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2017年中国集成电路产业现状分析 被引量:40
1
作者 魏少军 《集成电路应用》 2017年第4期6-11,共6页
在SEMICON CHINA 2017的产业与技术投资论坛上,清华大学微电子学研究所所长魏少军教授发布了以"中国集成电路过热了吗?"为主题的演讲。魏教授针对近年来中国大力投入集成电路建设,众多设计公司和晶圆厂、封测厂拔地而起,从而... 在SEMICON CHINA 2017的产业与技术投资论坛上,清华大学微电子学研究所所长魏少军教授发布了以"中国集成电路过热了吗?"为主题的演讲。魏教授针对近年来中国大力投入集成电路建设,众多设计公司和晶圆厂、封测厂拔地而起,从而引发业界广泛讨论的情况进行了深入的剖析与讲解。 展开更多
关键词 中国集成电路 晶圆制造 芯片设计 产业基金
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我国集成电路测试技术现状及发展策略 被引量:32
2
作者 俞建峰 陈翔 杨雪瑛 《中国测试》 CAS 2009年第3期1-5,共5页
集成电路在现代电子整机中的应用比重已超过25%,测试是分析集成电路缺陷的最好工具,通过测试可以提高集成电路的成品率。通过分析我国集成电路产业现状,论述我国集成电路的设计验证测试、晶圆测试、芯片测试、封装测试等关键测试环节的... 集成电路在现代电子整机中的应用比重已超过25%,测试是分析集成电路缺陷的最好工具,通过测试可以提高集成电路的成品率。通过分析我国集成电路产业现状,论述我国集成电路的设计验证测试、晶圆测试、芯片测试、封装测试等关键测试环节的技术水平,提出进一步发展我国集成电路测试产业的相关建议。 展开更多
关键词 集成电路 设计验证 晶圆测试 芯片测试 封装测试 发展策略
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超薄圆片划片工艺探讨 被引量:6
3
作者 姜健 张政林 《中国集成电路》 2009年第8期66-69,共4页
集成电路小型化正在推动圆片向更薄的方向发展,超薄圆片的划片技术作为集成电路封装小型化的关键基础工艺技术,显得越来越重要,它直接影响产品质量和寿命。本文从超薄片划片时常见的崩裂问题出发,分析了崩裂原因,简单介绍了目前超薄圆... 集成电路小型化正在推动圆片向更薄的方向发展,超薄圆片的划片技术作为集成电路封装小型化的关键基础工艺技术,显得越来越重要,它直接影响产品质量和寿命。本文从超薄片划片时常见的崩裂问题出发,分析了崩裂原因,简单介绍了目前超薄圆片切割普遍采用的STEP切割工艺。另外,针对崩裂原因,还从组成划片刀的3个要素入手分析了减少崩裂的选刀方法。 展开更多
关键词 超薄圆片 崩片 背崩 正面崩片 崩裂 划片刀过载
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Drop failure modes of Sn-3.0Ag-0.5Cu solder joints in wafer level chip scale package 被引量:5
4
作者 黄明亮 赵宁 +1 位作者 刘爽 何宜谦 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第6期1663-1669,共7页
To reveal the drop failure modes of the wafer level chip scale packages (WLCSPs) with Sn-3.0Ag-0.5Cu solder joints, board level drop tests were performed according to the JEDEC standard. Six failure modes were iden... To reveal the drop failure modes of the wafer level chip scale packages (WLCSPs) with Sn-3.0Ag-0.5Cu solder joints, board level drop tests were performed according to the JEDEC standard. Six failure modes were identified, i.e., short FR-4 cracks and complete FR-4 cracks at the printing circuit board (PCB) side, split between redistribution layer (RDL) and Cu under bump metallization (UBM), RDL fracture, bulk