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X射线反射(XRR)对薄膜样品厚度的研究 被引量:6
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作者 于吉顺 陆琦 +1 位作者 肖平 张锦化 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期199-201,共3页
X射线的反射(XRR)测量法可精确地确定平行层及其薄膜结构,如测定光滑基体上聚合物膜的特性,包括层的厚度、密度和界面粗糙度。使用X’Pert X射线粉晶衍射仪对单晶硅片上的有机薄膜镀层进行了其厚度的精确测定,测定结果为该单晶硅片上的... X射线的反射(XRR)测量法可精确地确定平行层及其薄膜结构,如测定光滑基体上聚合物膜的特性,包括层的厚度、密度和界面粗糙度。使用X’Pert X射线粉晶衍射仪对单晶硅片上的有机薄膜镀层进行了其厚度的精确测定,测定结果为该单晶硅片上的有机薄膜有3层,其厚度分别为5.0、60.2和245.3nm。并用倒易向量方法计算和验证了测量结果的正确性。还讨论了用X射线反射测定薄膜结构的一些影响因素。 展开更多
关键词 x射线反射 有机薄膜 薄膜厚度测定
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利用透射光谱与X射线反射谱精确测量溶胶-凝胶TiO_2薄膜厚度和光学常数 被引量:6
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作者 贾红宝 孙菁华 +4 位作者 徐耀 吴东 吕海兵 晏良宏 袁晓东 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第8期294-299,共6页
在洁净K9玻璃基底上沉积TiO2薄膜,将透射光谱和X射线反射光谱相结合分析获得膜层的厚度和光学常数。X射线反射谱拟合能精确得到膜层的厚度、电子密度及表面和界面粗糙度,其中膜层厚度的数值为透射光谱的分析提供了重要参考。基于Forouhi... 在洁净K9玻璃基底上沉积TiO2薄膜,将透射光谱和X射线反射光谱相结合分析获得膜层的厚度和光学常数。X射线反射谱拟合能精确得到膜层的厚度、电子密度及表面和界面粗糙度,其中膜层厚度的数值为透射光谱的分析提供了重要参考。基于Forouhi-Bloomer色散模型拟合膜层透射光谱,得到薄膜折射率和消光系数,理论曲线和实验曲线吻合良好。对于同一样品,两种光谱拟合分析得到的厚度数值非常接近,差值最大为4.9nm,说明两种方法的结合能够提高光学分析结果的可靠性。 展开更多
关键词 薄膜 光学常数 透射光谱 x射线反射
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磁控溅射制备Ni/Ti多层膜表面粗糙度 被引量:5
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作者 潘磊 朱京涛 +6 位作者 王晓强 蒋励 李浩川 徐敬 张众 王占山 陈玲燕 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第6期1239-1242,共4页
采用磁控溅射方法制备了周期数分别为10,30,50和75的Ni/Ti多层膜,利用X射线掠入射反射测量了多层膜表面和界面的状态,并用原子力显微镜测量了多层膜的表面粗糙度,研究了不同周期数的Ni/Ti多层膜表面粗糙度的变化规律。结果表明:Ni/Ti多... 采用磁控溅射方法制备了周期数分别为10,30,50和75的Ni/Ti多层膜,利用X射线掠入射反射测量了多层膜表面和界面的状态,并用原子力显微镜测量了多层膜的表面粗糙度,研究了不同周期数的Ni/Ti多层膜表面粗糙度的变化规律。结果表明:Ni/Ti多层膜表面粗糙度随着膜层数增加而增加,当Ni/Ti多层膜的周期数从10变化到75时,其表面粗糙度由0.80 nm增大到1.69 nm。实验数据拟合表明:Ni/Ti多层膜表面粗糙度与周期数成3次方关系;但在周期数较小时,粗糙度与周期数成线性关系。 展开更多
关键词 中子超反射 粗糙度 原子力显微镜 x射线反射
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紫外波段SiO_2/Si_3N_4介质膜分布式布拉格反射镜的制备与研究 被引量:4
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作者 李志成 刘斌 +7 位作者 张荣 张曌 陶涛 谢自力 陈鹏 江若琏 郑有炓 姬小利 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第8期440-445,共6页
