金刚石薄膜膜基界面结合强度测量技术的研究进展 被引量：9

1

作者 简小刚 孙方宏 +2 位作者 赵国伟 刘国良 陈明 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 2002年第3期3-7,共5页

膜基界面结合强度的测量与评价是金刚石薄膜制备与应用关键问题 ,本文介绍了国内外金刚石薄膜膜基界面结合强度的几种典型的测量方法 ,着重探讨了膜基界面结合强度的精确定量测量技术的研究现状以及发展趋势 ,提出了用一种新的内涨鼓泡... 膜基界面结合强度的测量与评价是金刚石薄膜制备与应用关键问题 ,本文介绍了国内外金刚石薄膜膜基界面结合强度的几种典型的测量方法 ,着重探讨了膜基界面结合强度的精确定量测量技术的研究现状以及发展趋势 ,提出了用一种新的内涨鼓泡测量法 ,对复杂形状基体上金刚石薄膜膜基界面结合强度进行精确定量检测 ,为金刚石薄膜的制备工艺优化及其质量的评估提供可靠的依据和标准。 展开更多

关键词 金刚石薄膜 结合强度 鼓泡 测量方法

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高密度通孔薄膜电路工艺技术研究 被引量：14

2

作者 柳龙华 解启林 《电子工艺技术》 2012年第3期142-144,181,共4页

通过对薄膜电路制作工艺的系统研究,提出了一种新型的制作高密度通孔薄膜电路工艺方法,克服了高密度通孔薄膜电路对溅射用金靶、喷雾式涂胶和反应离子刻蚀等工艺技术和设备的依赖,降低了高密度通孔薄膜电路研制成本。该新型工艺方法已... 通过对薄膜电路制作工艺的系统研究,提出了一种新型的制作高密度通孔薄膜电路工艺方法,克服了高密度通孔薄膜电路对溅射用金靶、喷雾式涂胶和反应离子刻蚀等工艺技术和设备的依赖,降低了高密度通孔薄膜电路研制成本。该新型工艺方法已成功应用于延时电路、变频电路和低噪声放大器等微波组件中高密度通孔薄膜电路基板的研制。 展开更多

关键词 薄膜电路 通孔金属化 膜层附着力

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薄膜与基体间的附着力测试 被引量：12

3

作者 崔彩娥 缪强 潘俊德 《电子工艺技术》 2005年第5期294-297,共4页

薄膜是一种特殊形态的材料,在微电子等领域得到了广泛的应用。薄膜与基体间的附着性能在很大程度上决定了薄膜应用的可能性和可靠性,但是,迄今为止对薄膜与基体间界面的了解还不够深入,也没有一种通用的测量技术。阐述了薄膜与基体间的... 薄膜是一种特殊形态的材料,在微电子等领域得到了广泛的应用。薄膜与基体间的附着性能在很大程度上决定了薄膜应用的可能性和可靠性,但是,迄今为止对薄膜与基体间界面的了解还不够深入,也没有一种通用的测量技术。阐述了薄膜与基体间的附着机理和增加附着力的途径,介绍了胶粘法、划痕法等各种比较常用的附着力测试方法。 展开更多

关键词 薄膜 基体附着力 测试

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铬过渡层对银膜光学性质及附着力的影响 被引量：10

4

作者 孙喜莲 邵建达 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第12期1680-1683,共4页

研究了在玻璃基底上采用不同厚度的铬膜作过渡层，对银膜的光学性质及其附着力的影响。光谱测量结果表明，随着铬膜层厚度的增加，银膜的反射率先增大后减小。与直接镀在玻璃基底上的银膜的反射率相比，铬膜层厚度为8～14nm时，银膜的... 研究了在玻璃基底上采用不同厚度的铬膜作过渡层，对银膜的光学性质及其附着力的影响。光谱测量结果表明，随着铬膜层厚度的增加，银膜的反射率先增大后减小。与直接镀在玻璃基底上的银膜的反射率相比，铬膜层厚度为8～14nm时，银膜的反射率较低；铬膜层厚度为17～21nm时，银膜的反射率得到提高，其中铬膜厚度为17nm时，银膜的反射率最高；继续增加铬膜层的厚度，银膜的反射率又降低，说明采用一定厚度的铬膜作过渡层可以提高银膜的反射率。X射线衍射（XRD）结构分析表明，一定厚度的铬膜改善了银膜的结晶程度，使薄膜的晶粒度增大，晶界散射及缺陷减少，从而使应变减小。剥落实验证明薄膜与玻璃基底之间的附着力也得到了提高。 展开更多

