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衬底温度对共蒸法制备CIGS薄膜结构和形貌的影响

Effects of Substrate Temperature on Structure and Morphology of CIGS Thin Films by Four Sources Co-evaporation Process
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摘要 采用一步共蒸法制备铜铟镓硒(CIGS)薄膜,研究讨论不同衬底温度条件对制得薄膜结构和形貌的影响。薄膜的结构和形貌分别利用X射线衍射(XRD)与扫描电子显微镜(SEM)进行检测。结果表明,衬底温度对CIGS薄膜的生长有很大的影响,当温度为250℃时,开始有CIGS晶相生成;随着温度的升高晶体颗粒逐渐增大;当温度达到450℃时,生成了结晶度较好(112)择优取向的CuIn0.7Ga0.3Se2相,制得的CIGS薄膜初步达到制备CIGS电池的条件。 Cu(In,Ga)Se2(CIGS)thin films were deposited by an one-stage co-evaporation process.This paper mainly discusses the effects of substrate temperature(Tsub)on the structure and morphology of CIGS thin films.The samples were characterized by X-ray diffraction(XRD)and scanning electron microscopy(SEM).The results first show that the Tsubhad a great influence on the growth of CIGS thin film.The grain size increases with increasing Tsub.When Tsubreaches 250℃,the CIGS phase starts to form,but only when the Tsubis as high as 450℃,the GIGS film deposited can preliminarily meet the requirements of CIGS solar cell.
出处 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2015年第3期460-464,共5页 Journal of Materials Science and Engineering
关键词 CIGS 一步法 薄膜太阳电池 衬底温度 CIGS one-stage process thin film solar cell substrate temperature
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