采用光学传递矩阵方法设计了紫外波段SiO_2/Si_3N_4介质膜分布式布拉格反射镜,并利用等离子体增强化学气相沉积技术在蓝宝石(0001)衬底上制备了SiO_2/Si_3N_4介质膜分布式布拉格反射镜.光反射测试表明,样品反射谱的峰值波长仅与理论模... 采用光学传递矩阵方法设计了紫外波段SiO_2/Si_3N_4介质膜分布式布拉格反射镜,并利用等离子体增强化学气相沉积技术在蓝宝石(0001)衬底上制备了SiO_2/Si_3N_4介质膜分布式布拉格反射镜.光反射测试表明,样品反射谱的峰值波长仅与理论模拟谱线相差10 nm,并随着反射镜周期数的增加而蓝移.由于SiO_2与Si_3N_4具有相对较大的折射率比,因而制备的周期数为13的样品反射谱的峰值反射率就已大于99%.样品反射谱的中心波长为333 nm,谱峰的半高宽为58 nm.样品截面的扫描电子显微镜和表面的原子力显微镜测量结果表明,样品反射谱的中心波长蓝移是由子层的层厚和界面粗糙度的变化引起的.X射线反射谱表明,子层界面过渡层对于反射率的影响较小,并且SiO_2膜的质量比Si_3N_4差,也是造成反射率低于理论值的原因之一. 展开更多
关键词 介质膜分布式布拉格反射 传递矩阵方法 x射线反射
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同步辐射X射线反射技术及其在测量δ掺杂晶体中原子表层深度分布的应用 被引量:3
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作者 贾全杰 姜晓明 蒋最敏 《理化检验(物理分册)》 CAS 1998年第8期3-8,共6页
X射线低角反射实验技术是测定固体材料表层中杂质原子深度分布的有效手段.利用同步辐射X射线反射技术和近年来发展的由反射实验数据逆向求解原子深度分布的分层逼近法,研究了不同温度下分子束外延生长的δ掺杂(Sb)Si晶体样品,成功地测... X射线低角反射实验技术是测定固体材料表层中杂质原子深度分布的有效手段.利用同步辐射X射线反射技术和近年来发展的由反射实验数据逆向求解原子深度分布的分层逼近法,研究了不同温度下分子束外延生长的δ掺杂(Sb)Si晶体样品,成功地测量了样品中几个纳米范围内的Sb原子深度分布.所得结果表明,300℃以下是用分子束外延方法在Si晶体中生长Sb原子δ掺杂结构的合适温度. 展开更多
关键词 x射线反射 同步辐射 分层逼近法 Δ掺杂 硅晶体
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非晶金刚石薄膜的X射线反射研究 被引量:2
6
作者 韩杰才 檀满林 +2 位作者 朱嘉琦 程坤 孟松鹤 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期572-576,共5页
利用过滤阴极真空电弧系统制备了不同衬底偏压下非晶金刚石薄膜,分别采用X射线反射法测定了相应的非晶金刚石膜密度,分析了薄膜密度与沉积能量之间的变化规律,建立了薄膜密度随衬底偏压的变化曲线。研究发现在-80 V时非晶金刚石膜密度... 利用过滤阴极真空电弧系统制备了不同衬底偏压下非晶金刚石薄膜,分别采用X射线反射法测定了相应的非晶金刚石膜密度,分析了薄膜密度与沉积能量之间的变化规律,建立了薄膜密度随衬底偏压的变化曲线。研究发现在-80 V时非晶金刚石膜密度存在最大值3.26 g/cm3,随着偏压的增大和减小,薄膜的密度都相应的下降;当衬底偏压加到-2000 V时,密度减小到2.63 g/cm3,相对于密度的最大值变化较小。通过薄膜sp3 能态杂化含量与密度的简单比例关系,近似推算出非晶金刚石膜中sp3 能态的含量最高可达80%以上。 展开更多
关键词 薄膜光学 非晶金刚石薄膜 密度 衬底偏压 x射线反射
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NSRL衍射和散射站的性能及在材料科学中的典型应用
7
作者 李锐鹏 范荣 +3 位作者 刘科 徐朝银 盛六四 潘国强 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2007年第4期407-413,共7页
介绍了国家同步辐射实验室二期工程X射线衍射和散射光束线实验站的建设与主要设备.利用设备采用X射线反射法,在不破坏样品的情况下得到了Si/C多层膜的结构信息;通过对标准Si粉末样品的FWHM测试表明该站可进行粉末全谱扫描;利用X射线掠... 介绍了国家同步辐射实验室二期工程X射线衍射和散射光束线实验站的建设与主要设备.利用设备采用X射线反射法,在不破坏样品的情况下得到了Si/C多层膜的结构信息;通过对标准Si粉末样品的FWHM测试表明该站可进行粉末全谱扫描;利用X射线掠入射衍射技术分析了ZnO薄膜的生长条件与结构的关系;采用X射线散斑方法直接观测了弛豫铁电体内部的纳米空间尺度的电极化团簇的空间时间构造. 展开更多
