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c-BN薄膜研究进展 被引量:3
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作者 李勇华 陈学康 +3 位作者 雷占许 吴敢 杨建平 王菁 《真空与低温》 1999年第4期193-197,共5页
立方氮化硼(c- BN) 在机械、热、电子及光学方面有许多优异性能,因此世界上有很多研究人员从事c- BN 薄膜制备的研究,近年来薄膜沉积技术和c- BN 薄膜质量都已取得显著进步。介绍c - BN 薄膜的用途、结构、制备方... 立方氮化硼(c- BN) 在机械、热、电子及光学方面有许多优异性能,因此世界上有很多研究人员从事c- BN 薄膜制备的研究,近年来薄膜沉积技术和c- BN 薄膜质量都已取得显著进步。介绍c - BN 薄膜的用途、结构、制备方法及存在的问题。重点总结了控制c- BN 相形成的关键因素及c- BN 相形成机理。 展开更多
关键词 脉冲激光 薄膜沉积 立方氮化硼 离子束辅助 沉积
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浅析离子辅助光学薄膜镀膜机的特性 被引量:1
2
作者 李英超 《真空》 CAS 北大核心 2003年第4期26-28,共3页
真空镀膜产品的质量问题 ,一直是应用镀膜技术人员探索的课题。人们经过长期探索 ,采用离子束辅助沉积镀膜技术 ,改善了镀膜层牢固性 ,提高了反射率。本技术在通讯技术、太阳能应用、汽车、装潢等领域应用十分广泛。本文介绍了真空离子... 真空镀膜产品的质量问题 ,一直是应用镀膜技术人员探索的课题。人们经过长期探索 ,采用离子束辅助沉积镀膜技术 ,改善了镀膜层牢固性 ,提高了反射率。本技术在通讯技术、太阳能应用、汽车、装潢等领域应用十分广泛。本文介绍了真空离子束辅助沉积镀膜设备特性。 展开更多
关键词 离子辅助光学薄膜镀膜机 真空镀膜 特性 离子镀膜技术
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离子束辅助反应电子束蒸发TiO_2薄膜的结构和光学性能 被引量:4
3
作者 杨陈 樊慧庆 +1 位作者 李创 陈晋 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期14-17,共4页
TiO2具有较高的折射率和介电常数,在光学和电子学方面有着广泛的应用。本论文采用离子束辅助反应电子束真空蒸镀法,以Ti为膜料,纯度为99.99%的O2为反应气体,通过电子束蒸发,在玻璃衬底上反应生成TiO2薄膜。使用XRD、SEM分别对50℃1、50... TiO2具有较高的折射率和介电常数,在光学和电子学方面有着广泛的应用。本论文采用离子束辅助反应电子束真空蒸镀法,以Ti为膜料,纯度为99.99%的O2为反应气体,通过电子束蒸发,在玻璃衬底上反应生成TiO2薄膜。使用XRD、SEM分别对50℃1、50℃、300℃三个不同衬底温度下沉积的薄膜及其经过450℃真空退火1h后的结构进行了分析,对薄膜的折射率、透射率进行了测量。结果表明,与传统的电子束蒸发相比,离子束辅助电子束蒸发可以增加成膜原子的能量,使沉积的薄膜结构致密,所制备的薄膜具有较高的折射率,并且薄膜在可见光范围内具有良好的透过性能。 展开更多
关键词 TIO2薄膜 电子束蒸发 薄膜结构 光学性质
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等离子辅助电子束蒸发La_2O_3薄膜的制备
4
作者 杨陈 樊慧庆 +1 位作者 焦岗成 惠迎雪 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A01期928-930,共3页
