期刊文献+

退火温度对射频磁控溅射法生长的Mg0.16Zn0.84O薄膜性质的影响

The influence of annealing temperature on properties of Mg0.16Zn0.84O films deposited by radio frequency magnetron sputtering
下载PDF
导出
摘要 采用射频磁控溅射的方法在硅衬底上生长出高质量的Mg0.16Zn0.84O薄膜.用X射线(XRD)、原子力显微镜(AFM)分别研究了在200、400、600和800℃下空气中退火2h的Mg0.16Zn0 84O薄膜的结构、表面形貌.结果表明,Mg0.16Zn0.84O薄膜是六角纤锌矿结构,具有沿与衬底垂直的C轴的择优取向;随着样品退火温度的升高,(002)衍射峰强度明显增强,衍射峰半高宽(FWHM)由0.86°单调地降低到0.40°,晶粒大小明显增大,最大的高达400nm以上.用TV1900型双光束紫外可见分光光度计测量了淀积在蓝宝石衬底上的Mg0.16Zn0.84O薄膜室温的透射谱,得到可见光区的平均透过率约为95%,进而估算出Mg0.16Zn0.84O薄膜的带隙宽度约为3.58eV.
机构地区 山东大学
出处 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期1196-1198,共3页 Journal of Functional Materials
基金 教育部博士点基金资助项目(20020422056)
  • 相关文献

参考文献15

  • 1[1]Kong Y C, Yu D P, Zhang B, et al. [J]. Appl Phys Lett, 2001,78 (4): 407. 被引量:1
  • 2[2]Lee G H, Yamamoto Y, Kourogi M, et al. [J]. Thin Solid Films, 2001, 386:117 被引量:1
  • 3[3]Matsumoto Y J, Murakami M, Jin Z W, et al. [J]. Jpn J Appl Phys, 1999, 38: L603. 被引量:1
  • 4[4]Ohtomo A, Kawasaki M, Koida T, et al. [J]. Appl Phys Lett,1998, 72 (19): 2466. 被引量:1
  • 5[5]Sharma A K, Narayan J, Muth J F, et al. [J]. Appl Phys Lett,1999, 75 (21): 3327. 被引量:1
  • 6[6]Teng C W, Muth J F. [J]. Appl Phys Lett, 2000, 76 (8): 979. 被引量:1
  • 7[7]Park W I, Yi G C, Jang H M. [J]. Appl Phys Lett, 2001, 79(13): 2022. 被引量:1
  • 8[8]Zhao D X, Liu Y C, Shen D Z, et al. [J]. J Appl Phys, 2001,90 (11): 5561. 被引量:1
  • 9[9]Muthukumar S, Zhong J, Chen Y, Lu Y. [J]. Appl Phys Lett,2003, 82 (5): 742. 被引量:1
  • 10[10]Ogata K, Koike K, Tanite T, et al. [J]. J Cryst Growth, 2003,251:623. 被引量:1

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部