cracks and partial bulk and intermetallic compound (IMC) cracks at the chip side. For the outmost solder joints, complete FR-4 cracks tended to occur, due to large deformation of PCB and low strength of FR-4 dielectric layer. The formation of complete FR-4 cracks largely absorbed the impact energy, resulting in the absence of other failure modes. For the inner solder joints, the absorption of impact energy by the short FR-4 cracks was limited, resulting in other failure modes at the chip side. 展开更多
关键词 Sn-3.0Ag-0.5Cu wafer level chip scale package solder joint drop failure mode
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集成电路制造技术展望 被引量:2
5
作者 沈柏明 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期202-205,共4页
简要论述了集成电路的发展和特大规模集成电路中部份硅生产工艺技术近几年的发展趋势。特大规模集成电路仍然朝着较大直径的硅单晶片和较小的特征尺寸方向发展。当特大规模集成电路特征尺寸在 0 .1μm以下时 ,角度限制散射投影电子束光... 简要论述了集成电路的发展和特大规模集成电路中部份硅生产工艺技术近几年的发展趋势。特大规模集成电路仍然朝着较大直径的硅单晶片和较小的特征尺寸方向发展。当特大规模集成电路特征尺寸在 0 .1μm以下时 ,角度限制散射投影电子束光刻和极紫外线光刻以及离子投影光刻等光刻技术是较佳候选者。离子注入掺杂技术将向高能量与低能量离子注入领域发展。淀积可靠耐用的 Ti N薄膜阻挡层是下一步溅射工艺的发展目标。 展开更多
关键词 集成电路 制造技术 硅圆片 光刻
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基于Halcon的晶圆芯片的缺陷检测技术研究
6
作者 李霂 任齐 《机电工程技术》 2024年第11期224-227,共4页
随着人工智能产业的爆发,Ai芯片的需求未来五年有较大的增长率,在生产晶圆芯片的过程中,为了实现提升晶圆芯片的产能和良品率控制,引入机器视觉技术对晶圆芯片的缺陷检测进行了研究,提出了一种基于Halcon的晶圆芯片缺陷检测方法。包括... 随着人工智能产业的爆发,Ai芯片的需求未来五年有较大的增长率,在生产晶圆芯片的过程中,为了实现提升晶圆芯片的产能和良品率控制,引入机器视觉技术对晶圆芯片的缺陷检测进行了研究,提出了一种基于Halcon的晶圆芯片缺陷检测方法。包括硬件和软件两大部分,硬件部分包括工业相机和光源,软件部分包括Halcon相机标定,傅里叶变换从空域到频域的变换、缺陷提取、阈值分割、连通域分析、噪声过滤、计算结果。通过此方法对芯片表面可能存在的2种缺陷类型(裂纹、脏污)样品芯片进行测试,实验结果表明:针对裂纹的缺陷检测准确率高达98%,针对脏污的缺陷检测准确率高达97%,同时此方法的检测响应速度快,稳定性高,对于芯片表面的微小变化和光线干扰的抗干扰能力强,是一种可行的晶圆芯片缺陷检测方法。 展开更多
关键词 机器视觉 HALCON 缺陷检测 晶圆芯片
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在片S参数测量系统校准技术研究 被引量:3
7
作者 吴爱华 孙静 +2 位作者 刘晨 梁法国 郑延秋 《宇航计测技术》 CSCD 2015年第5期11-16,共6页
在片S参数测量系统在半导体行业裸芯片测量中得到了广泛的应用,但是国内在片S参数测量系统无法有效溯源的现状影响了高端裸芯片产品的研发进度。为了建立该类系统的校准能力,本文研制了微带形式的在片校准件、在片传递标准件和在片检验... 在片S参数测量系统在半导体行业裸芯片测量中得到了广泛的应用,但是国内在片S参数测量系统无法有效溯源的现状影响了高端裸芯片产品的研发进度。为了建立该类系统的校准能力,本文研制了微带形式的在片校准件、在片传递标准件和在片检验件三类标准样片,搭建了高准确度的在片S参数传递标准件定标系统,通过HFSS仿真方法使得在片S参数溯源至几何量基准,最终建立了在片S参数测量系统中传输参数的计量校准能力,为最终完成在片S参数测量系统校准奠定了技术基础。 展开更多