采用等离子辅助电子束蒸发,在Si(100)衬底上沉积La2O3薄膜。随后对非晶的沉积态薄膜在750℃和900℃分别退火1h。实验结果表明,采用等离子辅助电子束蒸发,可以获得非晶态的La2O3薄膜;经750℃热处理后,薄膜部分晶化;经900℃热处理后,薄膜... 采用等离子辅助电子束蒸发,在Si(100)衬底上沉积La2O3薄膜。随后对非晶的沉积态薄膜在750℃和900℃分别退火1h。实验结果表明,采用等离子辅助电子束蒸发,可以获得非晶态的La2O3薄膜;经750℃热处理后,薄膜部分晶化;经900℃热处理后,薄膜显著晶化,晶粒尺寸明显增大,并沿(002)方向择优取向。对薄膜I-V特性的测量结果表明,沉积态薄膜具有较小的漏电流,但随着热处理温度升高,薄膜晶化程度提高,薄膜漏电流逐渐增大;对薄膜透过率的测量结果表明,单面抛光的Si衬底上沉积La2O3薄膜,在近红外范围内有明显的增透效果,最大可达20%左右。 展开更多
关键词 La2O3薄膜 等离子辅助电子束蒸发 薄膜结构 Ⅰ-Ⅴ矿特性 透过率
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离子辅助沉积中离子束流密度的作用 被引量:16
5
作者 张大伟 洪瑞金 +3 位作者 范树海 王英剑 邵建达 范正修 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期477-480,共4页
测量了EndHall离子源在不同条件下的离子束流密度,在不同离子束流密度下进行了Ar离子辅助沉积ZrO2薄膜的实验,研究了离子束流密度对薄膜折射率、晶相的影响根据动量传递模型分析了离子束流密度对薄膜折射率的作用;
关键词 离子辅助 离子束流密度 热尖峰 晶相
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氧化钽薄膜表面形貌和光学性能的研究 被引量:9
6
作者 郭培涛 薛亦渝 +2 位作者 张光勇 王汉华 马中杰 《真空》 CAS 北大核心 2007年第5期32-35,共4页
本文采用电子束蒸发配以Kaufman离子源产生的氧离子辅助沉积了Ta2O5薄膜,用原子力显微镜(AFM)表征了薄膜的表面形貌、表面粗糙度,探讨了Ta2O5薄膜在此工艺下的表面质量。用分光光度计测试了不同厚度下薄膜的透射率,计算出了其折射率。... 本文采用电子束蒸发配以Kaufman离子源产生的氧离子辅助沉积了Ta2O5薄膜,用原子力显微镜(AFM)表征了薄膜的表面形貌、表面粗糙度,探讨了Ta2O5薄膜在此工艺下的表面质量。用分光光度计测试了不同厚度下薄膜的透射率,计算出了其折射率。实验及分析结果表明:所制备的Ta2O5薄膜表面平整度高,是弱吸收薄膜,随薄膜厚度的增加短波截止波长向长波方向略有漂移;折射率随膜厚的变化不大,此制备工艺的可重复性强,制备薄膜性能稳定;薄膜表面粗糙度随膜厚的增加而增加,但是增加不大,所制备Ta2O5薄膜是理想光学薄膜;离子束的加入,使得薄膜表明形貌变化更加复杂,打破了热蒸发制备薄膜的柱状生长模式。 展开更多
关键词 Ta2O5薄膜 离子束辅助 AFM 表面形貌 光学性能
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CrTiAlCN多元多层梯度膜的制备及其结构 被引量:6
7
作者 林松盛 代明江 +5 位作者 朱霞高 李洪武 侯惠君 林凯生 况敏 戴达煌 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期259-264,共6页
采用中频反应磁控溅射、离子束辅助方法沉积CrTiAlCN多元硬质薄膜,利用扫描电镜、俄歇电子谱、透射电镜及X射线衍射等技术对膜层的过渡层、界面及微观结构进行研究。结果表明:沉积制备的膜层为多层梯度过渡结构,成分深度分布及相结构分... 采用中频反应磁控溅射、离子束辅助方法沉积CrTiAlCN多元硬质薄膜,利用扫描电镜、俄歇电子谱、透射电镜及X射线衍射等技术对膜层的过渡层、界面及微观结构进行研究。结果表明:沉积制备的膜层为多层梯度过渡结构,成分深度分布及相结构分析证实,所制备的多元多层梯度膜与所设计的基体/Cr/CrN/CrTiAlN/CrTiAlCN结构相吻合;在梯度过渡中,不同层之间界面体现为渐变过渡过程;沉积制备的多元多层梯度膜硬度高达26.31GPa,膜/基结合力大于80N,摩擦因数低至0.113,力学性能优良。 展开更多
