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Si-SiGe/SiHBT真流特性的解析模型与模拟

Analytical Models and Simulation of DC Characteristics of Si/SiGe/Si HBTs
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摘要 在考虑了重掺杂效应、异质结势垒效应、各物理量随温度变化以及背注入空穴电流、BE结空间电荷区复合电流、中性基区复合电流对基极电流贡献后,对Si/SiGe/SiHBT的常温和低温直流特性进行了解析模拟.给出了T=77K和300K时的Si/SiGeHBTGummel图和电流增益β与集电极电流密度Jc的关系.研究了基区少子寿命对的影响.模拟显示,Si/SiGe/SiHBT在小电流和中等电流下有良好的常温和低温直流特性,在大电流下,由于异质结势垒效应的存在,电流增益β严重退化.
出处 《北京工业大学学报》 CAS CSCD 1998年第2期32-38,共7页 Journal of Beijing University of Technology
基金 国家教委博士点基金 北京市科技新星计划基金
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