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变掺杂GaAs光电阴极的研究进展 被引量:2
1
作者 陈怀林 牛军 常本康 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第19期99-103,113,共6页
从变掺杂阴极的结构种类、变掺杂GaAs光电阴极的光电发射机理、制备技术以及变掺杂结构对阴极性能的影响等方面介绍了当前国内研究变掺杂GaAs光电阴极的进展。目前该工作还处于起步阶段,理论研究还有待于进一步深入。开展变掺杂阴极研... 从变掺杂阴极的结构种类、变掺杂GaAs光电阴极的光电发射机理、制备技术以及变掺杂结构对阴极性能的影响等方面介绍了当前国内研究变掺杂GaAs光电阴极的进展。目前该工作还处于起步阶段,理论研究还有待于进一步深入。开展变掺杂阴极研究是我国走自主创新道路、提高国内三代微光器件性能的有效途径。 展开更多
关键词 GAAS 光电阴极 变掺杂
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变掺杂GaN光电阴极的制备及发射机理研究 被引量:1
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作者 杜晓晴 田健 常本康 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第F12期12-16,共5页
为了提高GaN阴极的紫外探测效率,提出了一种由体内到表面、掺杂浓度由高到低的变掺杂GaN阴极材料结构,采用超高真空(Cs,0)激活工艺进行了阴极制备,对均匀掺杂和变掺杂GaN光电阴极的光谱响应特性进行了测试与比较。与传统具有均匀... 为了提高GaN阴极的紫外探测效率,提出了一种由体内到表面、掺杂浓度由高到低的变掺杂GaN阴极材料结构,采用超高真空(Cs,0)激活工艺进行了阴极制备,对均匀掺杂和变掺杂GaN光电阴极的光谱响应特性进行了测试与比较。与传统具有均匀掺杂结构的GaN阴极相比,这种变掺杂结构的阴极在反射工作模式下具有更高的量子效率(量子效率平均提高了30%)和更好的长波紫外响应特性(长波响应提高了43%)。通过比较变掺杂与均匀掺杂阴极在能带结构、光电子体内输运效率、光电子表面发射效率等特性上的差异,对变掺杂GaN光电阴极获得更高量子效率的机理进行了分析。 展开更多
关键词 测量 紫外探测 GAN光电阴极 变掺杂结构 量子效率 光电子输运
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不同变掺杂结构GaAs光电阴极的光谱特性分析 被引量:3
3
作者 牛军 乔建良 +2 位作者 常本康 杨智 张益军 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第11期3007-3010,共4页
为定量研究变掺杂结构对阴极量子效率的作用效果,设计生长了两种不同掺杂方式的反射式梯度掺杂GaAs光电阴极,激活后测量了两者的光谱响应曲线。将光谱响应曲线转换为对应的量子效率曲线,对不同入射光波段的量子效率进行了拟合分析,得到... 为定量研究变掺杂结构对阴极量子效率的作用效果,设计生长了两种不同掺杂方式的反射式梯度掺杂GaAs光电阴极,激活后测量了两者的光谱响应曲线。将光谱响应曲线转换为对应的量子效率曲线,对不同入射光波段的量子效率进行了拟合分析,得到了体现变掺杂结构贡献程度的变掺杂系数K值。研究发现,同一阴极材料对不同波段的入射光,其掺杂结构产生的作用效果各不相同。同时,不同掺杂结构光电阴极对于相同波段范围内的入射光,其作用效果也不相同。产生这些差别的根本原因,是由于不同掺杂结构下,材料中内建电场的位置和强度不同而造成的。该研究为评判不同掺杂方式下光电阴极的结构性能提供了有效的分析手段,对研究阴极变掺杂结构的优化设计具有非常重要的应用价值。 展开更多
关键词 GAAS光电阴极 变掺杂 内建电场 量子效率
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Influence of varied doping structure on photoemissive property of photocathode 被引量:1
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作者 牛军 张益军 +1 位作者 常本康 熊雅娟 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第4期356-361,共6页