关键词 CrTiAlCN薄膜 磁控溅射 离子束辅助
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氧离子束辅助沉积氧化铪薄膜的激光损伤阈值研究 被引量:5
8
作者 张大伟 吕玮阁 +1 位作者 邵建达 范正修 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期31-32,共2页
电子枪蒸发制备了氧化铪薄膜,对氧离子束辅助和未辅助两种情况下的样品进行了折射率、吸收、激光损伤阈值等属性的测试,结果表明,氧离子束辅助沉积的样品与未辅助沉积的样品相比具有高的折射率和高的吸收,以及稍低的激光损伤阈值。经过... 电子枪蒸发制备了氧化铪薄膜,对氧离子束辅助和未辅助两种情况下的样品进行了折射率、吸收、激光损伤阈值等属性的测试,结果表明,氧离子束辅助沉积的样品与未辅助沉积的样品相比具有高的折射率和高的吸收,以及稍低的激光损伤阈值。经过分析发现,薄膜的激光损伤阈值是影响薄膜抗激光特性的不利因素和有利因素竞争的结果,离子束辅助沉积技术在引入结构致密等有利因素的同时,也引入了吸收增加等不利因素。 展开更多
关键词 离子束辅助沉积 氧化铪 激光损伤阈值 微弱吸收
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离子束强化镀氮化钛薄膜正艺的研究
9
作者 崔永植 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1990年第3期265-271,共7页
本文系统地研究了离子束强化高频离子镀TiN的工艺参数。为了比较其效果,相应地进行了高频离子镀、离子束强化蒸镀工艺实验。测量了上述三种方法镀膜的物理性能、分析了组织结构。离子束强化不仅提高了沉积速率,而且有明显的细化晶粒、... 本文系统地研究了离子束强化高频离子镀TiN的工艺参数。为了比较其效果,相应地进行了高频离子镀、离子束强化蒸镀工艺实验。测量了上述三种方法镀膜的物理性能、分析了组织结构。离子束强化不仅提高了沉积速率,而且有明显的细化晶粒、择优取向的作用。本研究所得结果对提高 TiN 沉积速率、膜质量都有实用意义。 展开更多
关键词 离子镀膜 氮化钛 薄膜
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离子束辅助磁控溅射沉积CrN_x薄膜结构以及力学性能研究 被引量:3
10
作者 张栋 孙丽丽 +3 位作者 王振玉 柯培玲 汪爱英 谢仕芳 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第12期1237-1241,共5页
采用离子束辅助磁控溅射工艺制备CrNx薄膜,研究了不同氮气流量下薄膜微观形貌,组织结构以及力学性能的变化。采用台阶仪测量薄膜的厚度,采用场发射扫描电镜、扫描探针显微镜、X射线衍射仪测试薄膜的表面形貌特征以及组织结构,采用纳米... 采用离子束辅助磁控溅射工艺制备CrNx薄膜,研究了不同氮气流量下薄膜微观形貌,组织结构以及力学性能的变化。采用台阶仪测量薄膜的厚度,采用场发射扫描电镜、扫描探针显微镜、X射线衍射仪测试薄膜的表面形貌特征以及组织结构,采用纳米压痕仪测试薄膜的硬度以及弹性模量。实验结果表明,随氮气流量增加,薄膜沉积速率先降低后保持稳定,粗糙度先减小后增加,相组成由Cr2N相转变为CrN相,硬度、弹性模量先增加后降低。由于Ar离子束的辅助轰击以及N离子的高反应活性,在氮气流量为10 ml/min时,获得了结构致密,表面光滑,晶粒细小,相组成为Cr2N的力学性能优异的薄膜。 展开更多
关键词 磁控溅射 CrNx 离子束辅助力学性能
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NiCr合金基底上离子源辅助激光制备CeO_2薄膜及其结构分析 被引量:1
11
