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基于实数编码自适应遗传算法的膜系优化设计 被引量：14
1
作者 王霞 汪晓东 吕岿 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2004年第1期51-55,共5页
提出一种基于实数编码自适应遗传算法的膜系设计新方法,并将该方法与常用设计方法及传统遗传算法设计结果进行比较。结果表明,在相同设计要求下,用实数编码自适应遗传算法可以得到更加合理的膜系结构。理论和实践均表明该方法是高效、... 提出一种基于实数编码自适应遗传算法的膜系设计新方法,并将该方法与常用设计方法及传统遗传算法设计结果进行比较。结果表明,在相同设计要求下,用实数编码自适应遗传算法可以得到更加合理的膜系结构。理论和实践均表明该方法是高效、可靠的。 展开更多
关键词 实数编码自适应遗传算法 膜系设计 光谱反射率 薄膜光学
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多孔阳极氧化铝薄膜光学常数的确定 被引量：13
2
作者 王成伟 王建 +4 位作者 李燕 刘维民 徐洮 孙小伟 力虎林 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期439-444,共6页
根据多孔阳极氧化铝 (AAO)薄膜的实验透射谱 ( 2 0 0— 2 5 0 0nm) ,采用极值包络线算法确定其光学常数 ,并由此较精确地计算出AAO薄膜样品在该波段的光学常数 .结果表明 ,多孔氧化铝薄膜表现出直接带隙 (能隙约 4 .5eV)半导体的光学特... 根据多孔阳极氧化铝 (AAO)薄膜的实验透射谱 ( 2 0 0— 2 5 0 0nm) ,采用极值包络线算法确定其光学常数 ,并由此较精确地计算出AAO薄膜样品在该波段的光学常数 .结果表明 ,多孔氧化铝薄膜表现出直接带隙 (能隙约 4 .5eV)半导体的光学特性 ,且其光学常数与制样中的重要工艺参数阳极氧化电压有显著的相关性 ,即随阳极氧化电压的增加 ,AAO薄膜的厚度、折射率和光学能隙变大 ,消光系数减小 .同时 ,计算得到的薄膜厚度与实测值相吻合 。 展开更多
关键词 光学常数 光学能隙 自洽 薄膜厚度 带隙 透射谱 极值 铝薄膜 多孔 波段
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深紫外/紫外薄膜材料的光学常数研究 被引量：16
3
作者 薛春荣 易葵 +2 位作者 齐红基 范正修 邵建达 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第8期2135-2139,共5页
为了进一步明确氟化薄膜材料在深紫外-紫外波段(DUV-UV)的光学常数,研究了深紫外-紫外波段常用的6种大带隙的氟化物薄膜材料,分别在熔石英(JGS1)基底和氟化镁单晶基底上用热舟蒸发镀制了3种高折射率材料薄膜LaF_3,NdF_3,GdF_3和3种低折... 为了进一步明确氟化薄膜材料在深紫外-紫外波段(DUV-UV)的光学常数,研究了深紫外-紫外波段常用的6种大带隙的氟化物薄膜材料,分别在熔石英(JGS1)基底和氟化镁单晶基底上用热舟蒸发镀制了3种高折射率材料薄膜LaF_3,NdF_3,GdF_3和3种低折射率材料薄膜MgF_2,AlF_3,Na_3AlF_6;用商用Lambda900光谱仪测量了它们在190～500 nm范围的透射率光谱曲线;用包络法和迭代算法相结合研究了它们的折射率和消光系数,由柯西色散公式和指数色散公式对得到的离散折射率和消光系数的值用最小二乘法进行曲线拟合,得到了6种薄膜材料在所测波段内的折射率和消光系数的色散公式和色散曲线。所得结果与文献报道的MgF_2和LaF_3的结果相一致,证明了结果的可靠性。 展开更多
关键词 薄膜光学 氟化物薄膜 光学常数 包络法 迭代算法
