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混合集成电路金属浅腔插入式外壳镀金

Gold Plating on Shallow Chamber Plug-In Type Metallic Package for Hybrid Integrated Circuits
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出处 《电镀与环保》 CAS CSCD 2003年第5期11-13,共3页 Electroplating & Pollution Control
  • 相关文献

参考文献5

  • 1柳玉波主编..表面处理工艺大全[M].北京:中国计量出版社,1996:661.
  • 2表面处理工艺手册编委会.表面处理工艺手册[M].上海:上海科学技术出版社,1991.102. 被引量:3
  • 3《电镀手册》编写组编..电镀手册 上[M].北京:国防工业出版社,1977:952.
  • 4许维源.金属及陶瓷集成电路外壳电镀技术讲座[Z].,2002.10. 被引量:1
  • 5向国朴编著..脉冲电镀的理论与应用[M].天津:天津科学技术出版社,1989:142.

共引文献2

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