作者 郝梅 黄新堂 +3 位作者 王又青 王秋良 陈清明 徐启阳 《华中师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2000年第2期157-160,共4页
室温下在 Ni Cr合金 ( Hastelloy c-2 75)基底上应用 Ar+ 离子源辅助 ,准分子脉冲激光沉积了Ce O2 薄膜 .结果表明 :在合适的外部条件控制下 ,直接在 Ni Cr合金基底上可以制备出 c-轴取向的 Ce O2薄膜 ,但这时的 Ce O2 薄膜在其 a-b平... 室温下在 Ni Cr合金 ( Hastelloy c-2 75)基底上应用 Ar+ 离子源辅助 ,准分子脉冲激光沉积了Ce O2 薄膜 .结果表明 :在合适的外部条件控制下 ,直接在 Ni Cr合金基底上可以制备出 c-轴取向的 Ce O2薄膜 ,但这时的 Ce O2 薄膜在其 a-b平面内没有观察到织构的信息 ;进一步在相同的条件下 ,首先在 Ni Cr合金基底上制备一层 YSZ( Yttria-Stabilized Zirconia) ,再在 YSZ/Ni Cr上制备 Ce O2 薄膜 ,这时的 Ce O2薄膜不但是 c-轴取向 ,同时在其 a-b平面内织构 . 展开更多
关键词 脉冲激光 离子源辅助 氧化铈薄膜 镍铬合金基底
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辅助气体CH_4和Ar对IBED制备碳膜性能的影响 被引量:1
12
作者 李璞 关凯书 +1 位作者 朱晓东 周建新 《表面技术》 EI CAS CSCD 2006年第4期24-26,共3页
采用离子束辅助沉积技术(IBED)制备了一系列碳膜,重点分析辅助气体CH4、Ar对碳膜组成相、电阻率、厚度和硬度的影响。结果表明:采用CH4辅助轰击制得的薄膜厚度高于采用Ar辅助轰击的薄膜厚度;采用Ar辅助轰击的薄膜在硬度、结合强度方面... 采用离子束辅助沉积技术(IBED)制备了一系列碳膜,重点分析辅助气体CH4、Ar对碳膜组成相、电阻率、厚度和硬度的影响。结果表明:采用CH4辅助轰击制得的薄膜厚度高于采用Ar辅助轰击的薄膜厚度;采用Ar辅助轰击的薄膜在硬度、结合强度方面要优于CH4辅助轰击的薄膜;相对于类金钢石薄膜,所制备的碳膜更接近于类石墨膜。 展开更多
关键词 离子束辅助 增强沉积 碳膜 类石墨膜 结合强度
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偏压对中频反应磁控溅射AlN薄膜结构与性能的影响
13
作者 林松盛 刘兰兰 +2 位作者 曾德长 代明江 胡芳 《真空》 CAS 2012年第6期28-31,共4页
采用离子束辅助中频反应磁控溅射技术在单晶硅及YG6硬质合金基体上沉积AlN薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、显微硬度计、薄膜结合强度划痕试验仪等对薄膜结构及性能进行表征,着重研究了偏压对中频反应溅射沉积AlN薄膜... 采用离子束辅助中频反应磁控溅射技术在单晶硅及YG6硬质合金基体上沉积AlN薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、显微硬度计、薄膜结合强度划痕试验仪等对薄膜结构及性能进行表征,着重研究了偏压对中频反应溅射沉积AlN薄膜结构和性能的影响。研究结果表明:所制备的AlN薄膜是由AlN相和Al相组成的,偏压的增大,有利于薄膜结晶度的提高,AlN沿(100)晶面择优取向增强;同时,随着偏压的增加,所沉积的AlN薄膜致密度和膜/基结合力均显著提高,而膜层沉积速率和膜基复合硬度则呈降低的规律。 展开更多
关键词 ALN薄膜 偏压 中频反应磁控溅射 离子束辅助
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不锈钢基底高电流密度YBCO超导线材
14
