
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粒状氮化镓微晶的合成及其结构性能的研究
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作者 肖洪地 马洪磊 +4 位作者 薛成山 胡文容 马瑾 福建 张锡健 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期1411-1414,共4页
在950℃的氮化温度下,通过单氢氧化镓(GaO2H)粉末与流动的NH3反应35min制备出粒状GaN微晶。通过X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)研究发现,GaN粉末是六角纤锌矿结构的粒状微晶,其晶格常数a和c分别为0.3191nm和0.5192nm。X射线光电子能谱(X... 在950℃的氮化温度下,通过单氢氧化镓(GaO2H)粉末与流动的NH3反应35min制备出粒状GaN微晶。通过X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)研究发现,GaN粉末是六角纤锌矿结构的粒状微晶,其晶格常数a和c分别为0.3191nm和0.5192nm。X射线光电子能谱(XPS)揭示试样中有Ga-N键形成,Ga与N两元素比为1∶1。 展开更多
关键词 GaO2H粉末 粒状GaN微晶 氮化温度
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退火温度对射频磁控溅射法生长的Mg0.16Zn0.84O薄膜性质的影响
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作者 张锡健 马洪磊 +4 位作者 王卿璞 马瑾 福建 肖洪地 计峰 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期1196-1198,共3页
采用射频磁控溅射的方法在硅衬底上生长出高质量的Mg0.16Zn0.84O薄膜.用X射线(XRD)、原子力显微镜(AFM)分别研究了在200、400、600和800℃下空气中退火2h的Mg0.16Zn0 84O薄膜的结构、表面形貌.结果表明,Mg0.16Zn0.84O薄膜是六角纤锌矿结... 采用射频磁控溅射的方法在硅衬底上生长出高质量的Mg0.16Zn0.84O薄膜.用X射线(XRD)、原子力显微镜(AFM)分别研究了在200、400、600和800℃下空气中退火2h的Mg0.16Zn0 84O薄膜的结构、表面形貌.结果表明,Mg0.16Zn0.84O薄膜是六角纤锌矿结构,具有沿与衬底垂直的C轴的择优取向;随着样品退火温度的升高,(002)衍射峰强度明显增强,衍射峰半高宽(FWHM)由0.86°单调地降低到0.40°,晶粒大小明显增大,最大的高达400nm以上.用TV1900型双光束紫外可见分光光度计测量了淀积在蓝宝石衬底上的Mg0.16Zn0.84O薄膜室温的透射谱,得到可见光区的平均透过率约为95%,进而估算出Mg0.16Zn0.84O薄膜的带隙宽度约为3.58eV. 展开更多
关键词 MgZn1-xO薄膜 AFM XRD 退火
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溅射功率和淀积时间对Mg_xZn_(1-x)O薄膜结构特性的影响
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作者 张锡健 马洪磊 +4 位作者 王卿璞 马瑾 福建 肖洪地 计峰 《山东大学学报(理学版)》 CAS CSCD 北大核心 2005年第3期49-52,共4页
用射频磁控溅射法在硅衬底上制备出MgxZn1xO薄膜,研究了溅射功率和淀积时间对薄膜结构特性的影响.X射线衍射(XRD)谱和原子力显微镜(AFM)图像表明:MgxZn1xO薄膜为六角纤锌矿结构,且具有非常好的沿垂直于衬底的c轴的择优取向.随着溅射功... 用射频磁控溅射法在硅衬底上制备出MgxZn1xO薄膜,研究了溅射功率和淀积时间对薄膜结构特性的影响.X射线衍射(XRD)谱和原子力显微镜(AFM)图像表明:MgxZn1xO薄膜为六角纤锌矿结构,且具有非常好的沿垂直于衬底的c轴的择优取向.随着溅射功率和淀积时间的增加,X射线衍射峰的衍射角变大,半高宽(FWHM)减小,平均晶粒尺寸增加,薄膜结晶质量显著提高. 展开更多
关键词 MgxZn1-x O薄膜 射频磁控溅射 XRD AFM
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氮化锌粉末的结构和化学键状态
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作者 福建 马洪磊 +5 位作者 薛成山 杜伟 张锡建 马瑾 计峰 肖洪地 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期55-58,共4页
将Zn粉末置于流量为500ml/min的NH3气流中,在600℃氮化120min,制备出高质量的Zn3N2粉末。X射线衍射(XRD)表明Zn3N2粉末具有立方结构,其晶格常数为0.9788nm。扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)观察发现Zn3N2粉末晶粒形状具有多... 将Zn粉末置于流量为500ml/min的NH3气流中,在600℃氮化120min,制备出高质量的Zn3N2粉末。X射线衍射(XRD)表明Zn3N2粉末具有立方结构,其晶格常数为0.9788nm。扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)观察发现Zn3N2粉末晶粒形状具有多样性。X射线光电子谱(XPS)表明Zn3N2的化学键状态与ZnO及金属Zn明显不同,表明N-Zn键的形成。用计算机模拟了Zn3N2晶体的立体结构,用高分辨电子显微镜(HRTEM)观察了Zn3N2粉末的内部结构,观察结果与Partin等提出的Zn3N2结构模型相符合。 展开更多
关键词 氮化法 Zn3N2 结构 化学键状态
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液晶显示器的替代ODS清洗技术研究
16
作者 刘建强 李玉香 +3 位作者 李强 福建 肖洪地 马洪磊 《山东大学学报(理学版)》 CAS CSCD 北大核心 2004年第6期105-107,共3页
液晶显示器行业目前一般采用ODS溶剂清洗 .对一种新型水基替代ODS清洗技术进行了研究 ,利用X射线光电子谱的测试方法 ,比较用两种清洗技术清洗过的样品 ,结果表明 ,新型替代清洗技术优于传统ODS清洗技术 .
