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KLA-Tencor推出最新光罩检测技术
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摘要
KLA-Tencor公司推出其称为“晶片平面光罩检测”(Wafer Plane Inspection,WPI)的最新光罩检测技术。该技术系业界首次在单一系统上提供既可查找光罩上的所有缺陷。
出处
《电子与电脑》
2008年第5期80-80,共1页
Compotech
关键词
检测技术
光罩
KLA-Tencor公司
单一系统
晶片
缺陷
分类号
TP332 [自动化与计算机技术—计算机系统结构]
TN407 [自动化与计算机技术—计算机科学与技术]
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参考文献
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0
同被引文献
0
引证文献
0
二级引证文献
0
1
KLA-Tencor新光罩检测技术可执行多缺陷检测[J]
.电子与电脑,2008,8(10):75-75.
2
KLA-Tencor将WPI技术优势推广到所有光罩类型[J]
.电子工业专用设备,2008,37(10):66-67.
3
突破性的KLA—Tencor技术-通过识别可印刷缺陷实现高等级光罩检测[J]
.电子工业专用设备,2008,37(5):69-70.
4
KLA-Tencor全新掩膜检测系统问世TeraFab家族三款新品齐亮相[J]
.电子工业专用设备,2008,37(2):57-57.
5
KLA-Tencor推出达到45nm晶片几何度量要求的解决方案[J]
.电子工业专用设备,2007,36(12):68-68.
6
KLA-Tencor公司介绍[J]
.电子工业专用设备,2017,0(1):69-72.
7
KLA-TENCOR推出全新控片检测系统SURFSCAN SP2^(XP) 可加快4X nm以上的芯片生产和3X nm以下的芯片开发[J]
.电子工业专用设备,2008,37(9):75-75.
8
KLA-Tencor公司收购了ICOS[J]
.激光与光电子学进展,2008,45(4):7-7.
9
梅国平.
SMG在系统互联互通方面的思考[J]
.世界广播电视,2006,20(5):93-93.
10
KLA-TENCOR推出磁盘驱动器基片和盘片缺陷检查的新技术[J]
.电子工业专用设备,2008,37(10):70-70.
电子与电脑
2008年 第5期
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