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纳米孔隙薄膜中孔隙率与折射率关系的研究 被引量：11
4
作者 杨振宇 朱大庆 +4 位作者 陆冬生 张爱卿 赵茗 宁娜 刘拥军1 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第11期1366-1369,共4页
用时域有限差分算法 (FDTD)构造了纳米孔隙高分子薄膜的网格结构 ,并模拟了理想单色平面光波在纳米孔隙高分子薄膜中的传输过程 ,计算出不同孔隙率的薄膜所对应的等效折射率。模拟结果显示纳米孔隙薄膜的等效折射率与孔隙率呈线性递减... 用时域有限差分算法 (FDTD)构造了纳米孔隙高分子薄膜的网格结构 ,并模拟了理想单色平面光波在纳米孔隙高分子薄膜中的传输过程 ,计算出不同孔隙率的薄膜所对应的等效折射率。模拟结果显示纳米孔隙薄膜的等效折射率与孔隙率呈线性递减的关系。还利用固体材料学中的混合材料等效介电常量理论建立了一种混合介质并联理论模型 ,很好地解释了纳米孔隙高分子薄膜孔隙率与等效折射率的关系而且得到了纳米孔隙高分子薄膜等效折射率与孔隙率的函数关系式。将模拟结果与混合介质并联理论模型相比较 ,发现该理论模型的函数曲线与时域有限差分算法模拟的结果相互吻合。 展开更多
关键词 薄膜光学 纳米材料 孔隙率 等效折射率 时域有限差分算法 高分子薄膜 等效介电常量理论
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K9和石英玻璃基片上Au膜真空紫外反射特性研究 被引量：9
5
作者 干蜀毅 徐向东 +2 位作者 洪义麟 刘颍 付绍军 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第8期1529-1535,共7页
采用离子束溅射法,分别在经过不同前期清洗方法处理过的K9及石英玻璃光学基片上,选择不同的镀膜参量,镀制了多种厚度的Au膜。对镀制的Au膜在真空紫外波段较宽波长范围内的反射率进行了连续测量。测试结果表明:辅助离子源的使用方式、Au... 采用离子束溅射法,分别在经过不同前期清洗方法处理过的K9及石英玻璃光学基片上,选择不同的镀膜参量,镀制了多种厚度的Au膜。对镀制的Au膜在真空紫外波段较宽波长范围内的反射率进行了连续测量。测试结果表明:辅助离子源的使用方式、Au膜厚度对反射镜的反射率有重大影响。基片材料、镀前基片表面清洗工艺等对反射率也有一定影响。采用镀前离子轰击,可显著提高Au膜反射率及膜与基底的粘合力;获得最高反射率时的最佳膜厚与基片材料、镀膜工艺密切相关。对经过离子清洗的石英基片,膜厚在30 nm左右反射率最高;比较而言,石英基片可获得更高的反射率;辅助离子源的使用还显著影响获得最高反射率时对应的最佳膜厚值,且对K9基片的影响更显著。 展开更多
关键词 薄膜光学 真空紫外反射镜 离子束溅射 真空紫外反射膜 Au膜 K9玻璃基片 石英玻璃基片
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用离子束溅射方法制备的钛薄膜表面形貌分析 被引量：7
6
作者 齐红基 程传福 +2 位作者 袁景梅 邵建达 范正修 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期480-484,共5页
用离子束溅工艺在K9玻璃基片上沉积Ti薄膜 ,并用原子力显微镜对其表面形貌进行测量 ,通过数值相关运算 ,发现在此工艺条件下薄膜生长界面为各向同性的自仿射分形表面 ,并用粗糙指数、横向相关长度和标准偏差粗糙度对薄膜样品表面进行定... 用离子束溅工艺在K9玻璃基片上沉积Ti薄膜 ,并用原子力显微镜对其表面形貌进行测量 ,通过数值相关运算 ,发现在此工艺条件下薄膜生长界面为各向同性的自仿射分形表面 ,并用粗糙指数、横向相关长度和标准偏差粗糙度对薄膜样品表面进行定量描述。利用自仿射分形表面的相关函数对数值运算的结果进行拟合 ,得出Ti薄膜生长界面的粗糙度指数α =0 .72 ,相应的分形维数Df=2 .2 8,并由此得到在离子束溅射工艺下Ti薄膜属于守恒生长的结论 ,其生长动力学过程可用Kuramoto Sivashinsky方程来描述。 展开更多
