摘要
高纯氯化氢用途广泛,不仅是集成电路生产中硅片刻蚀、钝化、外延、气相抛光、吸杂和洁净处理等工艺的重要材料,也可用于金属冶炼,光导通讯和科学研究等领域。近年来,随着集成电路产业的飞速发展,对高纯氯化氢的需求量大增的同时,对于产品纯度的要求也是越来越高。本文主要从氯化氢的理化性质、用途及主要的制备方法入手,对目前几种常用的氯化氢的制备工艺技术及研究进展进行总结,以期对我国高纯氯化氢的制备和技术提升提供参考。
作者
张征
陈辉
张园园
杨典
刘凤华
ZHANG Zheng;CHEN Hui;ZHANG Yuan-yuan;YANG Dian;LIU Feng-hua
出处
《中国检验检测》
2021年第3期13-15,共3页
China Inspection Body & Laboratory
基金
国家重点研发计划资助(2019YFF0216802)
湖南省科技创新计划资助(2018XK2008)。
