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扩展电阻法测量亚微米器件的结深和杂质分布
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作者 张安康 李文渊 +1 位作者 王健华 陈明华 《电子器件》 CAS 1998年第3期141-148,共8页
本文介绍了亚微米器件结深和杂质分布的测量方法,叙述了扩展电阻法测量结深的原理。
关键词 结深 扩展电阻 杂质分布 VLSI 亚微米器件
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扩展电阻技术测试外延片外延厚度误差分析 被引量:1
2
作者 张志勤 李胜华 张秀丽 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第10期905-908,共4页
扩展电阻法利用测量纵向深度电阻率的变化获得外延片厚度。实际外延片测试过程中,经常发生扩展电阻测试仪测量硅外延片厚度误差较大的问题,从三个方面分析了产生的原因,其中两方面存在于样品制备过程:样品研磨角度不等于垫块角度造成的... 扩展电阻法利用测量纵向深度电阻率的变化获得外延片厚度。实际外延片测试过程中,经常发生扩展电阻测试仪测量硅外延片厚度误差较大的问题,从三个方面分析了产生的原因,其中两方面存在于样品制备过程:样品研磨角度不等于垫块角度造成的误差;研磨斜面两条边缘不平行造成的误差。另外一方面存在于测试过程,测试仪两探针起始位置偏离样品表面和研磨斜面的边界线造成的误差。由样品制备引起的误差占实际误差的大多数,所有误差均可通过计算公式进行修正。 展开更多
关键词 扩展电阻 硅外延 厚度误差 过渡区
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可用于+300℃检测的新型硅扩展电阻温度传感器 被引量:2
3
作者 刘百勇 郑学仁 +3 位作者 杨炳良 黄仑 李斌 陈斗南 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 1995年第12期1-8,共8页
提出一种结构新颖的硅扩展电阻温度传感器,这种传感器与硅平面加工技术兼容,易于集成化。当传感器在2mA的正向偏置电流下,由于少数载流子的不连续性以及多数载流子的注入,传感器电阻的正温度系数(PTC)区拓宽到573K(+... 提出一种结构新颖的硅扩展电阻温度传感器,这种传感器与硅平面加工技术兼容,易于集成化。当传感器在2mA的正向偏置电流下,由于少数载流子的不连续性以及多数载流子的注入,传感器电阻的正温度系数(PTC)区拓宽到573K(+300℃)以上。本文探讨了传感器的图形设计理论和电阻-温度关系,与实验结果吻合。这种SRT传感器在温度和流速检测中将得到广泛应用。 展开更多
关键词 温度传感器 正温度系数 扩展电阻 检测
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扩展电阻温度传感器的参数优化 被引量:1
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作者 李斌 刘百勇 +1 位作者 郑学仁 黎沛涛 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 2002年第1期10-12,共3页
对扩展电阻温度 (SRT)传感器的阻温特性 (R -T)进行了研究。实验结果表明 ,器件的结构尺寸、衬底的掺杂浓度大大地影响着器件的最高工作温度 (Tmax) ,而工艺条件的影响很小。适当小的n+ 圆形半径和适当高的衬底掺杂可使SRT传感器的正温... 对扩展电阻温度 (SRT)传感器的阻温特性 (R -T)进行了研究。实验结果表明 ,器件的结构尺寸、衬底的掺杂浓度大大地影响着器件的最高工作温度 (Tmax) ,而工艺条件的影响很小。适当小的n+ 圆形半径和适当高的衬底掺杂可使SRT传感器的正温度系数 (PTC)工作区在 2mA的正向偏置电流下拓宽至 4 0 展开更多
关键词 扩展电阻 温度传感器 正温度系数 参数优化 SRT传感器
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集成扩展电阻硅流量传感器的研究 被引量:1
5
作者 张寿远 李斌 +2 位作者 郑学仁 刘百勇 关培勋 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 1995年第12期18-22,共5页
提出了一种新型集成扩展电阻硅流量(SRSF)传感器。此结构的工作原理是基于热传导原理,即当流体流过加热芯片时,芯片两端的温差可以用于测量流体的速度。由于应用硅扩展电阻作温度敏感元,故SRSF传感器适用于测量温度较高的... 提出了一种新型集成扩展电阻硅流量(SRSF)传感器。此结构的工作原理是基于热传导原理,即当流体流过加热芯片时,芯片两端的温差可以用于测量流体的速度。由于应用硅扩展电阻作温度敏感元,故SRSF传感器适用于测量温度较高的流体。理论分析和实验研究结果表明,SRSF传感器具有如下特点:小流量时(v0<1m/s)灵敏度较高;有方向敏特性;与标准IC工艺兼容,可制成集成化流量传感器。 展开更多
