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物理气相沉积薄膜附着性的影响因素

The Effecting Factors of Adhesion on Physical Vapor Deposition Thin Films
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摘要 综述了关于薄膜附着性能的研究进展 ,总结了影响附着性的主要因素 。
出处 《新技术新工艺》 北大核心 2003年第2期42-45,共4页 New Technology & New Process
关键词 物理气相沉积 薄膜 界面 附着性 PVD physical vapor deposition,thin film,interface,adhesion
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