关键词 在片测量 S参数测量系统 散射参数 校准 裸芯片
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在片微波参数测量系统计量技术进展 被引量:3
8
作者 黄先奎 《微波学报》 CSCD 北大核心 2020年第4期95-100,共6页
在片微波参数测量系统主要通过探针台建立微波仪器与半导体裸芯片之间的信号连接通道,从而测量半导体裸芯片的微波参数。在片微波参数测量系统对提升芯片的性能,控制质量,保证芯片的一致性和稳定性方面具有重要的意义。国外相关的计量... 在片微波参数测量系统主要通过探针台建立微波仪器与半导体裸芯片之间的信号连接通道,从而测量半导体裸芯片的微波参数。在片微波参数测量系统对提升芯片的性能,控制质量,保证芯片的一致性和稳定性方面具有重要的意义。国外相关的计量技术与测量系统同步发展,我国由于半导体产业起步较晚,测试系统大多采用进口,相关计量测试技术在过去很长一段时间发展相对缓慢。最近10年我国奋起直追,不断缩小与世界先进水平的差距,目前已经完成40 GHz以内的主要在片微波参数测量系统计量能力。文中回顾了本领域的技术发展历程,介绍国内外技术发展特点,对于进一步发展相关计量技术具有指导意义。 展开更多
关键词 在片测试 裸芯片 S参数 噪声参数 负载牵引
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探针卡在芯片产业化中的应用分析 被引量:2
9
作者 杨跃胜 武岳山 《中国集成电路》 2017年第4期58-61,75,共5页
芯片产业化过程中,涉及到大量探针卡的应用,探针卡对芯片测试非常重要;根据不同的标准对探针及探针卡进行分类;针对不同应用环境,分析了探针卡的选取方法;最后给出了探针卡的存放和使用相关规范,对探针卡的设计、加工及芯片的中测测试... 芯片产业化过程中,涉及到大量探针卡的应用,探针卡对芯片测试非常重要;根据不同的标准对探针及探针卡进行分类;针对不同应用环境,分析了探针卡的选取方法;最后给出了探针卡的存放和使用相关规范,对探针卡的设计、加工及芯片的中测测试应用具有一定的参考作用。 展开更多
关键词 探针 探针测试卡 芯片测试 wafer
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高纯气体在广东LED上游产业的应用和市场 被引量:1
10
作者 刘雷 李平 权真真 《广东化工》 CAS 2012年第12期24-25,3,共3页
高纯气体在LED上游产业的应用中具有十分重要的地位,它们在技术发展、质量提升方面相互促进、相互影响。本文主要阐述了广东LED上游产业的市场、高纯气体在其产业的应用,对LED用高纯气体发展趋势进行了探讨,可供从事外延片和芯片制造、... 高纯气体在LED上游产业的应用中具有十分重要的地位,它们在技术发展、质量提升方面相互促进、相互影响。本文主要阐述了广东LED上游产业的市场、高纯气体在其产业的应用,对LED用高纯气体发展趋势进行了探讨,可供从事外延片和芯片制造、气体行业以及相关研究人员参考。 展开更多
关键词 高纯气体 LED 外延片 芯片
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锂电池保护电路的晶圆多Site测试方法 被引量:1
11
作者 张鹏辉 张亚军 《计算机与数字工程》 2010年第9期52-54,83,共4页
锂电池保护电路的产量随着消费类电子产品市场的兴旺而日益增长,对中测阶段的测试成本和测试效率提出了更高要求。文章介绍了锂电池保护电路的工作原理,探讨了在中测阶段对锂电池保护电路进行多site测试的方法,介绍了测试电路图、常见... 锂电池保护电路的产量随着消费类电子产品市场的兴旺而日益增长,对中测阶段的测试成本和测试效率提出了更高要求。文章介绍了锂电池保护电路的工作原理,探讨了在中测阶段对锂电池保护电路进行多site测试的方法,介绍了测试电路图、常见测试参数,包括过充保护电压、过放保护电压、相应的延迟时间等。对过充保护电压参数,一般的测试方法存在测试精度不够或者测试时间过长的缺陷,文章介绍了一种可以缩短测试时间的高精度算法。同时对该类电路的修调熔丝部分进行了简单阐述。 展开更多
关键词 锂电池保护 晶圆测试 中测
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北京集成电路制造业的状况与发展分析 被引量:1
12
作者 刘沅东 《集成电路应用》 2022年第4期26-27,共2页
阐述了全球及中国集成电路制造产业发展现状,北京市集成电路制造产业发展现状,包括产业基础和布局、政策环境,发展短板与未来发展思路分析。
关键词 集成电路 晶圆制造 芯片产业