关键词 离子束溅射方法 钛薄膜 表面形貌 制备 自仿射分形 测量 生长动力学
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90°反射式相位延迟器的设计 被引量：7
7
作者 黄建兵 王英剑 +3 位作者 方明 洪瑞金 邵建达 范正修 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第9期1169-1172,共4页
铜蒸气激光反射镜在非正入射的时候 ,两个不同的偏振态之间会产生不同的相移。通过优化设计 ,在4 90～ 5 30nm之间p、s波获得了 90°的相移 ,同时也使反射率在 99 998%以上。Ag层的厚度对于相移不敏感 ,并且当其厚度大于一定值的时... 铜蒸气激光反射镜在非正入射的时候 ,两个不同的偏振态之间会产生不同的相移。通过优化设计 ,在4 90～ 5 30nm之间p、s波获得了 90°的相移 ,同时也使反射率在 99 998%以上。Ag层的厚度对于相移不敏感 ,并且当其厚度大于一定值的时候 ,对反射率没有影响。根据误差分析 ,制备薄膜时其沉积速率精度控制在± 1%以下 ,在光谱范围内能达到± 15 2 8°的相移误差 ,相移均在 5 0 4nm处附近存在有一个收敛值。折射率的变化控制在± 1%以下 ,在光谱范围内能达到± 12 77°的相移误差。最外一层厚度变化± 1% ,其相移变化达到± 5 5°,2～ 5层和 9～ 16层对相移的影响也在 0 .5°之上 ,其余各层对相移影响非常的小。使用时的入射角控制在± 1°时 ,在光谱范围内能达到± 2 .86°的相移误差。在 5 30nm附近的波段对入射角不敏感。 展开更多
关键词 薄膜光学 相移 90° 反射式 容差分析
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三半波带通滤光片的制作与膜厚分析 被引量：8
8
作者 张子业 周东平 张凤山 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期710-712,共3页
在光学薄膜镀制中,比较片与样品片之间的厚度比例关系是间接监控法成功的重要参数计算表明,三半波带通滤光片中心位置能大致推测出这一关系,通带形状能粗略反映镀制过程中的变化以及不同膜料间的比例系数差别 后期,作者顺利制作出多个... 在光学薄膜镀制中,比较片与样品片之间的厚度比例关系是间接监控法成功的重要参数计算表明,三半波带通滤光片中心位置能大致推测出这一关系,通带形状能粗略反映镀制过程中的变化以及不同膜料间的比例系数差别 后期,作者顺利制作出多个不同中心位置的带通滤光片. 展开更多
关键词 薄膜光学 三半波滤光片 比例系数 膜厚分析
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脉冲激光淀积MgF_2薄膜的制备及性质研究 被引量：7
9
作者 于琳 韩新海 +4 位作者 王冠中 揭建胜 廖源 余庆选 方容川 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2004年第1期48-50,共3页
本文采用脉冲激光淀积方法(PLD)制备了MgF2光学薄膜,并对其表面形貌以及光学性质进行了测试分析, X射线光电子能谱分析显示MgF2样品具有很好的化学组分配比, F/Mg原子比在1.9-2.1之间,接近于体材料;在可见光波段其光学透过率为60％-80％... 本文采用脉冲激光淀积方法(PLD)制备了MgF2光学薄膜,并对其表面形貌以及光学性质进行了测试分析, X射线光电子能谱分析显示MgF2样品具有很好的化学组分配比, F/Mg原子比在1.9-2.1之间,接近于体材料;在可见光波段其光学透过率为60％-80％,在红外波段更是达到了90％以上,由KK变换计算MgF2的折射率大约为1.39,也接近于体材料的折射率1.38。 展开更多