关键词 薄膜 银膜 微结构 光学性质 附着力

原文传递

金刚石涂层与硬质合金刀具附着力的研究进展 被引量：7

5

作者 陈靖 王小平 张兵临 《真空与低温》 1998年第2期121-124,共4页

介绍了国内外在低压合成金刚石涂层刀具中提高薄膜基体附着力的几种典型工艺方法。给出了ＷＣ－Ｃｏ基底刀具预处理对低压合成金刚石薄膜附着力的影响。

关键词 金刚石 薄膜 附着力 硬质合金 刀具

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磁控溅射薄膜附着性能的影响因素 被引量：7

6

作者 宋文龙 邓建新 赵金龙 《工具技术》 北大核心 2007年第10期20-23,共4页

磁控溅射薄膜技术的应用日趋广泛,溅射薄膜的附着性是制约薄膜性能和使用效果的关键因素。本文结合作者进行的研究,参考国内外参考资料和文献,对薄膜附着性的影响因素做了综合评述,为提高和改善薄膜使用性能提供指导和参考。

关键词 磁控溅射 薄膜 附着性

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沃拉斯顿棱镜可见光区减反射膜研制 被引量：6

7

作者 郝殿中 吴福全 +3 位作者 王召兵 宋连科 刘涛 李国华 《光电子．激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第8期1143-1144,共2页

为了提高镀膜材料和冰洲石基底的附着力以及提高棱镜的透过比,拓宽有效使用带宽,借助于计算机辅助设计方法,设计了高性能多层减反射膜系;选用合适的光学薄膜材料,利用电子束蒸镀,借助于离子源辅助蒸镀,制作了高性能的宽带减反射膜.测试... 为了提高镀膜材料和冰洲石基底的附着力以及提高棱镜的透过比,拓宽有效使用带宽,借助于计算机辅助设计方法,设计了高性能多层减反射膜系;选用合适的光学薄膜材料,利用电子束蒸镀,借助于离子源辅助蒸镀,制作了高性能的宽带减反射膜.测试结果表明:e光,o光的平均剩余反射率小于0.5%,有效使用带宽覆盖可见光区;为了改善薄膜和基底间的附着力,采用Al2O3做过渡层。 展开更多

关键词 薄膜光学 薄膜 沃拉斯顿棱镜 减反射膜 附着力 带宽

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链长对离子液体超薄膜微/纳摩擦学性能的影响 被引量：6

8

作者 赵文杰 黄德明 +1 位作者 王立平 薛群基 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第6期614-619,共6页

采用浸渍-提拉法在单晶硅片表面成功制备了纳米厚度的具有不同烷基链长的离子液体超薄膜,系统考察了烷基链长对离子液体超薄膜微/纳摩擦学性能的影响.用Mettler热重分析仪测定了离子液体在氮气气氛条件下的热稳定性,采用多功能X射线光... 采用浸渍-提拉法在单晶硅片表面成功制备了纳米厚度的具有不同烷基链长的离子液体超薄膜,系统考察了烷基链长对离子液体超薄膜微/纳摩擦学性能的影响.用Mettler热重分析仪测定了离子液体在氮气气氛条件下的热稳定性,采用多功能X射线光电子能谱分析了离子液体超薄膜表面的化学组分,并用接触角仪测定了其亲/疏水性质,薄膜的表面形貌、黏着和纳米摩擦学性质采用原子力显微镜进行了测定,采用微摩擦试验机评价了薄膜的微摩擦学性质.结果表明:离子液体的侧链烷基链长对其作为超薄膜的纳米摩擦学和黏着性质有重要的影响,随着烷基链长的增加,黏着力和纳米摩擦力大幅度降低,但对其微摩擦性能影响不大.同时根据试验结果提出了离子液体超薄膜减摩抗磨机理. 展开更多