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先进封装和MEMS应用的超厚抗蚀剂光刻技术(英文) 被引量:1
13
作者 Chad Brubaker Helge Luesebrink +1 位作者 Paul Kettner Rainer Pelzer 《电子工业专用设备》 2003年第5期4-10,共7页
微电子机械系统(MEMS)制造和先进的封装技术更需要厚抗蚀剂层。在MEMS应用领域包括体硅微机械加工、表面微机械加工和有源器件结构的实际制作。对先进的封装技术,应用再分布和蚀化层以及金属焊凸微成型。各种用途要求抗蚀剂厚度能达到... 微电子机械系统(MEMS)制造和先进的封装技术更需要厚抗蚀剂层。在MEMS应用领域包括体硅微机械加工、表面微机械加工和有源器件结构的实际制作。对先进的封装技术,应用再分布和蚀化层以及金属焊凸微成型。各种用途要求抗蚀剂厚度能达到和超过1000μm。为适当地获得这些厚度,制造商开发了适当的涂层材料。这些材料包括AZP4620.ShipleySPR220\AIPLP100XT、JSRTHB611P和SU-8。最终开发了处理这些材料的设备,制作了专用的涂胶设备和接触?接近式曝光机。 展开更多
关键词 微电子机械系统 先进的封装技术 圆片凸焊 厚抗蚀剂 SU-8 倒装焊芯片 再分布 光刻机 涂胶机
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基于LT-GaAs外延片的THz片上系统 被引量:1
14
作者 吴蕊 苏波 +3 位作者 赵亚平 何敬锁 张盛博 张存林 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2021年第5期1373-1378,共6页
太赫兹(THz)波在物质检测方面发挥着巨大的作用,是一种非常有潜力的生化传感工具。但是传统的太赫兹时域光谱系统(TDS)结构复杂,系统的集成度低,占用空间较大。所以,如何对THz波进行有效引导、实现集成化传输并得到高质量光谱就成为太... 太赫兹(THz)波在物质检测方面发挥着巨大的作用,是一种非常有潜力的生化传感工具。但是传统的太赫兹时域光谱系统(TDS)结构复杂,系统的集成度低,占用空间较大。所以,如何对THz波进行有效引导、实现集成化传输并得到高质量光谱就成为太赫兹光谱系统的研究热点。太赫兹片上系统是将THz的产生、传输以及探测都集成到同一芯片上,然后通过相干探测的方法获得THz时域光谱。它可以实现对多种样品的检测,尤其在对难于取样的微量样品探测方面具有广泛的应用价值。它无需光路准直,操作简便,成品率高。两个研究工作都是基于低温砷化镓(LT-GaAs)外延片开展的。首先将一根直径为200μm的铜线固定在LT-GaAs外延片的上方,通过真空蒸镀的方法制备出天线电极,同时得到天线间隙,研制出基于LT-GaAs外延片的THz天线。利用波长为800 nm的飞秒激光对其进行测试,得到了质量较高的THz信号,验证了天线的实用性。然后在另一外延片上利用光刻微加工工艺制作出传输线和微电极,得到了集成的THz片上系统。使用波长为1550 n m的飞秒激光分别激发片上系统的太赫兹产生天线和探测天线,天线产生的太赫兹波在传输线上传播,在探测端同样得到了质量较高的THz时域信号,证实了THz片上系统的可行性。该方法省去了腐蚀牺牲层以及LT-GaAs薄膜的转移、键合等步骤,极大地提高了片上系统的成品率,避免了薄膜转移过程中易破碎及腐蚀液存在毒性的问题。最后,研究了外加电压对从片上系统中获得的THz波性能的影响,结果为电压越高,THz波的信号强度越强;另外,通过在传输线上方垂直放置铜箔的方法验证了THz波沿着传输线传播的事实。该研究中采用的基于LT-GaAs外延片的片上系统的制备方法简单,制作周期短,制作过程安全,应用领域广泛,这为将来与微流控芯片相结合实现对液体样 展开更多
关键词 太赫兹 外延片 LT-GAAS 光电导天线 片上系统
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影响晶圆凸起网板印刷效果的基本设计事项
15
作者 Peland Koh 《电子工业专用设备》 2004年第10期69-73,共5页
业界现有数种技术可用于在晶圆的焊垫上涂敷焊料混合物,这种工艺称之为晶圆凸起。大多数此类技术需要昂贵的专门设备,不过,采用网板印刷进行晶圆凸起加工正逐渐成为一种可节省成本的大批量生产替代方案,而且广受欢迎。但随着I?O数目增... 业界现有数种技术可用于在晶圆的焊垫上涂敷焊料混合物,这种工艺称之为晶圆凸起。大多数此类技术需要昂贵的专门设备,不过,采用网板印刷进行晶圆凸起加工正逐渐成为一种可节省成本的大批量生产替代方案,而且广受欢迎。但随着I?O数目增加和间距不断缩小,这种使用网板在焊点上印刷焊膏的方法变得更有挑战性,而且,对于与之匹配的材料(如焊膏、网板等)和工艺设计水准的要求也大大提高。因此,研发人员继续进行研究,以便更好地了解这些细节,从而达到进一步改进网板印刷晶圆凸起工艺之目的。 展开更多