关键词 脉冲激光淀积 MgF2薄膜 折射率 透过率 薄膜光学
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基于数字光刻投影系统的快速微加工技术 被引量：8
10
作者 张雅雅 崔建国 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2015年第3期448-453,共6页
设计一种经济有效的微流体芯片加工方法,可以快速地在聚二甲基硅氧烷(PDMS)表面加工出不同尺寸的微流路。利用商用数字投影仪的成像原理,对其进行简单的改装,得到成缩小像的数字光刻投影系统(DLPS),并利用该系统在PDMS表面加工微流路;... 设计一种经济有效的微流体芯片加工方法,可以快速地在聚二甲基硅氧烷(PDMS)表面加工出不同尺寸的微流路。利用商用数字投影仪的成像原理,对其进行简单的改装,得到成缩小像的数字光刻投影系统(DLPS),并利用该系统在PDMS表面加工微流路;同时通过荷叶效应和毛细吸附效应两组实验,对DLPS的加工性能进行了验证和应用。该DLPS可在PDMS表面加工微结构,最小稳定加工精度可达40μm,通过模仿荷叶效应获得的材料表面,其疏水角增加到123°±3°。该DLPS系统可用于快速加工微流体芯片,当流路尺寸要求不是很严格时,低成本和高效率等优点使该系统完全适合在普通实验室开展微流体技术的研究。 展开更多
关键词 薄膜光学 微流路 数字光刻投影系统 聚二甲基硅氧烷 荷叶效应 毛细吸附效应
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折射率色散效应对晶体硅太阳电池反射率的影响 被引量：5
11
作者 白一鸣 陈诺夫 +1 位作者 彭长涛 梁平 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第7期1202-1206,共5页
为了分析色散效应对晶体硅太阳电池反射率的影响,在考虑材料折射率色散效应的情况下,运用光学干涉矩阵计算了具有SiO2单层减反射膜和MgF2/ZnS双层减反射膜晶体硅太阳电池的反射率与波长的函数关系,并与实验结果和未考虑色散效应的计算... 为了分析色散效应对晶体硅太阳电池反射率的影响,在考虑材料折射率色散效应的情况下,运用光学干涉矩阵计算了具有SiO2单层减反射膜和MgF2/ZnS双层减反射膜晶体硅太阳电池的反射率与波长的函数关系,并与实验结果和未考虑色散效应的计算结果进行了对比分析.结果表明:考虑折射率色散效应的计算结果与实验测量数据完全相符,而未考虑折射率色散效应的计算结果与实验测量数据相差较大,最大差值分别为21.5%和16.9%. 展开更多
关键词 薄膜光学 减反射膜 晶体硅太阳电池 色散效应
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超大数值孔径光刻中掩模保护膜优化及偏振像差研究 被引量：8
12
作者 周远 李艳秋 刘光灿 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期171-176,共6页
超大数值孔径(NA)光刻成像中,掩模保护膜上的入射光线入射角范围增大,用传统方法优化掩模保护膜难以增大斜入射光的透射率。基于薄膜光学原理提出一种新的掩模保护膜优化方法,确保光线在整个入射角范围内的平均透射率最大。利用琼斯矩... 超大数值孔径(NA)光刻成像中,掩模保护膜上的入射光线入射角范围增大,用传统方法优化掩模保护膜难以增大斜入射光的透射率。基于薄膜光学原理提出一种新的掩模保护膜优化方法,确保光线在整个入射角范围内的平均透射率最大。利用琼斯矩阵方法探讨膜层的透射属性和相位特征,得到相应的琼斯光瞳来分析膜层带来的偏振像差。结果表明,对比传统的掩模保护膜优化方法,新方法能有效提高斜入射光线的透射率,减小膜层引起的偏振像差。新的掩模保护膜优化方法能为超大NA光刻成像的掩模保护膜设置提供必要的理论基础和技术支撑。 展开更多
