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平板式外延炉大尺寸硅外延层的均匀性调控

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摘要随着现代电子技术的飞速发展,电子元件的精细化程度也不断提高,加工工艺水平直接决定了电子元件的性能。本文结合平板式外延炉大尺寸硅外延层的均匀性调控展开研究,通过实验方法阐述150mm大尺寸硅抛光片硅外延层特征,分别展开厚度均匀性、电阻率均匀性两大部分的调控方法总结。

作者康军亮

机构地区河北普兴电子科技股份有限公司

出处《科技风》 2019年第9期78-78,共1页

关键词平板式外延炉硅外延层均匀性调控方法

分类号 TN605 [电子电信—电路与系统]

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