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亚50nm双栅MOS场效应晶体管的流体动力学模拟

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摘要 利用自主开发的流体动力学模拟软件对亚50nm沟长双栅MOS场效应晶体管的特性进行了模拟,比较了不同沟道长度时电子温度和漂移速度沿沟道方向的分布,并讨论了器件的短沟效应。
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第B05期144-147,共4页 半导体学报(英文版)
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参考文献5

  • 1Wong H S P,Frank D J,Solomon P M.NanoscaleCMOS.Proceedings of the IEEE,1999,87(4):537 被引量:1
  • 2Ieong M,Wong H S P.High performance double-gate device technology:challenges and opportunities.Proceedings of International Symposium on Quality Electronic Design,2002:492 被引量:1
  • 3王晓晖,汤庭鳌,黄宜平.双栅MOS场效应管精确的二维电势分布与V_(th)的解析模型[J].固体电子学研究与进展,1994,14(4):328-334. 被引量:3
  • 4李志坚,周润德主编..ULSI 器件、电路与系统[M].北京:科学出版社,2000:612.
  • 5Rudan M,Odeh F.Multi-dimensional discretization scheme for the hydrodynamic model of semiconductor equations.COMPEL,1986,5(3):149 被引量:1

共引文献2

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