关键词 成像系统 偏振像差 超大数值孔径光刻 掩模保护膜 琼斯矩阵方法 薄膜光学
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复合纳米光学变色薄膜 被引量：6
13
作者 倪星元 吕俊霞 +4 位作者 魏建东 吴广明 周斌 沈军 王珏 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期433-436,共4页
用热蒸发和磁控溅射的物理镀膜方法和溶胶凝胶化学涂布的方法相结合制备了有机和无机复合纳米光学变色薄膜。光学变色薄膜为多层薄膜 ,当有自然光进入光学变色薄膜时 ,随着入射光和视角的变化在薄膜上可以看到明显的光变色效果。这种薄... 用热蒸发和磁控溅射的物理镀膜方法和溶胶凝胶化学涂布的方法相结合制备了有机和无机复合纳米光学变色薄膜。光学变色薄膜为多层薄膜 ,当有自然光进入光学变色薄膜时 ,随着入射光和视角的变化在薄膜上可以看到明显的光变色效果。这种薄膜可以单独或与油墨组合作为一种新颖的防伪材料。根据多层复合膜光干涉原理经设计和计算确定薄膜为PET/Cr/介质 /Al膜系结构。介质分别是有机高聚物和SiO2 。SiO2 是多孔纳米材料 ,用溶胶凝胶方法制备 ,通过调节催化和凝胶的方式和条件 ,折射率在 1.15～ 1.4 5之间。 展开更多
关键词 薄膜光学 光学变色薄膜 纳米材料 磁控溅射法 折射率 溶胶-凝胶法
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Ag/AAO纳米有序阵列复合结构等效光学参量的确定 被引量：5
14
作者 王建 王成伟 +2 位作者 李燕 刘维民 Zaima Shigeaki 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第12期5920-5925,共6页
引入厚度偏差Δd,修正了薄膜透射率表达式.基于Ag/AAO纳米有序阵列复合结构实验透射光谱(500—2700nm)的两条极值包络线,定义了一个优化函数,结合最优化数值算法尝试确定具有较强吸收的Ag/AAO纳米有序阵列复合结构的等效光学参量.由此... 引入厚度偏差Δd,修正了薄膜透射率表达式.基于Ag/AAO纳米有序阵列复合结构实验透射光谱(500—2700nm)的两条极值包络线,定义了一个优化函数,结合最优化数值算法尝试确定具有较强吸收的Ag/AAO纳米有序阵列复合结构的等效光学参量.由此计算了该结构的等效折射率n、等效消光系数k、平均等效厚度-d以及厚度偏差Δd.该方法对Ag/AAO纳米复合结构平均等效厚度的相对计算误差仅为0.3%,与实测厚度基本一致,且Ag/AAO纳米复合结构的模拟透射谱与实验透射光谱在500—2700nm波段范围内相符.这表明该计算方法可有效确定Ag/AAO纳米复合结构的等效光学参量,并与实验结果是自洽的. 展开更多
关键词 薄膜光学 光学参量 纳米复合结构 最优化算法
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电子束蒸发和离子束溅射HfO_2紫外光学薄膜 被引量：7
15
作者 邓文渊 李春 金春水 《中国光学与应用光学》 2010年第6期630-636,共7页