The built-in electric fields within a varied doping GaAs photocathode may promote the transport of electrons from the bulk to the surface, thus the quantum efficiency of the cathode can be enhanced remarkably. But thi... The built-in electric fields within a varied doping GaAs photocathode may promote the transport of electrons from the bulk to the surface, thus the quantum efficiency of the cathode can be enhanced remarkably. But this enhancement, which might be due to the increase in either the number or the energy of electrons reaching the surface, is not clear at present. In this paper, the energy distributions of electrons in a varied doping photocathode and uniform doping photocathode before and after escaping from the cathode surface are analysed, and the number of electrons escaping from the surface in different cases is calculated for the two kinds of photocathodes. The results indicate that the varied doping structure can not only increase the number of electrons reaching the surface but also cause an offset of the electron energy distribution to high energy. That is the root reason for the enhancement of the quantum efficiency of a varied doping GaAs photocathode. 展开更多
关键词 varied doping PHOTOCATHODE energy distribution quantum efficiency
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反射式变掺杂GaAs光电阴极量子效率模型研究 被引量:2
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作者 牛军 杨智 +2 位作者 常本康 乔建良 张益军 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第7期5002-5006,共5页
借助指数掺杂与均匀掺杂光电阴极的量子效率公式,提出了采用加权平均法表示的反射式变掺杂光电阴极量子效率理论模型.使用该模型对某掺杂结构的反射式GaAs光电阴极量子效率曲线进行了拟合,获得了最佳的拟合效果,且模型的拟合结果能够定... 借助指数掺杂与均匀掺杂光电阴极的量子效率公式,提出了采用加权平均法表示的反射式变掺杂光电阴极量子效率理论模型.使用该模型对某掺杂结构的反射式GaAs光电阴极量子效率曲线进行了拟合,获得了最佳的拟合效果,且模型的拟合结果能够定量地揭示材料的变掺杂结构,在不同入射光波段对阴极量子效率的贡献不相同这一现象.针对此现象进行了深入地分析和探讨. 展开更多
关键词 GAAS 变掺杂 光电阴极 量子效率
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150V电荷耦合功率MOSFET的仿真 被引量:1
6
作者 李蕊 胡冬青 +4 位作者 金锐 贾云鹏 苏洪源 匡勇 屈静 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第12期902-907,共6页
电荷耦合是适用于中等电压功率MOSFET设计的先进设计理念之一,该设计思想旨在改善器件阻断态下的电场分布从而提高耐压。针对150V电荷耦合功率MOSFET双外延漂移区(分别为电荷耦合区N1区与非耦合区N2区)电荷匹配问题进行了仿真优化研... 电荷耦合是适用于中等电压功率MOSFET设计的先进设计理念之一,该设计思想旨在改善器件阻断态下的电场分布从而提高耐压。针对150V电荷耦合功率MOSFET双外延漂移区(分别为电荷耦合区N1区与非耦合区N2区)电荷匹配问题进行了仿真优化研究,结果表明:N1区和N2区浓度分别约为2.2×10^16cm^-3和4.5×10^15cm。时,电场分布更加均匀、耐压更高,且比导通电阻仅为1.306mQ·cm^2,即击穿电压和比导通电阻间达到最佳匹配。同时,还针对器件不同槽深进行了静态特性和动态特性的整体仿真优化研究,结果表明:槽深在7~9μm时,器件满足耐压要求且击穿电压随双漂移区掺杂浓度匹配程度变化较为平稳。最后,优化结构与传统槽栅MOSFET相比,其栅漏电容和栅电荷大幅降低,器件优值降低了约87%。 展开更多
关键词 金属氧化层半导体场效晶体管(MOSFET) 变掺杂 电荷耦合 场板 低栅漏电容
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InP基PIN型探测器中接触层掺杂对In_(0.53)Ga_(0.47)As材料光致发光特性的影响 被引量:1
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作者 吴波 邓军 +4 位作者 杨利鹏 田迎 韩军 李建军 史衍丽 《红外技术》 CSCD 北大核心 2014年第5期415-418,共4页