关键词 扩展电阻 流量传感器 SRSF传感器
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背面敏感SRSF传感器的研究 被引量:1
6
作者 郑继雄 刘百勇 +2 位作者 郑学仁 李斌 关培勋 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 1995年第12期31-37,共7页
针对"传感器中毒"现象,在正面敏感的扩展电阻硅流量(SRSF)传感器的基础上,提出背面敏感的SRSF传感器,并设计出相应的表面贴装元件(SMC)封装形式。理论推导和测试结果表明:背面敏感的SRSF传感器的输出电压与流... 针对"传感器中毒"现象,在正面敏感的扩展电阻硅流量(SRSF)传感器的基础上,提出背面敏感的SRSF传感器,并设计出相应的表面贴装元件(SMC)封装形式。理论推导和测试结果表明:背面敏感的SRSF传感器的输出电压与流体流速、流向的关系可表述为:;芯片厚度对灵敏度影响很大,其最佳值为150μm。在最佳厚度下,背面敏感方式虽然牺牲了SRSF传感器的10%的灵敏度,但却能有效防止传感器中毒,SMC封装形式使背面敏感SRSF传感器的正、反流向对称性大大改善。 展开更多
关键词 扩展电阻 流量传感器 正面敏感 SRSF传感器
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其它材料
7
《电子科技文摘》 2003年第3期8-9,共2页
Y2002-63302-144 0304962采用扩展电阻探针测量的金属感应横向晶体化区域的电特性=Direct electrical characterization of metal-in-duced-lateral-crystallization regions by spreading resis-tance probe measurements[会,英]/Leung... Y2002-63302-144 0304962采用扩展电阻探针测量的金属感应横向晶体化区域的电特性=Direct electrical characterization of metal-in-duced-lateral-crystallization regions by spreading resis-tance probe measurements[会,英]/Leung,T.C.&Cheng,C.F.//2001 IEEE Hong Kong Electron DevicesMeeting.—144~147(E) 展开更多
关键词 扩展电阻 电特性 金属感 Electron 晶体化 SPREADING 类金刚石膜 界面层 高能球磨 聚合物薄膜
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英汉微电子工程缩略语选编(续四)
8
作者 刘恩荣 《电子工业专用设备》 1993年第3期52-63,共12页
关键词 transistor SCHOTTKY 肖特基势垒 化学汽相淀积 抗蚀剂 随机存取 半导体设备 ALIGNED 扩展电阻 氧化物半导体
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半导体技术
9
《中国无线电电子学文摘》 2003年第5期41-51,共11页
关键词 电致发光 半导体技术 半导体材料 电子束光刻 光致发光 扩展电阻 压印 短沟效应 激子 基区
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扩展电阻分析对砷在硅中本征扩散系数的研究
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作者 卢志恒 罗晏 王大椿 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1989年第6期441-448,共8页
本文扼要叙述了扩展电阻分析用以测量较低浓度砷的剖面的有效性,进而研究了较低浓度砷在硅中的扩散问题.由于通过快速热退火对样品进行预处理,排除了辐照损伤对扩散系数测定的影响,从而测得砷在硅中本来意义下,即替位扩散意义下的本征... 本文扼要叙述了扩展电阻分析用以测量较低浓度砷的剖面的有效性,进而研究了较低浓度砷在硅中的扩散问题.由于通过快速热退火对样品进行预处理,排除了辐照损伤对扩散系数测定的影响,从而测得砷在硅中本来意义下,即替位扩散意义下的本征扩散系数.如所预期,这组数据比国外直至目前所测得的数据要低.浓度剖面的实验数据由非线性扩散方程的数值解进行拟合.结果表明:SUPREM III所采用的模型在较高浓度区扩散系数随浓度递增速率较小,Hu理论仍然和本实验(?)较符合.本文还求得了扣除辐照损伤增强扩散效应后,砷在硅中的激活能为4. 展开更多
关键词 扩散 硅中杂质砷 扩展电阻
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不同封装的扩展电阻温度传感器瞬态热响应模型
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作者 杨炳良 刘百勇 +4 位作者 陈斗南 杨春辉 郑学仁 王曦 郑耀宗 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 1995年第12期51-58,共8页