关键词 离子液体 超薄膜 链长 微/纳摩擦 黏着 原子力显微镜

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磁控溅射沉积TiN薄膜工艺优化 被引量：6

9

作者 贺春林 朱跃长 +2 位作者 张金林 马国峰 王建明 《沈阳大学学报（自然科学版）》 CAS 2014年第4期272-276,共5页

磁控溅射TiN薄膜的力学和腐蚀性能与薄膜的结构密切相关,而其结构又取决于薄膜的制备工艺.采用正交实验方法对影响TiN薄膜结构和性能的重要参数如电流、负偏压、氮流量和基体温度等进行优化,以期获得更优的制备工艺条件.实验结果显示,其... 磁控溅射TiN薄膜的力学和腐蚀性能与薄膜的结构密切相关,而其结构又取决于薄膜的制备工艺.采用正交实验方法对影响TiN薄膜结构和性能的重要参数如电流、负偏压、氮流量和基体温度等进行优化,以期获得更优的制备工艺条件.实验结果显示,其对TiN薄膜纳米硬度影响由大到小的次序为:基体温度>负偏压>电流>氮流量;对膜/基结合力的影响由大到小的顺序为:基体温度>氮流量>电流>负偏压.综合考虑TiN薄膜的纳米硬度和膜/基结合力,获得的最优方案为:基体温度300℃,电流0.2A,负偏压-85V,标准状态下氮流量4mL/min. 展开更多

关键词 正交设计 TIN薄膜 磁控溅射 纳米硬度 结合力 工艺优化

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薄膜前处理技术在汽车涂装中的应用 被引量：5

10

作者 周杰 成亚君 《涂料工业》 CAS CSCD 北大核心 2021年第12期83-87,共5页

薄膜前处理工艺不含重金属和磷酸盐,逐渐成为替代磷化的绿色环保技术。薄膜工艺虽然有环保和节能的优点,但其在遮盖能力、附着力、工艺和设备控制以及与电泳漆的配套性方面存在技术难点。本文提出了薄膜过程管理和膜重的管控方法。针对&... 薄膜前处理工艺不含重金属和磷酸盐,逐渐成为替代磷化的绿色环保技术。薄膜工艺虽然有环保和节能的优点,但其在遮盖能力、附着力、工艺和设备控制以及与电泳漆的配套性方面存在技术难点。本文提出了薄膜过程管理和膜重的管控方法。针对"天使环"缺陷,从优化白车身打磨方式、调整水洗槽和薄膜槽参数及优化电泳入槽电压等方面进行改进。针对电泳附着力问题,应选择含有更高活性的氢氧化物成分的脱脂剂。通过优化薄膜槽循环泵的启停程序,降低膜重超标风险。 展开更多

关键词 薄膜前处理 膜重 天使环 附着力

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鼓膜实验法测试薄膜基体界面结合强度的进展 被引量：3

11

作者 任凤章 郑茂盛 +4 位作者 刘平 贾淑果 JU Xihua 马战红 祝要民 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期346-353,共8页

评述了用鼓膜实验方法测试薄膜与基体界面结合强度的现状和最新进展,分析了该方法针对圆孔、膜内无残余应力柔性膜试样和矩形孔或圆孔、膜内有残余应力试样(薄膜为柔性膜或刚性膜)所用解析解力学模型建立的薄膜力学性能假设前提条件、... 评述了用鼓膜实验方法测试薄膜与基体界面结合强度的现状和最新进展,分析了该方法针对圆孔、膜内无残余应力柔性膜试样和矩形孔或圆孔、膜内有残余应力试样(薄膜为柔性膜或刚性膜)所用解析解力学模型建立的薄膜力学性能假设前提条件、能量平衡思路和推导过程．介绍了用硅微技术制备Si基体试样的过程,指出了制备方法和解析解力学模型的特点及所存在的问题．给出了该实验方法的应用实例,指出了需要解决非硅基体的制样和薄膜塑性变形阶段力学模型等问题． 展开更多

关键词 薄膜 鼓膜实验 界面结合强度 力学模型 残余应力

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高分子基材料表面改性研究进展 被引量：5

12

作者 高原 邢安 +2 位作者 殷军港 秦晓刚 刘惠涛 《高分子材料科学与工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第6期172-175,共4页

大多数高分子材料表面硬度低、耐划伤性能差,影响了其使用寿命和应用范围。在高分子基体材料表面制备防护薄膜是一种简单有效的解决方法,成为表面防护的研究热点。然而,大多数高分子及其复合材料的表面自由能低,薄膜与基体间固有的界面... 大多数高分子材料表面硬度低、耐划伤性能差,影响了其使用寿命和应用范围。在高分子基体材料表面制备防护薄膜是一种简单有效的解决方法,成为表面防护的研究热点。然而,大多数高分子及其复合材料的表面自由能低,薄膜与基体间固有的界面粘附力较差,制约了其实际应用。文中探讨了机械啮合、化学键合和热力学粘附等三种主要的粘附机理,阐述了高分子基体材料表面改性的研究进展,指出了不同改性方法的优缺点,提出了薄膜界面粘附力研究存在的问题和发展方向。 展开更多