利用MOCVD在InP衬底上制备InP/In0.53Ga0.47As/InP双异质结PIN型材料,通过对本征层In0.53Ga0.47As材料的光致荧光谱研究,发现PIN结构中两侧InP材料的掺杂特性对中间In0.53Ga0.47As材料的光致发光特性有明显的影响。本文通过对两侧InP材... 利用MOCVD在InP衬底上制备InP/In0.53Ga0.47As/InP双异质结PIN型材料,通过对本征层In0.53Ga0.47As材料的光致荧光谱研究,发现PIN结构中两侧InP材料的掺杂特性对中间In0.53Ga0.47As材料的光致发光特性有明显的影响。本文通过对两侧InP材料的变掺杂处理,实现了In0.53Ga0.47As材料光致发光特性的有效提高。 展开更多
关键词 INP 变掺杂 MOCVD INGAAS
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反射式变掺杂负电子亲和势GaN光电阴极量子效率研究 被引量:1
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作者 乔建良 徐源 +2 位作者 高有堂 牛军 常本康 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第6期306-312,共7页
从变掺杂负电子亲和势(NEA)Ga N光电阴极材料的光电发射机理入手,给出了反射式变掺杂NEA Ga N光电阴极内建电场和量子效率的计算公式.利用初步设计的变掺杂NEA Ga N光电阴极,介绍了变掺杂NEA Ga N阴极的激活过程和激活光电流的变化特点... 从变掺杂负电子亲和势(NEA)Ga N光电阴极材料的光电发射机理入手,给出了反射式变掺杂NEA Ga N光电阴极内建电场和量子效率的计算公式.利用初步设计的变掺杂NEA Ga N光电阴极,介绍了变掺杂NEA Ga N阴极的激活过程和激活光电流的变化特点.结合国内外典型的变掺杂NEA Ga N阴极的量子效率曲线,分析了Ga N光电阴极量子效率曲线的特点.结果显示:由于内建电场的存在,反射式变掺杂NEA Ga N光电阴极量子效率在240 nm处即可达到56%,在较宽的入射光波长范围内,阴极具有相对平稳的量子效率,量子效率值随入射光子能量的增加而增加,并且量子效率曲线在阈值附近表现出了明显的锐截止特性. 展开更多
关键词 GAN 光电阴极 变掺杂 量子效率
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NEA GaN光电阴极材料光学特性研究
9
作者 乔建良 高有堂 +2 位作者 徐源 牛军 常本康 《红外技术》 CSCD 北大核心 2017年第7期664-668,共5页
针对NEA GaN光电阴极结构设计和制备工艺需进一步优化的问题,结合阴极量子效率表达式和影响量子效率的因素,采用理论和实验相结合的方法,分别研究了GaN光电阴极材料的表面反射率、光学折射率、光谱吸收系数以及透射光谱等光学参数。结... 针对NEA GaN光电阴极结构设计和制备工艺需进一步优化的问题,结合阴极量子效率表达式和影响量子效率的因素,采用理论和实验相结合的方法,分别研究了GaN光电阴极材料的表面反射率、光学折射率、光谱吸收系数以及透射光谱等光学参数。结果表明在250 nm到365 nm的波长范围内,表面反射率相对平稳,是影响量子效率的直接因素,而光学折射率则通过电子表面逸出几率间接影响着量子效率。给出了均匀掺杂GaN光电阴极的光谱吸收系数的特点,根据变掺杂NEA GaN光电阴极的结构特点,给出了光谱平均吸收系数的概念和等价计算公式,并对均匀掺杂与变掺杂NEA GaN光电阴极光谱吸收系数进行了对比。 展开更多
关键词 GAN 光电阴极 量子效率 变掺杂 光谱吸收系数
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超薄层SOI高压LVD LDMOS耐压模型及特性研究 被引量:2
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作者 王卓 周锌 +3 位作者 陈钢 杨文 庄翔 张波 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2015年第6期812-816,共5页
针对超薄层高压SOI线性变掺杂(Linear Varied Doping,LVD)LDMOS器件,进行了耐压模型和特性的研究。通过解泊松方程,得到超薄高压SOI LVD LDMOS的RESURF判据,有助于器件耐压和比导通电阻的设计与优化。通过对漂移区长度、厚度和剂量,以及... 针对超薄层高压SOI线性变掺杂(Linear Varied Doping,LVD)LDMOS器件,进行了耐压模型和特性的研究。通过解泊松方程,得到超薄高压SOI LVD LDMOS的RESURF判据,有助于器件耐压和比导通电阻的设计与优化。通过对漂移区长度、厚度和剂量,以及n型缓冲层仿真优化,使器件耐压与比导通电阻的矛盾关系得到良好的改善。实验表明,超薄层高压SOI LVD LDMOS的耐压达到644V,比导通电阻为24.1Ω·mm2,击穿时埋氧层电场超过200V/cm。 展开更多
关键词 超薄SOI层 线性变掺杂 高压LDMOS 耐压模型 RESURF