研究了扩展电阻温度传感器的封装效应。对扩展电阻温度传感器封装热阻的测量和瞬态热响应分别进行了理论和实验研究。理论结果和实验结果吻合。实验和理论结果表明,管壳的几何形状比封装材料对传感器瞬态响应时间的影响更重要。对于要... 研究了扩展电阻温度传感器的封装效应。对扩展电阻温度传感器封装热阻的测量和瞬态热响应分别进行了理论和实验研究。理论结果和实验结果吻合。实验和理论结果表明,管壳的几何形状比封装材料对传感器瞬态响应时间的影响更重要。对于要求高灵敏度和快速响应的传感器封装,小型和球型的封装方式总是被推荐的。实验发现,对于一个2mm直径的球形封装传感器的响应时间约6s。 展开更多
关键词 温度传感器 扩展电阻 封装效应 瞬态热响应
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半导体技术
12
《中国无线电电子学文摘》 2010年第1期53-62,共10页
关键词 半导体技术 发光二极管 二次缺陷 器件性能 短沟效应 扩展电阻 量子点 提取效率 出光效率 击穿电压
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二探针扩展电阻分布法在IC芯片制造中的应用
13
作者 金红杰 郎清华 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第7期684-688,共5页
论述了扩展电阻分布法的基本原理和具体操作方法,该法中两个精确排列的探针,沿着被测晶片的磨制斜面边移动,边测试,得出系列数据。二探针扩展电阻分布法采用平式针尖无凹痕接触模型和多层理论计算扩展电阻。总结了为提高测试准确性,在... 论述了扩展电阻分布法的基本原理和具体操作方法,该法中两个精确排列的探针,沿着被测晶片的磨制斜面边移动,边测试,得出系列数据。二探针扩展电阻分布法采用平式针尖无凹痕接触模型和多层理论计算扩展电阻。总结了为提高测试准确性,在测试中需要注意的事项。较高的空间分辨率和先进的多层算法,使二探针扩展电阻分布法能够测试多种结构复杂的样品。因此,在IC芯片制造过程中,二探针扩展电阻分布法广泛应用于外延、注入和扩散等工艺,为工程师调试新工艺、优化工艺条件以及进行失效分析等工作,提供电阻率-深度曲线图和载流子浓度-深度曲线图等数据。 展开更多
关键词 二探针 平式针尖无凹痕模型 多层理论 扩展电阻
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半导体器件
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《电子科技文摘》 2002年第2期21-22,共2页
关键词 半导体器件 功率电子学 绝缘体上硅 扩展电阻 会议录 信号处理机 气敏元件 磁性元件 计算机会议 MESFET
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Minority-Carrier Exclusion Effect in Thin-Film SOI Temperature Sensor
15
作者 李斌 黎沛涛 +1 位作者 刘百勇 郑学仁 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期461-465,共5页
A silicon temperature sensor with a conventional resistor structure is fabricated on thin-film silicon-on-insulator (SOI) substrate.The sensor has very promising characteristics.The maximum operating temperature ca... A silicon temperature sensor with a conventional resistor structure is fabricated on thin-film silicon-on-insulator (SOI) substrate.The sensor has very promising characteristics.The maximum operating temperature can reach 550℃ even at a low current of 0.1mA.Experimental results support that the minority-carrier exclusion effect can be strong in the conventional resistor structure when the silicon film is sufficiently thin,thus significantly raising the maximum operating temperature.Moreover,since the structure of the device on thin-film SOI wafer is not crucial in controlling the maximum operating temperature,device layout can be varied according to the requirements of applications. 展开更多
