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合金薄膜高温压力传感器研究进展 被引量:15
1
作者 李伟 陈怀礼 《火箭推进》 CAS 2011年第5期78-82,共5页
合金薄膜压力传感器克服了粘贴式应变压力传感器的缺点,性能更优良,适应恶劣环境压力测量要求。对合金薄膜压力传感器的工作原理进行了介绍,比较了几种压力传感器的优缺点,并以应用温度范围这一指标为中心论述了镍铬、铂钨及钯铬薄膜压... 合金薄膜压力传感器克服了粘贴式应变压力传感器的缺点,性能更优良,适应恶劣环境压力测量要求。对合金薄膜压力传感器的工作原理进行了介绍,比较了几种压力传感器的优缺点,并以应用温度范围这一指标为中心论述了镍铬、铂钨及钯铬薄膜压力传感器的性能特点及研究现状。镍铬薄膜传感器适用于中、低温介质压力测量,而铂钨、钯铬薄膜传感器适用于更高温度环境下的压力测量。 展开更多
关键词 压力传感器 高温 合金薄膜
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电镀镍及铁镍合金薄膜的热膨胀研究 被引量:6
2
作者 刘筱薇 张轩雄 《表面技术》 EI CAS CSCD 2000年第2期8-10,共3页
用高温X射线衍射对4种成分的电镀Fe-Ni合金薄膜和电镀Ni膜及 Ni粉的热膨胀特性进行了研究,结果表明:电镀薄膜普遍具有织构,且热膨胀系数普遍高于相同的体材料的热膨胀系数,同时在一定程度上仍保持与相同体材料相似的特... 用高温X射线衍射对4种成分的电镀Fe-Ni合金薄膜和电镀Ni膜及 Ni粉的热膨胀特性进行了研究,结果表明:电镀薄膜普遍具有织构,且热膨胀系数普遍高于相同的体材料的热膨胀系数,同时在一定程度上仍保持与相同体材料相似的特性,这些差异可能是电镀薄膜的织构所致。 展开更多
关键词 合金薄膜 热膨胀 电镀 镀镍 合金 铁镍合金
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合金薄膜电阻应变式压力传感器的研究进展 被引量:8
3
作者 晏建武 周继承 +1 位作者 鲁世强 田莉 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第12期31-34,共4页
综述了合金薄膜应变压力传感器的现状、发展趋势、技术关键及应用情况。合金敏感薄膜电阻在应变压力传感器上的应用克服了粘贴式应变压力传感的缺点,使压力传感器结构更精细,性能更优越,适应各种恶劣环境测量压力的要求。
关键词 合金薄膜 压力传感器 进展
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康铜薄膜压力传感器的有限元分析 被引量:6
4
作者 李琦 武文革 +1 位作者 李学瑞 范鹏 《制造业自动化》 北大核心 2013年第15期99-101,共3页
为研究康铜薄膜的压阻特性,建立了一个压阻式压力传感器模型。康铜薄膜压力传感器采用悬臂梁结构作为弹性元件,用有限元分析软件ANSYS12.0对传感器的静态特性进行了仿真分析。通过改变载荷大小研究了传感器的线性度,发现传感器线性度良... 为研究康铜薄膜的压阻特性,建立了一个压阻式压力传感器模型。康铜薄膜压力传感器采用悬臂梁结构作为弹性元件,用有限元分析软件ANSYS12.0对传感器的静态特性进行了仿真分析。通过改变载荷大小研究了传感器的线性度,发现传感器线性度良好、灵敏度较高;分析了康铜薄膜层位置和薄膜厚度对传感器输出特性的影响,得出了薄膜位置对输出电压影响较大而薄膜厚度对输出电压影响较小的结论。 展开更多
关键词 康铜 合金薄膜 压力传感器 ANSYS软件
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小角X光散射法研究聚丙烯/乙丙橡胶合金的相结构 被引量:3
5
作者 马桂秋 原续波 盛京 《高分子学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2002年第1期63-67,共5页
用X光小角散射和扫描电子显微镜研究了聚丙烯 乙丙橡胶合金薄膜 .根据Debye Buech光散射统计理论计算了结构参数 ,即相关函数ac、平均弦长 l和旋转半径Rg.同时计算了Porod指数α ,并用α讨论了分散相的形状 .