关键词 高分子基体 表面改性 薄膜 粘附机理

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物理气相沉积薄膜附着性的影响因素

13

作者 张西鹏 范洪远 李伟 《新技术新工艺》 北大核心 2003年第2期42-45,共4页

综述了关于薄膜附着性能的研究进展 ,总结了影响附着性的主要因素 。

关键词 物理气相沉积 薄膜 界面 附着性 PVD

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整流器输出波形及镀铜液种类对薄膜电路镀铜层性能的影响 被引量：4

14

作者 孙林 刘玉根 +1 位作者 程凯 谢新根 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2018年第3期101-107,共7页

在薄膜电路镀铜生产中分别选用4种整流器输出波形(包括高低自由波、直流、单相全波整流和单向脉冲)及无氰碱性镀铜液与酸性镀铜液各一种进行试验,考察了不同条件下的镀速,薄膜电路微带线的厚宽比,以及镀铜层的表面形貌、粗糙度、均匀性... 在薄膜电路镀铜生产中分别选用4种整流器输出波形(包括高低自由波、直流、单相全波整流和单向脉冲)及无氰碱性镀铜液与酸性镀铜液各一种进行试验,考察了不同条件下的镀速,薄膜电路微带线的厚宽比,以及镀铜层的表面形貌、粗糙度、均匀性和附着力。两种镀液体系所得镀铜层的附着力均满足质量要求。两相比较,碱性柠檬酸盐镀铜体系具有较高的镀速,而酸性硫酸盐光亮镀铜体系所得铜层光亮度较高、厚度均匀性较好、粗糙度较小,制作的微带线的厚宽比也较大。整流器输出波形对镀铜层各方面性能有一定的影响。单相全波整流以及单向脉冲波形适用于高精度线条的制备。 展开更多

关键词 薄膜电路 微带线 电镀铜 波形 镀速 厚宽比 粗糙度 附着力

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AlN基板表面处理对薄膜附着力的影响 被引量：2

15

作者 刘刚 王从香 符鹏 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2005年第9期45-47,共3页

用扫描电镜和X射线能谱分析仪研究高温氧化及薄膜工艺过程中主要溶液对氮化铝陶瓷(AlN)基板的影响。结果表明:高温氧化使表面氧含量增加,在1000℃氧化2h,表面已形成致密的氧化层。碱性溶液清洗和去离子水煮会使表面产生多孔的疏松化合... 用扫描电镜和X射线能谱分析仪研究高温氧化及薄膜工艺过程中主要溶液对氮化铝陶瓷(AlN)基板的影响。结果表明:高温氧化使表面氧含量增加,在1000℃氧化2h,表面已形成致密的氧化层。碱性溶液清洗和去离子水煮会使表面产生多孔的疏松化合物。采用高温氧化、酸性清洗、溅射前加强离子轰击等措施,磁控溅射TiCu,其薄膜膜层附着力不低于15MPa。 展开更多

关键词 无机非金属材料 AIN 表面处理 薄膜 附着力

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单/双咪唑环阳离子结构对离子液体薄膜微/纳摩擦学性能的影响 被引量：4

16

作者 赵文杰 刘刚 +3 位作者 王永欣 王立平 陈建敏 薛群基 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第4期112-117,共6页

粘着、摩擦和磨损是影响微/纳机电器件稳定性和寿命的关键因素。利用浸渍-提拉法在硅基底上制备了两种具有单、双咪唑环阳离子结构的离子液体薄膜。采用热重分析仪评价了离子液体的热稳定性。利用原子力显微镜测定了薄膜的表面形貌和纳... 粘着、摩擦和磨损是影响微/纳机电器件稳定性和寿命的关键因素。利用浸渍-提拉法在硅基底上制备了两种具有单、双咪唑环阳离子结构的离子液体薄膜。采用热重分析仪评价了离子液体的热稳定性。利用原子力显微镜测定了薄膜的表面形貌和纳米摩擦学性能。利用球-盘式摩擦试验机考察了载荷和频率对薄膜的微摩擦学性质的影响。对比分析了基于不同阳离子结构的薄膜的微/纳摩擦学性能。结果表明:两种离子液体薄膜的纳米摩擦力随着原子力针尖扫描频率的增加而增加,且[BMIM]PF6薄膜的摩擦力低于2[BMIM]PF6薄膜。此外,[BMIM]PF6薄膜的微摩擦系数低于2[BMIM]PF6。因此,离子液体的阳离子结构对其作为薄膜的微/纳摩擦学性能有重要影响。 展开更多