关键词 液晶显示器 替代ODS 清洗技术 X射线光电子谱
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新型电子工业清洗工艺研究 被引量:1
17
作者 曹宝成 马洪磊 +1 位作者 福建 李玉香 《山东电子》 1998年第4期26-27,共2页
本文报告了一种新型电子工业清洗工艺。用该工艺清洗过的硅片上的钠残留量低于常规cmos/sos栅氧化工艺,去重金属离子的能力及对器件参数的影响与常规cmos/sos栅氧化工艺相当。新型清洗工艺具有操作简单,价格低廉等优... 本文报告了一种新型电子工业清洗工艺。用该工艺清洗过的硅片上的钠残留量低于常规cmos/sos栅氧化工艺,去重金属离子的能力及对器件参数的影响与常规cmos/sos栅氧化工艺相当。新型清洗工艺具有操作简单,价格低廉等优点,无毒,无腐蚀性,对人体无危害,对环境无污染。 展开更多
关键词 清洗工艺 半导体 硅片 栅氧化工艺
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Structure Properties of MgxZn1-xO Films Deposited at Low Temperature
18
作者 张锡健 马洪磊 +4 位作者 王卿璞 马谨 福建 肖洪地 计峰 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2005年第4期995-997,共3页
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Theoretical study of stereodynamics for the reaction O(3P) +D2 (v=0, j=0) →OD+D and isotope effect
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作者 许增慧 福建 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第6期189-196,共8页
Quasi-classical trajectory (QCT) calculations have been performed to study the product polarization behaviours in the reaction O(3p) + D2 (v = 0, j = 0) → OD + D. By running trajectories on the 3A′ and 3A″p... Quasi-classical trajectory (QCT) calculations have been performed to study the product polarization behaviours in the reaction O(3p) + D2 (v = 0, j = 0) → OD + D. By running trajectories on the 3A′ and 3A″potential energy surfaces (PESs), vector correlations such as the distributions of the polarization-dependent differential cross sections (PDDCSs), the angular distributions of P(θr) and P(Фr) are presented. Isotope effect is discussed in this work by a comprehensive comparison with the reaction O(3p) + H2 (v = 0, j = 0) → H + H. Common characteristics as well as differences are discussed in product alignment and orientation for the two reactions. The isotope mass effect differs on the two potential energy surfaces: the isotope mass effect has stronger influence on P(θr) and PDDCSs of the 3A′ PES while the opposite on P(Фr) of the 3A′ potential energy surface. 展开更多
关键词 chemical stereodynamics quasiclassical trajectory calculation isotope effect vector correlation
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The optical properties of MgxZnl-xO thin films
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作者 张锡健 马洪磊 +4 位作者 李玉香 王卿璞 马瑾 福建 肖洪地 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第10期2385-2388,共4页
MgxZn1-xO thin films have been prepared on silicon substrates by radio frequency magnetron sputtering at 60℃. The thin films have hexagonal wurtzite single-phase structure and a preferred orientation with the c-axis ... MgxZn1-xO thin films have been prepared on silicon substrates by radio frequency magnetron sputtering at 60℃. The thin films have hexagonal wurtzite single-phase structure and a preferred orientation with the c-axis perpendicular to the substrates. The refractive indices of MgxZn1-xO films are studied at room temperature by spectroscopic ellipsometry over the wavelength range of 400-760nm at the incident angle of 70°. Both absorption coefficients and optical band gaps of MgxZn1-xO films are determined by the transmittance spectra. While Mg content is increasing, the absorption edges of MgxZn1-xO films shift to higher energies and band gaps linearly increase from 3.24. eV at x=0 to 3.90 eV at x=0.30. These results provide important information for the design and modelling of ZnO/ MgxZn1-xO heterostructure optoelectronic devices. 展开更多
关键词 MgxZn1-xO films optical properties SPUTTERING
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