关键词 同步辐射应用 x射线反射 x射线衍射 x射线掠入射衍射
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X射线反射法分析ZnO基薄膜的厚度、密度和表面粗糙度 被引量:1
8
作者 徐光亮 赵德友 刘桂香 《理化检验(物理分册)》 CAS 2010年第12期757-760,共4页
采用X射线反射法(XRR)测试了在SiO_2玻璃衬底上磁控溅射沉积的单层ZnO基薄膜的反射强度,得到了反射强度随掠入射角变化的曲线;讨论了薄膜厚度、密度和表面粗糙度与反射曲线的关系,最后通过拟合XRR曲线获得了所制备薄膜的厚度、密度和表... 采用X射线反射法(XRR)测试了在SiO_2玻璃衬底上磁控溅射沉积的单层ZnO基薄膜的反射强度,得到了反射强度随掠入射角变化的曲线;讨论了薄膜厚度、密度和表面粗糙度与反射曲线的关系,最后通过拟合XRR曲线获得了所制备薄膜的厚度、密度和表面粗糙度分别为55.8 nm,5.5 g·cm^(-3)和1.7 nm,与利用XRR数据直接计算出的薄膜厚度56.2 nm仅相差0.4 nm,表面粗糙度也与AFM测试的结果基本相符。可见XRR能无损伤、精确且快速地测试薄膜试样的厚度、密度和表面粗糙度等参数。 展开更多
关键词 x射线反射 ZnO基薄膜 薄膜参数 曲线拟合
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非极化中子超镜用NiC薄膜制作技术研究
9
作者 靳鑫 张众 《光学仪器》 2017年第4期85-89,共5页
NiC/Ti中子超镜是一种高性能的中子多层膜光学元件,NiC纳米薄膜的制作是实现NiC/Ti多层膜的关键技术。基于Ni和C的直流磁控溅射方法,提出了一种NiC联合溅射靶材的实现方法,并制作了NiC单层膜样品。X射线光电子能谱的测量结果表明:用联... NiC/Ti中子超镜是一种高性能的中子多层膜光学元件,NiC纳米薄膜的制作是实现NiC/Ti多层膜的关键技术。基于Ni和C的直流磁控溅射方法,提出了一种NiC联合溅射靶材的实现方法,并制作了NiC单层膜样品。X射线光电子能谱的测量结果表明:用联合溅射靶材制作的NiC薄膜中Ni和C的原子数比与理论预期相吻合;基于X射线光电子能谱测试得到的Ni、C原子数比,通过构建Ni_(86)C_(14)的模型,可以很好地对掠入射X射线反射测试结果进行理论拟合。该研究可为进一步开展NiC/Ti中子超镜的制作提供参考。 展开更多
关键词 联合溅射 NiC薄膜 原子数比 x射线光电子能谱 x射线反射
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同步辐射X射线反射技术及其在测量δ掺杂晶体中原子表层深度分布的应用
10
作者 贾全杰 蒋最敏 《同步辐射装置用户科技论文集》 1998年第1期214-219,共6页
X射线低角反射实验技术是测定固体材料表层中杂质原子深度分布的有效手段。利用同步辐射X射线反射技术和近年来发展的由反射实验数据逆向求解原子深度分布的分层逼近法,研究了不同温度下分子束外延生长的δ掺杂(Sb)Si晶体样品,成功... X射线低角反射实验技术是测定固体材料表层中杂质原子深度分布的有效手段。利用同步辐射X射线反射技术和近年来发展的由反射实验数据逆向求解原子深度分布的分层逼近法,研究了不同温度下分子束外延生长的δ掺杂(Sb)Si晶体样品,成功地测量了样品中几个纳米范围内的Sb原子深度分布,所得结果表明,300℃以下是用分子束外延方法在Si晶体中生长Sb原子δ掺杂结构的合适温度。 展开更多
关键词 Δ掺杂 表层深度分布 锑原子 x射线反射 同步辐射 分层副近法 硅晶体 结构
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Strong surface segregation of Sb atoms at low temperature during Si molecular beam epitaxy
11
作者 Z.M.Jiang Q.J.Jia 等 《同步辐射装置用户科技论文集》 1998年第1期220-223,共4页
关键词 定性生长 晶体生长 锑原子 分子束 x射线反射 偏析
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基于X射线反射研究溅射工艺对CrAlN/TiAlN周期膜界面结构的影响
12
作者 杜晓明 郑凯峰 +3 位作者 王燕 李新喜 张罡 黄朝强 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第1期67-73,共7页