作者 黄新堂 王又青 +1 位作者 陈清明 徐启阳 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第1期91-94,共4页
室温下应用Ar+ 离子源辅助准分子脉冲激光沉积(002)取向的YSZ(Yttria-stabilized zirco-nia)过渡层薄膜于不锈钢基底上;基底加温至750℃,用准分子脉冲激光沉积高电流密度YBCO(YBa... 室温下应用Ar+ 离子源辅助准分子脉冲激光沉积(002)取向的YSZ(Yttria-stabilized zirco-nia)过渡层薄膜于不锈钢基底上;基底加温至750℃,用准分子脉冲激光沉积高电流密度YBCO(YBa2Cu3O7- x) 高温超导线材。实验结果表明:YBCO 超导线材临界温度Tc ≥90 K (R=0),临界电流密度Jc ≥1×106 A/cm 2(77 K,0 T)。 展开更多
关键词 YBCO线材 不锈钢基底 超导线材
原文传递
Hastelloyc-275上激光沉积YBCO超导线材
15
作者 黄新堂 王又青 +1 位作者 陈清明 王秋良 《华中理工大学学报》 CSCD 北大核心 1999年第9期41-44,共4页
室温下应用Ar+ 离子源辅助准分子脉冲激光沉积 (0 0 2) 取向的 YSZ过渡层薄膜于NiCr 合金基底上;基底加温至750 ℃,用准分子脉冲激光沉积YBCO 高温超导薄膜于YSZ/NiCr 上,并切割成线材.实验结果表明... 室温下应用Ar+ 离子源辅助准分子脉冲激光沉积 (0 0 2) 取向的 YSZ过渡层薄膜于NiCr 合金基底上;基底加温至750 ℃,用准分子脉冲激光沉积YBCO 高温超导薄膜于YSZ/NiCr 上,并切割成线材.实验结果表明:YBCO 超导线材不但为c-轴取向的,同时为在a-b 平面内织构的,其临界温度Tc≥90 K(R= 0),临界电流密度Jc≥1×106 A/cm 2(77 K,0 T). 展开更多
关键词 高电流密度 YBCO线材 激光沉积法 超导体
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不锈钢基底上离子源辅助激光制备CeO_2薄膜及其结构分析
16
作者 黄新堂 王又青 +1 位作者 陈清明 徐启阳 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期499-504,共6页
室温下在不锈钢基底上应用Ar+离子源辅助,准分子脉冲激光沉积了CeO2薄膜.研究结果表明:在合适的工艺条件下,直接在不锈钢基底上可以制备出c轴取向的CeO2薄膜,但这时的CeO2薄膜在其a-b平面内没有观察到织构的信息;进一步在相同的... 室温下在不锈钢基底上应用Ar+离子源辅助,准分子脉冲激光沉积了CeO2薄膜.研究结果表明:在合适的工艺条件下,直接在不锈钢基底上可以制备出c轴取向的CeO2薄膜,但这时的CeO2薄膜在其a-b平面内没有观察到织构的信息;进一步在相同的条件下,首先在不锈钢基底上制备一层YSZ(Yttria-StabilizedZirconia),再在YSZ/不锈钢上制备CeO2薄膜,实验结果显示出这时的CeO2薄膜不但是c轴取向,同时在其a-b平面内织构. 展开更多
关键词 脉冲激光 薄膜 不锈钢基底 二氧化铈 结构分析
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辅助离子束对中频孪生磁控反应溅射制备氧化钛光学薄膜的影响
17
作者 望咏林 颜悦 +2 位作者 伍建华 温培刚 张晓锋 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期514-519,共6页
