期刊导航
期刊开放获取
cqvip
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
KLA-TENCOR推出用于测量等离子室效应的PLASMAVOLT X2
下载PDF
职称材料
导出
摘要
KLA-Tencor公司新近推出了PlasmaVolt^TM X2,可用于在半导体晶圆处理系统中测量等离子室的状况。由于增加了内嵌式传感器数量,且空间分辨率得到改善,Plasma Volt X2对各种参数的变化极为敏感,例如无线电频率(RF)功率、气流、磁场及等离子室设计。
出处
《电子工业专用设备》
2008年第11期73-74,共2页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
KLA-Tencor公司
离子室
测量
PLASMA
空间分辨率
无线电频率
半导体
传感器
分类号
TN407 [电子电信—微电子学与固体电子学]
TU998.1 [建筑科学—市政工程]
引文网络
相关文献
节点文献
二级参考文献
0
参考文献
0
共引文献
0
同被引文献
0
引证文献
0
二级引证文献
0
1
KLA-Tencor公司介绍[J]
.电子工业专用设备,2017,0(1):69-72.
2
KLA-Tencor推出最新光罩检测技术[J]
.电子与电脑,2008,8(5):80-80.
3
KLA-Tencor公司收购了ICOS[J]
.激光与光电子学进展,2008,45(4):7-7.
4
KLA-Tencor新光罩检测技术可执行多缺陷检测[J]
.电子与电脑,2008,8(10):75-75.
5
KLA-TENCOR推出全新控片检测系统SURFSCAN SP2^(XP) 可加快4X nm以上的芯片生产和3X nm以下的芯片开发[J]
.电子工业专用设备,2008,37(9):75-75.
6
KLA-Tencor将光刻覆盖控制扩展到65nm节点以下[J]
.电子工业专用设备,2005,34(8):68-69.
7
KLA-Tencor推出可解决二次成像挑战的首款计算光刻机[J]
.电子与电脑,2008,8(8):53-53.
8
EDA[J]
.电子设计应用,2005(12):143-144.
9
HOU Shi-gang,WANG Feng.
Development of a Preamplifier for Ion Chamber Detector[J]
.Annual Report of China Institute of Atomic Energy,2009(1):56-57.
10
KLA-TENCOR首推速度最快电子束检测系统[J]
.电子质量,2003(8):19-19.
电子工业专用设备
2008年 第11期
职称评审材料打包下载
相关作者
内容加载中请稍等...
相关机构
内容加载中请稍等...
相关主题
内容加载中请稍等...
浏览历史
内容加载中请稍等...
;
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部