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线性变掺杂高阻漂移区LDMOS导通电阻的建模
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作者 王龙 高珊 +1 位作者 陈军宁 柯导明 《电子技术(上海)》 2011年第5期66-68,共3页
首先建立了线性变掺杂高阻漂移区LDMOS的导通电阻的模型,通过分析、计算,得出它的导通电阻的解析表达式,然后用MATLAB软件和MEDICI软件对总导通电阻和各部分电阻进行模拟。经过讨论,得出其性能优于均匀掺杂高阻漂移区LDMOS的结论。
关键词 横向扩散金属氧化物半导体 高阻漂移区 线性变掺杂 导通电阻 解析模型
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夹断电压可调的高压结型场效应管
12
作者 聂卫东 朱光荣 +1 位作者 易法友 于宗光 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2014年第1期75-80,共6页
基于Double RESURF 700VBCD工艺平台,提出了一种夹断电压可调的高压结性场效应管(J-FET)。这种J-FET的夹断是通过栅源反偏引起的N阱(N-well)表面耗尽和衬源反偏引起的底部耗尽共同作用结果,故夹断电压可受J-FET的栅电位调制。同时通过... 基于Double RESURF 700VBCD工艺平台,提出了一种夹断电压可调的高压结性场效应管(J-FET)。这种J-FET的夹断是通过栅源反偏引起的N阱(N-well)表面耗尽和衬源反偏引起的底部耗尽共同作用结果,故夹断电压可受J-FET的栅电位调制。同时通过改变高压J-FET的P型埋层(P-buried)掩膜窗口的大小和间距,来改变P-buried和N-well的杂质浓度分布,达到改变J-FET夹断电压的目的。在不增加工艺步骤和改变原有工艺条件的情况下,通过实验得到击穿电压大于700V,夹断电压在8V和17V之间可自由调整的高压J-FET器件。该器件可以作为启动器件和供电模块的线性调整器件使用。由于其夹断电压受P-buried注入版图尺寸的影响,同时受栅电位调制,所以可以满足线路设计者的不同要求。 展开更多
关键词 高压结型场效应管 夹断电压可调 P型埋层变掺杂 双重降低表面电场
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变掺杂变组分Al_(x)Ga_(1–x)As/GaAs反射式光电阴极分辨力特性 被引量:2
13
作者 邓文娟 朱斌 +2 位作者 王壮飞 彭新村 邹继军 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第15期265-271,共7页
根据建立的变掺杂变组分反射式Al_(x)Ga_(1–x)As/GaAs光电阴极的分辨力模型以及调制传递函数(MTF)理论模型,仿真了材料中掺杂浓度线性变化、Al组分线性变化,掺杂浓度均匀不变、Al组分线性变化,掺杂浓度线性变化、Al组分均匀不变,掺杂... 根据建立的变掺杂变组分反射式Al_(x)Ga_(1–x)As/GaAs光电阴极的分辨力模型以及调制传递函数(MTF)理论模型,仿真了材料中掺杂浓度线性变化、Al组分线性变化,掺杂浓度均匀不变、Al组分线性变化,掺杂浓度线性变化、Al组分均匀不变,掺杂浓度均匀不变、Al组分均匀不变这4种不同结构反射式光电阴极的分辨力特性.分析了Al组分、掺杂浓度、Al_(x)Ga_(1–x)As层厚度、GaAs层厚度和入射光波长对阴极分辨力的影响.仿真结果表明,阴极材料中掺杂浓度梯度变化以及Al组分梯度变化都可以提高反射式Al_(x)Ga_(1–x)As/GaAs光电阴极的分辨力,其中掺杂浓度线性变化的同时,Al组分线性变化对Al_(x)Ga_(1–x)As/GaAs光电阴极分辨力的影响最为明显.仿真结果还表明:Al组分从0.45线性变化至0时,阴极分辨力最好;掺杂浓度从1019—1018 cm^(–3)线性变化比保持1019 cm^(–3)不变,阴极分辨力更好;而阴极中Al_(x)Ga_(1–x)As、GaAs层厚度以及入射光波长对4种阴极分辨力的影响则有着不同的变化规律. 展开更多
关键词 变掺杂变组分 调制传递函数 内建电场 分辨力
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一种变温变掺杂流量的埋层外延生长方法 被引量:3
14
作者 赵建君 肖建农 马林宝 《电子与封装》 2016年第1期34-37,共4页
在已经制作有埋层的衬底上生长外延层,为了控制图形畸变和漂移而选取了较高的工艺温度,导致了严重的自掺杂。通过对比实验探讨了常用的双层外延工艺和变温变掺杂流量工艺对于抑制自掺杂的效果。在一定的埋层掺杂浓度范围内,需要采用变... 在已经制作有埋层的衬底上生长外延层,为了控制图形畸变和漂移而选取了较高的工艺温度,导致了严重的自掺杂。通过对比实验探讨了常用的双层外延工艺和变温变掺杂流量工艺对于抑制自掺杂的效果。在一定的埋层掺杂浓度范围内,需要采用变温变掺杂流量工艺,才能使外延层纵向载流子浓度分布(SRP)满足器件要求。 展开更多
关键词 埋层外延 变温变掺杂流量 纵向载流子浓度分布(SRP)
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