关键词 网板印刷 晶圆凸起 倒装芯片 粘结垫 焊膏 底部充填 穿孔 回流焊
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MEMS封装技术 被引量:10
16
作者 陈一梅 黄元庆 《传感器技术》 CSCD 北大核心 2005年第3期7-9,12,共4页
介绍了微机电(MEMS)封装技术,包括晶片级封装、单芯片封装和多芯片封装、模块式封装与倒装焊3种很有前景的封装技术。指出了MEMS封装的几个可靠性问题,最后,对MEMS封装的发展趋势作了分析。
关键词 微机电封装 单芯片 多芯片 模块 晶片级 倒装焊
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3D-TSV封装技术 被引量:9
17
作者 燕英强 吉勇 明雪飞 《电子与封装》 2014年第7期1-5,共5页
3D-TSV封装技术是实现多功能、高性能、高可靠且更轻、更薄、更小的系统级封装最有效的技术途径之一。3D-TSV封装关键技术包括:通孔制作、通孔薄膜淀积、磁控溅射、通孔填充、铜化学机械研磨、超薄晶圆减薄、芯片/晶圆叠层键合等。阐述... 3D-TSV封装技术是实现多功能、高性能、高可靠且更轻、更薄、更小的系统级封装最有效的技术途径之一。3D-TSV封装关键技术包括:通孔制作、通孔薄膜淀积、磁控溅射、通孔填充、铜化学机械研磨、超薄晶圆减薄、芯片/晶圆叠层键合等。阐述了每种关键技术的工艺原理、技术特点、应用范围及发展前景,关键设备、关键材料以及TSV在三维封装技术中的应用。 展开更多
关键词 3D-TSV封装 通孔 铜化学机械研磨 超薄晶圆减薄 芯片 晶圆叠层键合
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三维集成技术的现状和发展趋势 被引量:9
18
作者 吴际 谢冬青 《现代电子技术》 2014年第6期104-107,共4页
给出了三维技术的定义,并给众多的三维技术一个明确的分类,包括三维封装(3D-P)、三维晶圆级封装(3DWLP)、三维片上系统(3D-SoC)、三维堆叠芯片(3D-SIC)、三维芯片(3D-IC)。分析了比较有应用前景的两种技术,即三维片上系统和三维堆叠芯... 给出了三维技术的定义,并给众多的三维技术一个明确的分类,包括三维封装(3D-P)、三维晶圆级封装(3DWLP)、三维片上系统(3D-SoC)、三维堆叠芯片(3D-SIC)、三维芯片(3D-IC)。分析了比较有应用前景的两种技术,即三维片上系统和三维堆叠芯片和它们的TSV技术蓝图。给出了三维集成电路存在的一些问题,包括技术问题、测试问题、散热问题、互连线问题和CAD工具问题,并指出了未来的研究方向。 展开更多
关键词 三维集成电路 三维晶圆级封装 三维堆叠技术 三维片上系统
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圆片级芯片尺寸封装技术及其应用综述 被引量:6
19
作者 成立 王振宇 +3 位作者 祝俊 赵倩 侍寿永 朱漪云 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期38-43,共6页
综述了圆片级芯片尺寸封装(WL-CSP)的新技术及其应用概要,包括WL-CSP的关键工艺技术、封装与测试描述、观测方法和WL-CSP技术的可靠性及其相关分析等。并对比研究了几种圆片级再分布芯片尺寸封装方式的工艺特征和技术要点,从而说明了WL-... 综述了圆片级芯片尺寸封装(WL-CSP)的新技术及其应用概要,包括WL-CSP的关键工艺技术、封装与测试描述、观测方法和WL-CSP技术的可靠性及其相关分析等。并对比研究了几种圆片级再分布芯片尺寸封装方式的工艺特征和技术要点,从而说明了WL-CSP的技术优势及其应用前景。 展开更多
关键词 集成电路 圆片级芯片尺寸封装 技术优势 应用前景
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300mm晶圆芯片制造技术的发展趋势 被引量:7
20
作者 翁寿松 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第1期27-29,55,共4页
采取300mm晶圆是半导体生产发展的必然规律。300mm晶圆与90nm工艺是互动的。90nm新工艺主要包括193nm光刻技术、铜互连、低k绝缘层、CMP、高k绝缘层、应变硅和SOI等。本文着重讨论300mm晶圆芯片制造技术的发展趋势。
关键词 300MM晶圆 芯片制造技术 发展趋势 90nm工艺 光刻 铜互连 低k绝缘层 应变硅
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