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基准离焦偏差控制技术被引量：4: 1; 作者梁宜勇《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期43-45,共3页; 一种新的采用基准离焦信号的针孔调焦方案,用于激光直写的自动对焦子系统。通过在离焦曲线上提取参考离焦信号,建立基准离焦判据,它能容易地区分前离焦或后离焦,有效地克服了原有针孔调焦方案难于根据离焦信号来分辨离焦方向的弱点。借... 展开更多; 关键词激光直写系统针孔调焦法激光光刻基准离焦量偏差控制; 下载PDF 职称材料

激光在微电子器件制造中的应用被引量：3: 2; 作者冯伯儒《光电工程》 CAS CSCD 1991年第5期48-62,共15页; 本文比较系统地介绍了激光在半导体微电子器件制造中的应用。对准分子激光器与光刻技术、激光图形发生,全息掩模与硅片检测、掩模缺陷激光修补与激光化学气相沉积,以及其它方面的一些激光应用作了比较详细的叙述。; 关键词半导体器件制造激光激光器光刻; 下载PDF 职称材料

校正激光直写邻近效应的快速方法被引量：2: 3; 作者杜惊雷郭永康 +4 位作者黄奇忠粟敬钦高福华邱传凯崔铮《光电工程》 CAS CSCD 1998年第6期51-54,共4页; 针对激光直写中的邻近效应的特点，提出通过直写曝光数据预补偿进行光学邻近效应校正的快速、有效方法，并获得了满意的实验结果。; 关键词激光直写邻近效应激光光刻; 下载PDF 职称材料

ISI-2802激光直写系统及其应用被引量：6: 4; 作者侯德胜杜春雷 +1 位作者邱传凯白临波《光电工程》 CAS CSCD 1997年第S1期27-31,共5页; 介绍中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室引进的国内首台激光直写系统的工作模式、基本结构、主要性能和应用范围等，并给出用这台设备已经作出的一些掩模图形的样品。; 关键词激光直写掩模二元光学激光光刻机; 下载PDF 职称材料

激光直写光刻工艺技术研究被引量：2: 5; 作者邱传凯杜春雷侯德胜《光电工程》 CAS CSCD 1997年第S1期37-41,46,共6页; 研究了利用激光直写技术制作微细图形的工艺方法，应用ＩＳＩ－２８０２型激光直写系统，通过实验，分析了激光曝光机理以及提高实用分辨力的途径。得到了激光直写系统参数与处理工艺参数之间的匹配关系，实验数据对研究制作各种掩模版... 展开更多; 关键词激光直写光刻工艺激光光刻机图形制备曝光; 下载PDF 职称材料

激光直写系统中的对准技术应用研究: 6; 作者邱传凯杜春雷 +1 位作者白临波周崇喜《光电工程》 CAS CSCD 1997年第S1期98-103,共6页; 基于ＩＳＩ－２８０２型激光直写系统原有基片的多图形对准方法，针对衍射光学元件（ＤＯＥ）图形的特点，通过设计合理的对准标记、修改对准识别文件和实验，产生了一套适于ＤＯＥ图形套刻的对准方案。其对准误差小，达到了系统规定指... 展开更多; 关键词衍射光学元件激光光刻机激光直写精密定位对准精度; 下载PDF 职称材料

激光直写系统图形编辑软件: 7; 作者白临波孙国良《光电工程》 CAS CSCD 1997年第S1期32-36,共5页; 简要描述了一套针对激光直写系统，适用于衍射光学元件和精密码盘及其它图形的图形辅助编辑软件——ＭＡＳＫ软件，简单介绍了其功能和结构。; 关键词激光直写衍射光学元件图形软件计算机控制激光光刻机; 下载PDF 职称材料

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