关键词 小角X光 小角散射 聚丙烯 乙丙橡胶 相结构 合金薄膜 漫散射 共混物
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镍铬薄膜电阻的制备和热处理分析 被引量:4
6
作者 严琴 冯勇建 程翔 《传感器世界》 2007年第9期17-20,共4页
在采用磁控溅射方法制作用于集成电路的镍铬薄膜电阻过程中,发现在对薄膜热处理时薄膜的电阻特性发生了有规律的变化,这种变化不是单纯的线形增大或减小。针对这种现象,我们经过分析认为,由于金属薄膜的电阻率不同于块金属的电阻率,已... 在采用磁控溅射方法制作用于集成电路的镍铬薄膜电阻过程中,发现在对薄膜热处理时薄膜的电阻特性发生了有规律的变化,这种变化不是单纯的线形增大或减小。针对这种现象,我们经过分析认为,由于金属薄膜的电阻率不同于块金属的电阻率,已不是定值,它与金属膜厚有着一定的关系,而热处理所产生的凝聚效应、氧化效应和稳态效应对不同厚度的薄膜电阻率的影响程度是不一样的,因此电阻经处理后的变化值最终表现出不同的变化趋势。这一现象的发现对我们今后在集成电路镍铬合金薄膜电阻的设计优化方面具有较高的参考意义。 展开更多
关键词 热处理 薄膜电阻 合金薄膜 溅射
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脉冲电沉积制备Fe-Pd合金薄膜 被引量:4
7
作者 王宁 金明江 +2 位作者 李家瑶 肖飞 金学军 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2014年第3期324-330,共7页
采用脉冲电沉积方法制备了Fe-Pd形状记忆合金薄膜。通过采用配位化学的方法并控制溶液pH值配制得到一系列稳定的Fe2+-Pd2+溶液,实验证实合适的配位剂可以有效减小Fe2+-Pd2+两种金属离子的还原电极电位,使得溶液体系能够长时间稳定并可... 采用脉冲电沉积方法制备了Fe-Pd形状记忆合金薄膜。通过采用配位化学的方法并控制溶液pH值配制得到一系列稳定的Fe2+-Pd2+溶液,实验证实合适的配位剂可以有效减小Fe2+-Pd2+两种金属离子的还原电极电位,使得溶液体系能够长时间稳定并可顺利实现两种金属的共沉积。实验发现电流密度的减小会导致合金镀层中Pd含量的上升,同时提高溶液中Pd2+比例也有助于增加Pd在合金镀层中的含量。不同的阴极材料也会使得合金镀层中Pd含量随之变化同时影响镀层的形貌与质量。 展开更多
关键词 Fe-Pd 脉冲电沉积 合金薄膜
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合金薄膜铜衬底抛光质量对薄膜表面结构的影响 被引量:4
8
作者 张克华 文东辉 +1 位作者 陶黎 袁巨龙 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2007年第5期64-67,共4页
合金薄膜具有良好的导电性、抗磨损性质,已成为半导体产业的技术热点。铜做为合金薄膜衬底材料时,要求其有完美的表面。本文采用氧化铝微粉和金刚石抛光膏对合金薄膜铜衬底进行了机械研磨和抛光的实验研究,采用接触式粗糙度仪、AFM、台... 合金薄膜具有良好的导电性、抗磨损性质,已成为半导体产业的技术热点。铜做为合金薄膜衬底材料时,要求其有完美的表面。本文采用氧化铝微粉和金刚石抛光膏对合金薄膜铜衬底进行了机械研磨和抛光的实验研究,采用接触式粗糙度仪、AFM、台阶仪和光学显微镜对比分析了铜衬底表面粗糙度、表面均匀性和平面度的变化规律。初步探讨了铜衬底表面对Pd-Ni-P合金薄膜表面结构的影响,研究结果表明采用1μm平面度,Ra小于3 nm且抛光均匀性好的光滑铜衬底可以获得良好的合金薄膜。 展开更多
关键词 合金薄膜 研磨 抛光
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Magnetic properties of perpendicularly orientated L1_0 FePt nanoparticles 被引量:3
9
作者 MO XiaoJing XIANG Hui +7 位作者 LI GuoQing CHEN Peng XIONG ZuHong WANG JunZhong ISHIO ShunJi SMTO Hitoshi SHIMA ToshiYuki TAKANASHI KoKi 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 2010年第8期680-686,共7页