HfO2薄膜在紫外光学中具有十分重要的地位,不同方法制备的HfO2薄膜特性不同,可以满足不同的实际应用需求。本文分别利用电子束蒸发和离子束溅射方法制备了用于紫外光区域的HfO2薄膜,并对薄膜的材料和光学特性进行了表征与比较。通过对单... HfO2薄膜在紫外光学中具有十分重要的地位,不同方法制备的HfO2薄膜特性不同,可以满足不同的实际应用需求。本文分别利用电子束蒸发和离子束溅射方法制备了用于紫外光区域的HfO2薄膜,并对薄膜的材料和光学特性进行了表征与比较。通过对单层HfO2薄膜的实测透射和反射光谱进行数值反演,得到了HfO2薄膜在230～800 nm波段的折射率和消光系数色散曲线,结果表明两种方法制备的HfO2薄膜在250nm的消光系数均小于2×10-3。在此基础上,制备了两种典型的紫外光学薄膜元件(紫外低通滤波器和240nm高反射镜),其光谱性能测试结果表明,两种不同方法制备的器件均具有较好的光学特性。 展开更多
关键词 薄膜光学 电子束蒸发 离子束溅射 高反射镜 X射线衍射术 X射线光电子能谱
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聚合物纳米孔隙增透膜制备工艺的研究 被引量：4
16
作者 杨振宇 朱大庆 +2 位作者 赵茗 金曦 孙涛 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期152-156,共5页
论述了聚合物纳米孔隙增透膜的制备工艺流程,分析了聚合物材料分子量、实验环境温度和湿度、溶剂挥发性等条件对纳米孔隙增透膜的影响。研究表明,聚合物材料分子量的增大、温度的降低、湿度的升高以及采用挥发性弱的溶剂都将导致增透膜... 论述了聚合物纳米孔隙增透膜的制备工艺流程,分析了聚合物材料分子量、实验环境温度和湿度、溶剂挥发性等条件对纳米孔隙增透膜的影响。研究表明,聚合物材料分子量的增大、温度的降低、湿度的升高以及采用挥发性弱的溶剂都将导致增透膜孔隙尺寸的增大,孔隙越大其对光的散射损耗就会增大,所以增透膜的透过率就越低。通过大量的试验分析得出一组较理想的工艺参量:使用低分子量的聚合物材料(小于15 kg/mol),环境温度大于25℃、环境相对湿度小于30%,在采用低沸点的溶剂如四氢呋喃等措施下可有效降低增透膜散射损耗。 展开更多
关键词 薄膜光学 纳米材料 增透膜 纳米孔隙薄膜 制备工艺
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水氨或/和六甲基二硅氮烷表面处理碱催化二氧化硅增透膜结果的对比研究 被引量：6
17
作者 霍艳芳 罗荣辉 苏永钢 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第7期823-827,共5页
针对溶胶-凝胶法制备的1/4波长二氧化硅增透膜耐环境性差的缺点,对其进行了水氨或/和六甲基二硅氮烷的表面处理,并对单一气氛处理和两种气氛联合处理后的膜层性质进行了对比研究.展现了膜层经各项表面处理后物理性质和微观结构的变化,... 针对溶胶-凝胶法制备的1/4波长二氧化硅增透膜耐环境性差的缺点,对其进行了水氨或/和六甲基二硅氮烷的表面处理,并对单一气氛处理和两种气氛联合处理后的膜层性质进行了对比研究.展现了膜层经各项表面处理后物理性质和微观结构的变化,以及两种气氛联合处理时因处理顺序不同而引起的最终结果的差异.研究表明:水氨蒸汽处理促进了膜层粒子间表面羟基的交联,膜层较处理前厚度降低,但耐摩擦性增强,光学透过率基本保持不变;硅氮烷蒸汽处理向膜层引入了甲基,膜层极性较低,粒子间作用力因此降低,耐摩擦性下降,但疏水性得到良好的改善;先水氨后硅氮烷蒸汽处理时,水氨蒸汽的前处理在提高膜层耐摩擦的同时降低了表面羟基的数量,使后续硅氮烷处理时强度降低,故两步处理后膜层保持了较好的耐摩擦性和一定的疏水性;而先硅氮烷后水氨蒸汽处理时,硅氮烷蒸汽的前处理明显改善了膜层的疏水性,却因膜层表面羟基减少、间距增大而降低了水氨蒸汽的处理强度,耐摩擦性虽有较大提高,但稍弱于单一水氨蒸汽处理时的耐摩擦性. 展开更多
关键词 薄膜光学 溶胶-凝胶法 二氧化硅增透膜 表面处理 水氨 六甲基二硅氮烷
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含纳米金属阵列阳极氧化铝膜的偏振特性 被引量：4
18
