期刊导航
期刊开放获取
cqvip
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
KLA-Tencor将光刻覆盖控制扩展到65nm节点以下
下载PDF
职称材料
导出
摘要
KLA-Tencor公司日前正式推出业界最新的覆盖计量解决方案——Archer AIM+系统,该系统专门用于满足芯片制造商对65nm节点以下的光刻覆盖控制要求。Archer AIM+基于作为业界基准的Archer加工平台,与KLA-Tencor的上一代Archer AIM系统相比,
出处
《电子工业专用设备》
2005年第8期68-69,共2页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
控制要求
覆盖
KLA-Tencor公司
节点
光刻
扩展
IM系统
解决方案
加工平台
分类号
TN407 [电子电信—微电子学与固体电子学]
TH724 [机械工程—仪器科学与技术]
引文网络
相关文献
节点文献
二级参考文献
0
参考文献
0
共引文献
0
同被引文献
0
引证文献
0
二级引证文献
0
1
KLA-Tencor推出叠对计量Archer AIM+系统[J]
.电子测试(新电子),2005(7):92-92.
2
通过ARCHER AIM+系统,KLA—TENCOR将光刻叠对控制扩展到65纳米节点以下Archer AIM+系统[J]
.电子与电脑,2005,5(8):148-148.
3
KLA-Tencor公司介绍[J]
.电子工业专用设备,2017,0(1):69-72.
4
KLA-Tencor推出最新光罩检测技术[J]
.电子与电脑,2008,8(5):80-80.
5
KLA-Tencor公司收购了ICOS[J]
.激光与光电子学进展,2008,45(4):7-7.
6
KLA-Tencor新光罩检测技术可执行多缺陷检测[J]
.电子与电脑,2008,8(10):75-75.
7
KLA-TENCOR推出全新控片检测系统SURFSCAN SP2^(XP) 可加快4X nm以上的芯片生产和3X nm以下的芯片开发[J]
.电子工业专用设备,2008,37(9):75-75.
8
KLA-Tencor推出可解决二次成像挑战的首款计算光刻机[J]
.电子与电脑,2008,8(8):53-53.
9
EDA[J]
.电子设计应用,2005(12):143-144.
10
KLA—TENCOR针对科学与太阳能测量需求推出新型P-6表面轮廓仪系统[J]
.电子工业专用设备,2008,37(8):72-72.
电子工业专用设备
2005年 第8期
职称评审材料打包下载
相关作者
内容加载中请稍等...
相关机构
内容加载中请稍等...
相关主题
内容加载中请稍等...
浏览历史
内容加载中请稍等...
;
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部