L10 FePt films were deposited on MgO (001) substrates heated to 700°C by magnetron sputtering.Assisted by the misfit of lattice between film and substrate,strong (001) texture was formed.The film at nominal thick... L10 FePt films were deposited on MgO (001) substrates heated to 700°C by magnetron sputtering.Assisted by the misfit of lattice between film and substrate,strong (001) texture was formed.The film at nominal thickness t N=5 nm was composed of nanoparticles with a size of~70 nm,and showed a high coercivity of~105 kOe at 4.2 K.At t N=~50 nm,as the film changed from discontinuous to continuous,the coercivity dropped about one order of magnitude.Micromagnetic simulation implies that the magnetization reversal is a vortex-like nuclear type.The ideal coercivity of a separated single-domain L10 FePt nanoparticle with a size of 70 nm×70 nm×5 nm is~121 kOe.This tells us that the experimental coercivity has nearly reached the limit of ideal single crystalline nanoparticles. 展开更多
关键词 磁性纳米粒子 合金薄膜 FEPT 相机 MGO(001) 金纳米颗粒 高矫顽力 取向
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钽铝薄膜中功率衰减器的设计 被引量:3
10
作者 贾宇明 杨邦朝 +1 位作者 刘强 曲喜新 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第2期210-212,共3页
介绍了一种用于微波电路的中功率薄膜衰减器的设计与制作。该衰减器是由铝原子含量为50%的Ta/Al合金薄膜制成。测试结果表明其性能优良。
关键词 合金薄膜 衰减器 中功率 设计 钽铝薄膜
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新型磁存储介质L1_0有序FePt薄膜研究综述 被引量:1
11
作者 王现英 方铭 +2 位作者 李青会 沈德芳 干福熹 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第6期91-94,共4页
Ll_0有序 FePt 合金薄膜有大的各向异性能、矫顽力和饱和磁化强度,而且根据制备工艺条件的不同,其易磁化轴可以平行或垂直于膜面,因此极有可能成为下一代超高密度磁存储的介质,近年来引起了广泛的关注详细介绍了 FePt 薄膜近年来的研究... Ll_0有序 FePt 合金薄膜有大的各向异性能、矫顽力和饱和磁化强度,而且根据制备工艺条件的不同,其易磁化轴可以平行或垂直于膜面,因此极有可能成为下一代超高密度磁存储的介质,近年来引起了广泛的关注详细介绍了 FePt 薄膜近年来的研究结果,分析了其大矫顽力的机制、降低有序化温度、控制易磁化轴取向、降低粒子间相互作用的方法等对磁存储至关重要的问题,并对其在磁存储中的应用前景作了分析。 展开更多
关键词 Pt薄膜 磁存储介质 研究综述 Fe 粒子间相互作用 饱和磁化强度 制备工艺条件 易磁化轴 合金薄膜 超高密度 研究结果 详细介绍 矫顽力 有序化
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耐高温合金薄膜压力传感器的设计及仿真分析 被引量:3
12
作者 谭苗苗 《机械工程师》 2017年第6期33-34,共2页
