离子束辅助沉积设备的研制被引量：5

Development of the Equipment for Ion Beam Assisted Deposition

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摘要本文介绍了离子束辅助沉积设备的结构、工作原理、设备性能以及工艺试验初步。 Abstract In this paper, the principle, structure and characteristics of the equipment for ion beam assisted deposition are introduced, the original experiments are given.

作者林美娟朱启良

机构地区机械工业部北京机械工业自动化研究所

出处《真空》 CAS 北大核心 1998年第6期33-35,共3页 Vacuum

关键词离子束辅助沉积设备原理工艺试验薄膜

分类号 TB43 [一般工业技术] O484 [理学—固体物理]

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