为研究X射线反射技术在纳米多层膜界面微结构表征中的应用,采用反应磁控溅射技术在单晶硅基片上制备CrAlN/TiAlN纳米周期膜,利用X射线反射技术系统研究溅射工艺参数对CrAlN/TiAlN纳米周期膜界面微结构的影响规律。结果表明:增加铝靶功... 为研究X射线反射技术在纳米多层膜界面微结构表征中的应用,采用反应磁控溅射技术在单晶硅基片上制备CrAlN/TiAlN纳米周期膜,利用X射线反射技术系统研究溅射工艺参数对CrAlN/TiAlN纳米周期膜界面微结构的影响规律。结果表明:增加铝靶功率可提高膜层的溅射速率和降低膜层的界面粗糙度,然而较高的铝靶功率会使膜层界面出现严重的弥散;较大和较小的负偏压都不利于形成完整的周期膜调制结构和光滑的界面;提高Ti/Cr靶电流可有效改善周期膜的调制界面结构,但太大的靶电流会导致膜层间扩散加重,形成弥散界面。N2流量与Ar流量对膜层界面粗糙度具有相反的影响作用。试验得到的优化工艺参数为:铝靶功率80W,溅射负偏压-200 V,Ti/Cr靶电流0.2A,N2流量30cm^3/min,Ar流量10cm^3/min。 展开更多
关键词 磁控溅射 纳米周期膜 CrAlN/TiAlN x射线反射 界面微结构
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Reflective performance of W/Si multilayer at the photon energy of 700eV and 1200eV
13
作者 FengShimeng CuiMingqi 《Beijing Synchrotron Radiation Facility》 2001年第1期152-157,共6页
We have deposited W/Si multilayer mirrors using the magnetron sputtering under the low sputtering pressure and the high magnetic field strength,and measured their reflectivtity in Beijing synchrotron radiation facilt... We have deposited W/Si multilayer mirrors using the magnetron sputtering under the low sputtering pressure and the high magnetic field strength,and measured their reflectivtity in Beijing synchrotron radiation faciltiy,W/Si multilayer show the peak reflectivity of approximately 10% at a photon energy of 1200eV and 10.5% at a photoenergy of 700eV respectively at the incidence angle of 81°。 展开更多
关键词 W/Si多层膜 磁控管溅射 x射线反射
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无紫外光照射下n型15R-SiC及6H-SiC晶体的电化学腐蚀
14
作者 王光红 王玉芳 +3 位作者 施成营 郝建民 冯敏 曹学伟 《光散射学报》 2007年第4期337-341,共5页
本文在无紫外光照射下通过电化学腐蚀法制备了多孔n型15R-及6H-SiC,并用扫描电子显微镜(SEM),拉曼散射及X射线衍射仪(XRD)对多孔层的结构进行了分析。结果表明:晶体的晶型及氧化条件等因素对多孔结构有较大影响。首次观察到多孔n型15-Si... 本文在无紫外光照射下通过电化学腐蚀法制备了多孔n型15R-及6H-SiC,并用扫描电子显微镜(SEM),拉曼散射及X射线衍射仪(XRD)对多孔层的结构进行了分析。结果表明:晶体的晶型及氧化条件等因素对多孔结构有较大影响。首次观察到多孔n型15-SiC的半圆管状结构,其孔隙率约是66%。 展开更多
关键词 多孔碳化硅 电化学腐蚀 拉曼散射 x射线反射
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十二烷基(6)聚氧乙烯醚分子泡沫双层的X射线反射
15
作者 沈强 Benattar Jean-Jacques +1 位作者 李欣 刘少杰 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第12期1295-1297,共3页