作者 董艳锋 李清山 +2 位作者 吴福全 张冬青 王菲菲 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期247-250,共4页
利用阳极氧化铝的纳米多孔阵列结构特性 ,将金属Cu电镀到氧化铝的孔中 ,得到含有金属纳米阵列的氧化铝膜。实验发现 ,这种氧化铝膜确实象金属线栅偏振器一样表现出偏振特性 ,是一种新型微偏振器件。它在波长大于 5 0 0nm时吸收很小 ,在... 利用阳极氧化铝的纳米多孔阵列结构特性 ,将金属Cu电镀到氧化铝的孔中 ,得到含有金属纳米阵列的氧化铝膜。实验发现 ,这种氧化铝膜确实象金属线栅偏振器一样表现出偏振特性 ,是一种新型微偏振器件。它在波长大于 5 0 0nm时吸收很小 ,在波长为 1.5 μm时有高达 6 7.1%的透射率和 2 5 .6dB的消光比。该氧化铝膜的偏振特性与阳极氧化和电镀条件有关。随着电流密度的增大 ,金属柱增多 ,光学损失增大 ,透射率降低 ,而偏振度增大。但是当电流密度增加到某一数值时 ,偏振度降低。通过优化制备条件 ,可得到高效率的氧化铝微偏振器。这种微偏振器制作简单 ,体积小 ,在光电通信领域有着非常广泛的应用前景。 展开更多
关键词 薄膜光学 阳极氧化铝膜 微偏振器 透射率 消光比 电镀 纳米金属阵列 光通信
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宽角度入射600～700nm波段减反射薄膜的研究 被引量：5
19
作者 徐晓峰 张凤山 范滨 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第9期1173-1176,共4页
阐述了利用非均匀膜系理论设计宽角度多层减反射薄膜的方法 ,从理论上分析了在宽角度的情况下 ,偏振光产生透过率不同的原因 ,选取了Ta2 O5和SiO2 两种材料作为折射率材料 ,选取BK7作为基底材料模拟设计了光谱区在 6 0 0～ 70 0nm波段... 阐述了利用非均匀膜系理论设计宽角度多层减反射薄膜的方法 ,从理论上分析了在宽角度的情况下 ,偏振光产生透过率不同的原因 ,选取了Ta2 O5和SiO2 两种材料作为折射率材料 ,选取BK7作为基底材料模拟设计了光谱区在 6 0 0～ 70 0nm波段、入射角为 0°～ 80°之间的宽角度多层减反射薄膜 ,探索出了一条新型膜系设计的途径 ,其优化结果是较为理想的。这一研究方法如能在太阳能、光纤通信、航天、激光等领域应用 ,将大大地提高光能的利用率 ,具有重要的应用价值。 展开更多
关键词 薄膜光学 非均匀膜系 多层减反射薄膜 偏振光
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沉积工艺条件对金刚石薄膜红外椭偏光学性质的影响 被引量：4
20
作者 苏青峰 刘健敏 +2 位作者 王林军 史伟民 夏义本 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第10期5145-5149,共5页
采用红外椭圆偏振光谱仪对不同工艺条件下制备的CVD金刚石薄膜在红外波长范围内的光学参量进行了测量,分析了工艺条件对金刚石薄膜红外光学性质的影响.获得了最佳的沉积工艺参数,优化了薄膜的制备工艺.结果表明薄膜的折射率和消光系数... 采用红外椭圆偏振光谱仪对不同工艺条件下制备的CVD金刚石薄膜在红外波长范围内的光学参量进行了测量,分析了工艺条件对金刚石薄膜红外光学性质的影响.获得了最佳的沉积工艺参数,优化了薄膜的制备工艺.结果表明薄膜的折射率和消光系数与薄膜质量密切相关,当温度为750℃,碳源浓度为0·9%和压强为4·0kPa时,金刚石薄膜的红外椭偏光学性质最佳,折射率平均值为2·385,消光系数在10-4范围内,在红外波段具有良好的透过性. 展开更多
关键词 薄膜光学 红外光学性质 工艺条件 金刚石薄膜
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