薄膜材料与薄膜技术的发展动向被引量：8

Development Trends of Thin Film Materials and Technology

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摘要综述了最近几年薄膜技术，特别是几种新型薄膜材料的发展动向。 Development trends of thin film techrtology. in particular some new kinds of thin film materials in several years are surveyed.

作者杨邦朝

机构地区电子科技大学信息材料工程学院

出处《电子元件与材料》 CAS CSCD 1994年第5期1-6,共6页 Electronic Components And Materials

关键词薄膜材料薄膜制造溅射 thin film material,thin film technology, development trend.

分类号 TN304.055 [电子电信—物理电子学]

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相关文献

参考文献3

1曲喜新.微电子技术中的薄膜材料[J].物理,1991,20(6):350-355. 被引量：6
2杨邦朝,王文生编著..薄膜物理与技术[M].成都:电子科技大学出版社,1994:237.
3田民波,刘德令编译..薄膜科学与技术手册上[M].北京:机械工业出版社,1991:787.

共引文献5

1曲喜新.现代电阻薄膜[J].电子元件与材料,1995,14(4):1-9. 被引量：8
2李宇宙,薛红.硝烟弥漫外太空——全球“天军”建设扫描[J].飞航导弹,2006(11):59-63.
3曲喜新.电容器的发展方向[J].电子元件与材料,1991,10(3):1-7.
4李运良,董庆祥,方炎.自组装双分子基传感器的光电子学及光谱学研究[J].光散射学报,2000,12(4):187-202. 被引量：2
5曲喜新,严康宁,张鹰.SnO_2超微粒薄膜多功能气体传感器[J].电子元件与材料,1992,11(2):16-20. 被引量：3

同被引文献60

1周继承,彭银桥.Effects of heat treatment process on thin film alloy resistance and its stability[J].Journal of Central South University of Technology,2003,10(2):91-93. 被引量：1
2邸英浩,曹晓明.真空镀膜技术的现状及进展[J].天津冶金,2004(5):45-48. 被引量：38
3杨于兴,胡赓祥.薄膜X射线应力分析技术的研究[J].上海交通大学学报,1994,28(6):52-58. 被引量：19
4曲喜新.现代电阻薄膜[J].电子元件与材料,1995,14(4):1-9. 被引量：8
5李科杰.传感器最新进展和技术动向[J].传感器世界,1996,2(5):13-24. 被引量：12
6于志伟,黑祖昆,马永庆,王亮.采用Seemann－Bohlin准聚焦X射线衍射仪测量薄膜厚度的误差理论分析[J].分析测试学报,1996,15(5):35-38. 被引量：1
7董宏奎,赵建华,林日乐,胡纳新,陈川贵.薄膜均匀性的分析研究[J].压电与声光,2006,28(5):578-580. 被引量：13
8杨邦朝.薄膜物理与技术[M].成都:电子科技大学出版社,1997,4.174. 被引量：4
9余钊.电子材料与元件[M].成都：电子科技大学出版社,1995.. 被引量：1
10周九林尹树百译.光学薄膜技术[M].北京：国防工业出版社,1974.. 被引量：9

引证文献8

1周继承,晏建武,田莉.热处理对离子束溅射Ni-Cr薄膜性能和结构的影响[J].中南大学学报（自然科学版）,2006,37(5):837-840. 被引量：2
2周继承.Nano-sized Thin Films Fabricated by Ion Beam Sputtering and Its Properties[J].Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science),2007,22(4):600-602.
3温才,令勇洲,李文俊,刘虹,寇采懿,蒋耀,唐金龙.真空蒸镀氟化镁增透膜的厚度与均匀性控制[J].材料导报,2012,26(22):5-9. 被引量：1
4戚云娟,邓勇生.提高Ni-Cr合金薄膜电阻稳定性的工艺研究[J].表面技术,2018,47(8):276-279. 被引量：2
5黄良芳,亓昭鹏,李长江.以PMMA为基质的DMIT化合物复合薄膜的制备及性能研究[J].黄山学院学报,2021,23(3):42-45.
6陈祝,杨成韬,张树人,杨邦朝.氧对铅锡碲薄膜电阻率的影响[J].电子元件与材料,2003,22(7):11-13.
7夏德宏,吴永红,李树柯.薄膜材料的热辐射穿透深度研究[J].热科学与技术,2003,2(3):271-274. 被引量：4
8姜传海,叶长青,周健威,吴建生.用X射线应力仪无损检测薄膜材料厚度[J].无损检测,2004,26(2):74-76. 被引量：2

二级引证文献11

1夏德宏,余涛,吴祥宇,张省现.热辐射波在介质内的散射机理[J].北京科技大学学报,2006,28(2):175-178. 被引量：7
2方建锋,唐伟忠,张晋远,郑毅.X射线掠入射法测定金刚石薄膜厚度的研究[J].物理测试,2007,25(4):8-11. 被引量：1
3邓联文,周克省,江建军,冯则坤.电导率对纳米磁性金属膜微波吸收性能的影响[J].中南大学学报（自然科学版）,2008,39(1):59-63. 被引量：6
4廖海,孙年春,冯国英,周传明.532nm激光对面阵和线阵CCD损伤效应实验研究[J].激光技术,2010,34(5):643-646. 被引量：8
5马涛,叶卫平,程旭东,王辉,黄伟,王涛,万倩,王坷,李光磊.等离子喷涂法制备黑铬太阳能选择性吸收涂层[J].材料导报,2012,26(2):63-66. 被引量：5
6孔晶,吴昌,宋鹏涛,谢逸,刘海华.手表蓝宝石玻璃上真空蒸镀增透膜的研究[J].电镀与涂饰,2014,33(15):648-650. 被引量：2
7胡东平,王小龙,唐俐.本底真空对磁控溅射镍铬合金薄膜电阻的影响[J].表面技术,2016,45(7):143-149. 被引量：10
8吕常智,景大智,宋俊.基于FPGA的水溶膜生产裂纹图像识别[J].包装工程,2018,39(7):91-96.
9何迎辉,石慧杰,金忠,谢锋,周国方.溅射薄膜压敏芯体长期稳定性研究[J].电子工艺技术,2020,41(4):215-217. 被引量：1
10郜冉,武文革,宋丁.基于LSSVM和GA的镍铬合金薄膜制备工艺参数优化[J].工具技术,2022,56(4):98-102. 被引量：1

1张佐兰,张言一.新型薄膜材料—AIN[J].山东半导体技术,1994(3):12-17.
2新型导电薄膜将推动柔性屏发展[J].建筑玻璃与工业玻璃,2016,0(7):44-44.
3张玉亮,陶汝华,董伟伟,邓赞红,李达,王涛,赵义平,孟钢,周曙,王金梅,邵景珍,方晓东.新型薄膜材料在激光能量/功率计应用中的新进展[J].激光杂志,2009,30(4):4-6.
4电气和电子工程用材料科学[J].中国无线电电子学文摘,1995(2):3-8.
5栾庆彬,皮孝东.半导体纳米晶体在薄膜晶体管中的应用[J].材料导报,2014,28(21):1-7. 被引量：3

电子元件与材料

1994年第5期

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