采用X射线反射法(X-ray reflectometry)测定了十二烷基(6)聚氧乙烯醚(C_(12)E_6)分子所形成的自由站立式(free-standing)泡沫双层的结构参数。结果表明:此双层膜中的疏水碳氢链区、极性头区和表面活性剂分子单层之间3个区域的厚度分别为... 采用X射线反射法(X-ray reflectometry)测定了十二烷基(6)聚氧乙烯醚(C_(12)E_6)分子所形成的自由站立式(free-standing)泡沫双层的结构参数。结果表明:此双层膜中的疏水碳氢链区、极性头区和表面活性剂分子单层之间3个区域的厚度分别为0.90,1.35和1.31nm;电子密度分别为2.4×10^(-3),2.6×10^(-3)和2.3×10^(-3)电子数/nm^3;区域之间的界面粗糙度为0.34nm。泡沫双层中两极性头区之间不含自由水,而且其厚度在红外光线的照射下可变薄0.40nm;这可能是由于结构水被破坏所致。 展开更多
关键词 十二烷基(6)聚氧乙烯醚 牛顿黑膜 x射线反射 泡沫膜 离子性表面活性剂
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Ge薄层异质结构的同步辐射X射线反射法研究
16
作者 郑文莉 贾全杰 +1 位作者 姜晓明 蒋最敏 《高能物理与核物理》 EI CSCD 北大核心 2001年第12期1231-1237,共7页
用X射线反射方法研究了分子束外延技术生长的Si中Ge薄层异质结构的Ge原子分布特性 .根据X射线反射理论及Parratt数值计算方法对实验反射曲线的模拟 ,得到不同厚度的Ge薄层异质结构样品中Ge原子的深度分布为非对称指数形式 :在靠近样品... 用X射线反射方法研究了分子束外延技术生长的Si中Ge薄层异质结构的Ge原子分布特性 .根据X射线反射理论及Parratt数值计算方法对实验反射曲线的模拟 ,得到不同厚度的Ge薄层异质结构样品中Ge原子的深度分布为非对称指数形式 :在靠近样品表面一侧的衰减长度为 8埃 ,而在靠近样品衬底一侧的衰减长度为 3埃 ,且分布形式与Ge原子层的厚度无关。讨论了不同结构参数(Ge原子薄层的深度、Ge原子分布范围、样品表面粗糙度、样品表面氧化层厚度等 ) 展开更多
关键词 异质结构 同步辐射 x射线反射 表面偏析 分子束外延 Ge薄膜生长 St 硅晶体 锗原子 半导体材料
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ZnO的激光分子束外延法制备及X射线研究 被引量:10
17
作者 杨晓东 张景文 +2 位作者 毕臻 贺永宁 侯洵 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期485-489,共5页
利用激光分子束外延(L-MBE)技术在α-Al2O3(0001)衬底上生长出了沿C轴高度择优取向的ZnO外延薄膜,并采用Philips四晶高分辨X射线衍射仪(Philip′s X′Pert HR-MRD)对ZnO薄膜的表面及结构特性进行了研究.应用小角度X射线分析方法(GIXA)对... 利用激光分子束外延(L-MBE)技术在α-Al2O3(0001)衬底上生长出了沿C轴高度择优取向的ZnO外延薄膜,并采用Philips四晶高分辨X射线衍射仪(Philip′s X′Pert HR-MRD)对ZnO薄膜的表面及结构特性进行了研究.应用小角度X射线分析方法(GIXA)对ZnO薄膜的表面以及ZnO/Al2O3界面状况进行了定量表征.X射线反射率(XRR)曲线出现了清晰的源于良好表面及界面特性的Kiessig干涉振荡峰,通过对其精确拟合求得ZnO薄膜的表面及界面粗糙度分别为0.34nm和1.12nm.ZnO薄膜与α-Al2O3(0001)衬底的XRD在面(in-plane)Φ扫描结果表明形成了单一的平行畴(Alignedin-plane Oriented Domains),其在面外延关系为ZnO[1010]||Al2O3[1120].XRDω-2θ扫描以及ω摇摆曲线半峰宽分别为0.12度和1.27度,这一结果表明通过形成平行畴及晶格驰豫过程,ZnO薄膜中的应力得到了有效的释放,但同时也引入了螺位错. 展开更多
关键词 氧化锌 激光分子束外延 小角度x射线分析 x射线反射
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一种可溯源的光谱椭偏仪标定方法 被引量:10
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作者 张继涛 李岩 罗志勇 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期186-191,共6页
提出了一种用X射线反射术标定光谱椭偏仪的方法.作为一种间接测量方法,光谱椭偏术测得的薄膜厚度依赖于其光学常数,不具有可溯源性.在掠入射条件下,X射线反射术能测得薄膜的物理厚度,测量结果具有亚纳米量级的精密度且与薄膜光学常数无... 提出了一种用X射线反射术标定光谱椭偏仪的方法.作为一种间接测量方法,光谱椭偏术测得的薄膜厚度依赖于其光学常数,不具有可溯源性.在掠入射条件下,X射线反射术能测得薄膜的物理厚度,测量结果具有亚纳米量级的精密度且与薄膜光学常数无关.在单晶硅基底上制备了厚度分别为2nm,18nm,34nm,61nm及170nm的SiO2薄膜标样,并用强制过零点的直线拟合了两种方法的标样测量结果,拟合直线的斜率为1.013±0.013,表明该方法可在薄膜厚度测量中标定光谱椭偏仪. 展开更多