本文利用孪生靶50 kHz中频磁控反应溅射的方法,在多孔阳极层离子束源产生的低温离子束辅助条件下制备了光学性能良好的氧化钛薄膜。利用原子力显微镜、分光光度计、椭圆偏振光谱仪研究了离子束功率以及退火温度对氧化钛薄膜形貌、光学... 本文利用孪生靶50 kHz中频磁控反应溅射的方法,在多孔阳极层离子束源产生的低温离子束辅助条件下制备了光学性能良好的氧化钛薄膜。利用原子力显微镜、分光光度计、椭圆偏振光谱仪研究了离子束功率以及退火温度对氧化钛薄膜形貌、光学折射率和消光系数、孔隙率等的影响。结果表明:利用中频孪生磁控溅射的方法将沉积工艺控制在反应过渡区,可以有效的抑制钛靶中毒和阳极消失,反应溅射过程稳定;辅助离子束提高了等离子体的电荷密度;氧化钛薄膜堆积密度和光学折射率也有所提高,薄膜表面趋于平坦,孔隙率降低。氧化钛薄膜在高温退火处理时由于出现从非晶到多晶转变以及晶体长大与转变,结构逐渐趋于完整,表面粗糙度不断增加;800℃时完全转化为金红石相,晶粒直径约70 nm。 展开更多
关键词 氧化钛薄膜磁控反应溅射 中频孪生离子束辅助沉积
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离子束辅助蒸发对ZnS,MgF_2及Al膜层性能的影响
18
作者 王红萍 闫席珍 《太原科技》 2008年第12期92-93,共2页
通过实验数据证明了离子束辅助蒸发对ZnS,MgF2及Al膜层折射率、牢固度及环境耐受性的影响,并简要分析了产生这些影响的原因。
关键词 离子束辅助 膜层 光学薄膜材料
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离子束辅助真空电弧沉积TiO_(2-x)N_x薄膜及抗菌性能研究
19
作者 成晓玲 胡社军 +2 位作者 胡永俊 谢光荣 魏志钢 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第6期570-574,共5页
采用离子束辅助真空电弧沉积技术在玻璃衬底上制备了氮掺杂的TiO_2薄膜样品,通过X射线衍射(XRD)、XPS以及UV-Vis分光光度计等测试手段对离子束辅助沉积样品的结构、表面成分及抗菌活性进行了分析,研究了经离子束辅助沉积氮掺杂的TiO_2... 采用离子束辅助真空电弧沉积技术在玻璃衬底上制备了氮掺杂的TiO_2薄膜样品,通过X射线衍射(XRD)、XPS以及UV-Vis分光光度计等测试手段对离子束辅助沉积样品的结构、表面成分及抗菌活性进行了分析,研究了经离子束辅助沉积氮掺杂的TiO_2薄膜的抗菌性能。结果表明:离子束辅助沉积的氮掺杂的TiO_3薄膜为非晶态结构,热处理后向锐钛矿转变,出现(101)面的择优取向。离子束流越大,TiO_(2-x)N_x薄膜红移的越少;抗菌活性随着离子束流的增加而减弱,但离子束辅助沉积的掺氮TiO_2薄膜抗菌活性均比传统真空电弧沉积的薄膜抗菌活性高。离子束辅助沉积的掺氮TiO_2薄膜对大肠杆菌、金黄色葡萄球菌自然光照的抑菌率的抗菌率均可达99.9%以上。 展开更多
关键词 二氧化钛 薄膜 离子束辅助 氮掺杂 抗菌特性
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CrTiAlCuN多元硬质薄膜的制备及其性能
20
作者 林松盛 杨建成 +4 位作者 汪唯 郭朝乾 唐鹏 苏一凡 代明江 《材料研究与应用》 CAS 2021年第3期191-195,共5页
采用离子束辅助磁控溅射技术制备CrTiAlCuN薄膜,利用扫描电镜(能谱仪)、X射线衍射仪、硬度计、划痕仪及磨擦磨损试验仪分析检测膜层的结构及主要力学性能.结果表明:所制备CrTiAlCuN膜层厚度约2.0μm,膜层细腻致密,呈典型的柱状晶生长;... 采用离子束辅助磁控溅射技术制备CrTiAlCuN薄膜,利用扫描电镜(能谱仪)、X射线衍射仪、硬度计、划痕仪及磨擦磨损试验仪分析检测膜层的结构及主要力学性能.结果表明:所制备CrTiAlCuN膜层厚度约2.0μm,膜层细腻致密,呈典型的柱状晶生长;膜层中的主要元素是Cr,其含量占40%左右;膜层呈现出与CrN相近的晶体结构和晶格常数,晶格中部分Cr原子被Ti和Al替代;膜层的显微硬度达3255Hv,结合力为74N,而Cu的引入使摩擦系数降低至0.366,薄膜具有优良的综合性能. 展开更多
关键词 CrTiAlCuN膜 磁控溅射 离子束辅助
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