关键词 minority-carrier exclusion effect high temperature sensors spreading resistance SOI
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金属—半导体欧姆接触合金化过程中小岛对比接触电阻影响的理论分析
16
作者 李宝军 《甘肃联合大学学报(自然科学版)》 1992年第1期25-27,共3页
1、引言在半导体发光器件中,Gap 发光器件占的比例越来越大,而 Gap 欧姆接触是当前 Gap 发光二极管(LED)制作中引人注目的问题.Gap 是宽禁带化合物,电阻率较高,表面态密度大,因而给欧姆接触电极的制备造成了很大困难.迄今,人们进行了各... 1、引言在半导体发光器件中,Gap 发光器件占的比例越来越大,而 Gap 欧姆接触是当前 Gap 发光二极管(LED)制作中引人注目的问题.Gap 是宽禁带化合物,电阻率较高,表面态密度大,因而给欧姆接触电极的制备造成了很大困难.迄今,人们进行了各种合金作为 Gap 欧姆接触材料的研究工作,结果表明,对不同的接触金属层,在最佳合金温度下可得到较小的比接触电阻.随着Ⅲ—Ⅴ族半导体材料及其检测技术的发展。 展开更多
关键词 欧姆接触 接触电阻 发光器件 发光二极管 表面态密度 金属层 理论分析 宽禁带 扩展电阻 隧道效应
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N^+和N_2^+离子注入硅的材料性能研究
17
作者 王国全 解英艳 《大连大学学报》 2005年第2期14-16,57,共4页
本文应用X射线衍射方法、红外光谱分析方法、扩展电阻测量方法研究了N+和N+2注入硅的应变、损伤度、扩展电阻率随注入剂量、注入深度变化的规律,形成Si3N4非晶层的条件.建立了多层的物理模型和胁变函数的数学模型,利用计算机和曲线拟合... 本文应用X射线衍射方法、红外光谱分析方法、扩展电阻测量方法研究了N+和N+2注入硅的应变、损伤度、扩展电阻率随注入剂量、注入深度变化的规律,形成Si3N4非晶层的条件.建立了多层的物理模型和胁变函数的数学模型,利用计算机和曲线拟合等手段,得出了合理的结论. 展开更多
关键词 损伤层 扩展电阻 N^+ N2^+ 离子注入硅 材料性能 红外光谱分析 胁变函数
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薄膜SOI扩展电阻温度传感器
18
作者 李斌 刘百勇 +1 位作者 郑学仁 黎沛涛 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 2003年第5期3-5,共3页
重点阐述了在薄膜SOI上制成的扩展电阻温度(SRT)传感器的阻温特性(R-T).利用器件二维模拟软件PISCES研究了最高工作温度(Tmax)的Si膜厚度效应,模拟结果表明,在相同的衬底掺杂浓度下,Si膜厚度越薄,器件的Tmax越高.实验结果也验证了这一点... 重点阐述了在薄膜SOI上制成的扩展电阻温度(SRT)传感器的阻温特性(R-T).利用器件二维模拟软件PISCES研究了最高工作温度(Tmax)的Si膜厚度效应,模拟结果表明,在相同的衬底掺杂浓度下,Si膜厚度越薄,器件的Tmax越高.实验结果也验证了这一点,薄膜SOISRT传感器不仅具有非常好的器件特性,Tmax高至450℃以上,而且它的工作偏置电流低至1μA,比体Si SRT传感器小103倍.因此,薄膜SOISRT传感器具有很广阔的低功耗应用前景. 展开更多
关键词 扩展电阻 温度传感器 阻温特性 薄膜SOI SRT
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四探针和扩展电阻等值作图法在硅器件工艺监测中的应用
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作者 李达汉 《计量技术》 1996年第2期23-24,36,共3页
本文评述了硅集成电路材料及薄层工艺过程中,电阻率和薄层电阻的监测系统,指出四控针和扩展电阻等值作图法应用中需要重点考虑的一些问题。
关键词 扩展电阻 硅器件 工艺监测
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离子注入后的快速光退火技术
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作者 张沈军 《微处理机》 1989年第4期24-26,共3页
本文对注 BF_2、P、As 三种元素的Si 单晶样品,经过快速光退火与普通炉子退火进行了比较分析,从而得出在注入浅结的获取、载流子浓度分布、损伤恢复及过程时间等方面,快速光退火技术明显优于普通炉子退火的结论。
关键词 离子注入 载流子浓度 掺杂技术 扩展电阻 退火工艺 晶向 半导体集成电路 电学性能 过程时间 生产效率
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