研制高温恶劣环境适用的压力传感器具有重要的工程实际意义。文中设计了以蓝宝石为弹性膜片,溅射合金薄膜为应变电阻的耐高温压力传感器。通过有限元软件计算分析了弹性膜片的应力应变分布,并对膜片厚度进行了优化设计。
关键词 高温压力传感器 合金薄膜 仿真
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能耐高温的合金薄膜压力传感器和变送器 被引量:3
13
作者 彭士元 欧阳左群 《测控技术》 CSCD 北大核心 1993年第4期28-30,34,共4页
合金薄膜压力传感器可以在400C以下的条件下很稳定地测量各种气体和液体的压力。本文叙述了该传感器的工作原理、结构、材料的选择和研制过程中的技术关键问题。
关键词 传感器 变送器 合金薄膜
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工艺参数对Ta/Al合金电阻薄膜性能的影响 被引量:2
14
作者 贾宇明 杨邦朝 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第5期492-495,共4页
Al原子含量约为50%的Ta/Al合金薄膜具有优良的电阻性能。使用直流共溅射的方法制作这种薄膜,靶极采用了Al面积为45%的Ta/Al复合靶。研究了工艺参数如溅射气压、溅射电压以及热处理条件等因素对该薄膜的性能影响。... Al原子含量约为50%的Ta/Al合金薄膜具有优良的电阻性能。使用直流共溅射的方法制作这种薄膜,靶极采用了Al面积为45%的Ta/Al复合靶。研究了工艺参数如溅射气压、溅射电压以及热处理条件等因素对该薄膜的性能影响。结果表明,这种Ta/Al合金薄膜能用于制作功率稳定的电阻器或电阻网络。 展开更多
关键词 合金薄膜 电阻性能 共溅射 钽铝合金
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(Pt_3Co)_(1-x)Ni_x合金薄膜的结构、磁性和磁光特性研究 被引量:2
15
作者 周健 荀坤 +3 位作者 沈德芳 夏国强 郑玉祥 陈良尧 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1999年第S1期217-223,共7页
采用直流溅射的方法,在Pt3Co 合金靶上加贴Ni 片,把(Pt3Co)1 - xNix 合金薄膜中非磁性原子与磁性原子的比率从3∶1 调制到1∶1 .通过高角X 射线衍射谱和磁性的研究,发现〈111〉织构至少在0-33 —... 采用直流溅射的方法,在Pt3Co 合金靶上加贴Ni 片,把(Pt3Co)1 - xNix 合金薄膜中非磁性原子与磁性原子的比率从3∶1 调制到1∶1 .通过高角X 射线衍射谱和磁性的研究,发现〈111〉织构至少在0-33 —0-50 的Ni 成分范围内不是引起垂直磁各向异性的主要原因.在此基础上研究了(Pt3Co)1 - xNix 合金薄膜的磁光特性.研究表明,适量Ni 合金化( x = 0-43) 可以获得较低的(Pt3Co)1 - xNix 合金薄膜居里温度,同时保持较高的垂直磁各向异性、较大的矫顽力和蓝波长下较高的Kerr 转角,从而为PtCoNi 合金薄膜的实用化提供了实验参考. 展开更多
关键词 合金薄膜 磁光特性 居里温度 垂直磁各向异性 合金 多层膜 矫顽力 磁性原子 磁滞回线 晶格常量
原文传递
镍钨合金镀层结构
16
作者 万小波 张林 +1 位作者 周兰 肖江 《中国工程物理研究院科技年报》 2004年第1期280-281,共2页
近年,ICF研究中需要用到愈来愈多的合金腔靶或平面靶,其中这些合金材料中有相当一部分无法通过真空镀膜等手段得到。但是,研究发现,某些无法由真空镀膜获得的合金薄膜可以通过电镀或化学镀等技术获得,而且所得薄膜性能(如均匀性... 近年,ICF研究中需要用到愈来愈多的合金腔靶或平面靶,其中这些合金材料中有相当一部分无法通过真空镀膜等手段得到。但是,研究发现,某些无法由真空镀膜获得的合金薄膜可以通过电镀或化学镀等技术获得,而且所得薄膜性能(如均匀性等)优异。因此,电镀合金技术等在ICF靶用合金薄膜的研究中具有十分重要的现实意义。 展开更多
关键词 镍钨合金 镀层结构 真空镀膜 合金薄膜 ICF靶 电镀合金 合金材料 薄膜性能
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电沉积Co-W合金薄膜的性能研究(英文) 被引量:2
17
作者 周巧英 葛洪良 +1 位作者 卫国英 吴琼 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第A02期155-158,共4页