关键词 离子液体 薄膜 微/纳摩擦 粘着力 阳离子结构

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LBO晶体上1064nm,532nm二倍频增透膜的制备和性能 被引量：3

17

作者 谭天亚 邵建达 +3 位作者 范正修 于撼江 吴炜 郭永新 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第7期2022-2025,共4页

采用电子束蒸发方法在三硼酸锂(LBO)晶体上制备了1064 nm,532 nm二倍频增透膜。利用Lambda900分光光度计、MTS Nano Indenter纳米力学综合测试系统以及调Q脉冲激光装置对样品的光学性能、附着力和激光损伤阈值进行了分析测试。结果表明... 采用电子束蒸发方法在三硼酸锂(LBO)晶体上制备了1064 nm,532 nm二倍频增透膜。利用Lambda900分光光度计、MTS Nano Indenter纳米力学综合测试系统以及调Q脉冲激光装置对样品的光学性能、附着力和激光损伤阈值进行了分析测试。结果表明,通过多次实验,不断改进薄膜沉积工艺条件,在LBO晶体上获得了综合性能优异的二倍频增透膜。样品在1064 nm,532 nm波长的剩余反射率分别为0.07%和0.16%,薄膜粘附失效的临界附着力和激光损伤阈值分别为137.4 mN和15.14 J/cm2,薄膜激光损伤发生在Al2O3膜层。 展开更多

关键词 薄膜光学 二倍频增透膜 LBO晶体 附着力 激光损伤阈值

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静电喷射法在柔性衬底上制备二氧化钛薄膜 被引量：2

18

作者 吴杨慧 倪代红 +2 位作者 许波晶 易武明 顾文华 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2016年第20期1074-1078,共5页

在前驱体溶液的流速为60μL／min的条件下，使用静电喷射技术在铝箔上制备出了具有良好平整度和均匀性的二氧化钛薄膜。薄膜的沉积速率为2μm／min。退火后的二氧化钛薄膜为单晶锐钛矿结构，在承受多次折叠之后没有任何裂缝或脱落。以... 在前驱体溶液的流速为60μL／min的条件下，使用静电喷射技术在铝箔上制备出了具有良好平整度和均匀性的二氧化钛薄膜。薄膜的沉积速率为2μm／min。退火后的二氧化钛薄膜为单晶锐钛矿结构，在承受多次折叠之后没有任何裂缝或脱落。以此方法在载玻片上制得二氧化钛薄膜，用分光光度计测量了其400～1100nm波长范围内的透光率，并与空白载玻片进行比较，得出此二氧化钛薄膜的透光率约为95％。原子力显微镜分析显示，薄膜的平整度达到99％。3M胶带测试结果表明，铝箔上的二氧化钛薄膜具有很好的附着力。这种镀膜方法有望用于生产大面积薄膜，在未来的工业应用中有较好的发展前景。 展开更多

关键词 二氧化钛 薄膜 铝箔 静电喷射 透光率 附着力

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NiCr-NiSi传感器薄膜附着力测试与分析 被引量：1

19

作者 郑晓峰 曾其勇 +2 位作者 李柱 吴凯 朱明 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第2期109-112,共4页

采用磁控溅射法制备NiCr-NiSi薄膜,以溅射功率、溅射时间、溅射气压及基片负偏压作为四因素进行正交试验,制备了9种性能不同的NiCr-NiSi薄膜热电偶测温刀头,对每片测温刀头上薄膜与刀体之间的附着力进行了测试,并对测试结果进行了极差... 采用磁控溅射法制备NiCr-NiSi薄膜,以溅射功率、溅射时间、溅射气压及基片负偏压作为四因素进行正交试验,制备了9种性能不同的NiCr-NiSi薄膜热电偶测温刀头,对每片测温刀头上薄膜与刀体之间的附着力进行了测试,并对测试结果进行了极差分析。分析结果表明:在4个溅射因素当中,基片负偏压是影响薄膜附着力大小的最主要因素,在一定范围内,增大基片的负偏压值可提高薄膜的附着力。验证试验表明,NiCr薄膜溅射参数为溅射功率90W、溅射时间30min、溅射气压0.45Pa、基片偏压-110V,NiSi薄膜溅射参数为溅射功率100W、溅射时间40min、溅射气压0.4Pa、基片偏压-110V,可使NiCr和NiSi薄膜的附着力值分别约增大3.2N和1.5N。 展开更多

关键词 薄膜热电偶 正交试验 极差分析 薄膜附着力

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