关键词 光谱椭偏术 x射线反射 膜厚 标定
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使用气体靶激光等离子体光源的软X射线反射率计 被引量:8
19
作者 尼启良 齐立红 陈波 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 2004年第6期576-580,共5页
建立了一台使用气体靶激光等离子体光源的软X射线反射率计,并给出了使用该反射率计测量软X射线多层膜反射率的方法。与金属靶等离子体光源相比,由于使用了气体靶等离子体光源,该反射率计具有低碎屑、可长期连续运行等优点。针对单色仪... 建立了一台使用气体靶激光等离子体光源的软X射线反射率计,并给出了使用该反射率计测量软X射线多层膜反射率的方法。与金属靶等离子体光源相比,由于使用了气体靶等离子体光源,该反射率计具有低碎屑、可长期连续运行等优点。针对单色仪的二级光谱对反射率测量结果产生的影响,提出了修正方法。并用此方法对实测的工作波长为17.1nm软X射线多层膜的反射率曲线进行了修正。 展开更多
关键词 x射线反射率计 多层膜 激光等离子体 气体靶
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云母表面上低分子量聚氧乙烯熔体的“假不浸润”行为 被引量:5
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作者 朱敦深 刘一新 +2 位作者 陈尔强 李明 程正迪 《高分子学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2006年第9期1125-1128,共4页
The melts of a series of low molecular weight poly(ethylene oxide)(PEO) fractions on mica surfaces were studied by atomic force microscopy(AFM) and X-ray reflectivity(XRR) measurement.The PEO ultrathin films w... The melts of a series of low molecular weight poly(ethylene oxide)(PEO) fractions on mica surfaces were studied by atomic force microscopy(AFM) and X-ray reflectivity(XRR) measurement.The PEO ultrathin films were obtained via static dilute solution casting.Different from the melts of the PEO with both methoxyl((—OCH3)) end groups that are dewetted on the mica surface,a pseudo-dewetting phenomenon of the PEO melts was observed when either one end group of the PEOs becomes hydroxyl(—OH) or both are hydroxyl groups.The wetting layer thicknesses of the pseudo-dewetted melts were measured to be 4.5~4.7 nm,independent on the molecular weight and the end groups of PEOs.However,the PEO melt droplets on the wetting layer varied from spherical caps with relatively high contact angle to irregular shapes with relatively low contact angle when increasing the molecular weight and the hydrophobicity of end groups of PEOs. 展开更多
关键词 云母 聚氧乙烯 假不浸润 原子力显微镜 x射线反射
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