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新的用于磷化铟化学机械抛光的碱性氧化剂 被引量：2

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摘要 分析了以前各种InP抛光工艺中的缺陷,研究了磷化铟单晶片在各种不同的碱性溶液中的氧化情况,在此基础之上,提出了一种新的氧化剂,NaOH-H_2O_2用来配制InP的碱性抛光液。碱金属离子催化氧化机制被提出并用来解释InP在碱性溶液中的氧化现象。
作者 蒋伟
机构地区 中国科学院半导体研究所
出处 《表面技术》 EI CAS CSCD 1996年第3期38-40,共3页 Surface Technology
关键词 磷化铟 机械抛光 氧化剂 半导体材料
分类号 TN304.23 [电子电信—物理电子学]
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引证文献2

二级引证文献8

表面技术
1996年 第3期

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