柠檬酸盐存在的酸性镀液中(pH=4.0),通过改变[WO42-]/[Co2+]比值电沉积制备了Co-W合金薄膜。使用XRD对薄膜的微结构和相组成进行了分析,结果表明沉积态时,Co-W合金薄膜具有晶态结构;随着薄膜中Co、W含量的不同,薄膜从富Co的面心立方相向... 柠檬酸盐存在的酸性镀液中(pH=4.0),通过改变[WO42-]/[Co2+]比值电沉积制备了Co-W合金薄膜。使用XRD对薄膜的微结构和相组成进行了分析,结果表明沉积态时,Co-W合金薄膜具有晶态结构;随着薄膜中Co、W含量的不同,薄膜从富Co的面心立方相向Co+Co7W6+Co3W共存相转变。采用FE-SEM对薄膜表面形貌和组成分析表明:Co-W合金薄膜中Co含量较高,随着镀液中[WO42-]/[Co2+]比值的增加,薄膜中W含量会增加,膜面逐渐变得致密;当镀液中[WO42-]/[Co2+]=0.5时,薄膜中W含量达到最大值,同时膜面上出现大量气孔。通过VSM对薄膜磁性能进行了测试,结果显示Co-W合金薄膜的易磁化轴平行于膜面。 展开更多
关键词 合金薄膜 微结构 软磁性 电沉积
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非晶态合金薄膜铜衬底超精密抛光的实验研究 被引量:2
18
作者 朱从容 吕冰海 +1 位作者 邓乾发 任尹飞 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2011年第1期58-61,共4页
本文采用聚氨酯抛光盘和绒布抛光垫对铜衬底进行超精密抛光工艺研究,对铜衬底的表面粗糙度、材料去除率以及铜衬底表面组织结构变化过程进行了研究,并讨论了铜衬底在超精密抛光时,不同抛光条件对其表面粗糙度和材料去除率的影响,以及抛... 本文采用聚氨酯抛光盘和绒布抛光垫对铜衬底进行超精密抛光工艺研究,对铜衬底的表面粗糙度、材料去除率以及铜衬底表面组织结构变化过程进行了研究,并讨论了铜衬底在超精密抛光时,不同抛光条件对其表面粗糙度和材料去除率的影响,以及抛光压力对铜衬底的表面形成过程的影响。结果表明,采用聚氨酯抛光盘和绒布抛光垫可以消除划痕,抛光后的铜衬底表面粗糙度可达Ra6 nm。 展开更多
关键词 合金薄膜 铜衬底 超精抛光 表面形成过程
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离子束溅射技术制备PtRu纳米合金薄膜载体催化剂材料及其结构表征 被引量:2
19
作者 李旸 杨滨 昝林寒 《贵金属》 CAS CSCD 2004年第4期40-44,共5页
采用离子束溅射技术,Pt和Ru双靶材通过制备工艺条件的设计,制备出含单质Pt、单质Ru及PtRu合金的纳米载体薄膜材料。采用X射线衍射、透射电镜、X射线光电子能谱等分析手段表征了薄膜材料的结构,验证了离子束溅射技术制备Pt合金薄膜的可... 采用离子束溅射技术,Pt和Ru双靶材通过制备工艺条件的设计,制备出含单质Pt、单质Ru及PtRu合金的纳米载体薄膜材料。采用X射线衍射、透射电镜、X射线光电子能谱等分析手段表征了薄膜材料的结构,验证了离子束溅射技术制备Pt合金薄膜的可操作性,并对Pt合金成膜规律进行了初步探索。 展开更多
关键词 离子束溅射 结构表征 合金薄膜 单质 等分 X射线光电子能谱 X射线衍射 制备 催化剂 纳米载体
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p-Si上电沉积Ni-W合金薄膜 被引量:2
20
作者 郭永 张国庆 +2 位作者 姚素薇 郭鹤桐 龚正烈 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 1996年第2期11-14,共4页
利用恒电流沉积法,在p-Si上制备出不同W含量和不同结构的Ni-W薄膜,研究了镀液温度,pH值,电流密度对镀层组成的影响,结果表明,提高温度有利于获得高W含量的合金.随着镀层中W含量的增加,Ni面心立方晶格f.c.c... 利用恒电流沉积法,在p-Si上制备出不同W含量和不同结构的Ni-W薄膜,研究了镀液温度,pH值,电流密度对镀层组成的影响,结果表明,提高温度有利于获得高W含量的合金.随着镀层中W含量的增加,Ni面心立方晶格f.c.c发生正畸变,晶粒平均尺寸变小,当W含量达到56%以上时,晶粒小于2nm,薄膜呈非晶态结构. 展开更多
关键词 电沉积 合金薄膜 非晶态
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