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溅射法镀二氧化钛薄膜靶材及工艺研究进展 被引量:12
1
作者 赵鑫 王星明 +3 位作者 黄松涛 储茂友 郭奋 王赞海 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期177-180,共4页
介绍了溅射法镀膜的基本原理,阐述了溅射法镀二氧化钛薄膜用靶材及相应溅射镀膜工艺的研究现状。溅射镀TiO2薄膜用靶材主要有金属钛、二氧化钛和“非化学计量”二氧化钛靶材3大类。由于钛的氧化态及靶材导电性不同,它们对溅射工艺(如溅... 介绍了溅射法镀膜的基本原理,阐述了溅射法镀二氧化钛薄膜用靶材及相应溅射镀膜工艺的研究现状。溅射镀TiO2薄膜用靶材主要有金属钛、二氧化钛和“非化学计量”二氧化钛靶材3大类。由于钛的氧化态及靶材导电性不同,它们对溅射工艺(如溅射气氛等)有一定具体的要求,通过对靶材和相应工艺进行分析比较,指出应用“非化学计量”靶材是溅射法制备二氧化钛薄膜技术发展的重要方向。 展开更多
关键词 溅射 靶材 二氧化钛薄膜
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EBSD研究高纯金溅射靶材的微观组织与织构 被引量:9
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作者 阳岸恒 朱勇 +3 位作者 邓志明 谢宏潮 张国全 吴霏 《贵金属》 CAS CSCD 北大核心 2014年第3期45-48,共4页
溅射靶材的微观组织均匀性、晶粒尺寸大小及晶粒取向分布对溅射性能有着直接的影响。采用电子背散射衍射(EBSD)技术对制备的高纯Au溅射靶材不同区域的微观组织、织构组分和晶界取向差进行了研究。结果表明,高纯金靶材整体晶粒尺寸分布均... 溅射靶材的微观组织均匀性、晶粒尺寸大小及晶粒取向分布对溅射性能有着直接的影响。采用电子背散射衍射(EBSD)技术对制备的高纯Au溅射靶材不同区域的微观组织、织构组分和晶界取向差进行了研究。结果表明,高纯金靶材整体晶粒尺寸分布均匀,平均尺寸192.5 nm,边沿及中心晶界取向差分布比较相似,组织均匀性良好,对溅射高质量薄膜十分有利。 展开更多
关键词 金属材料 高纯金 溅射靶材 电子背散射衍射 取向差 织构
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集成电路电极布线用铝合金薄膜及其溅射靶材 被引量:8
3
作者 吴丽君 夏慧 陆彪 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2000年第2期111-113,125,共4页
近年来 ,铝合金薄膜广泛用作半导体集成电路的电极布线材料。作为制备溅射薄膜材料的铝合金靶材也获得了相应的应用。本文介绍了集成电路电极布线用铝合金薄膜及其溅射靶材的种类和性能 ,铝合金靶材的制备工艺以及铝合金靶材的发展趋势。
关键词 铝合金薄膜 溅射靶材 集成电路 电极布线材料
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等离子喷涂技术在溅射靶材制备中的应用 被引量:7
4
作者 梁静 林小辉 《中国钼业》 2014年第2期43-46,共4页
镀膜行业的快速发展对溅射靶材的大型化、利用率等提出了更高要求。但传统的靶材制备方法在靶材大型化方面存在很大局限。等离子喷涂技术可喷涂几乎所有的陶瓷、金属、金属化合物,在靶材制备领域有着巨大的应用潜力。本文重点介绍了目... 镀膜行业的快速发展对溅射靶材的大型化、利用率等提出了更高要求。但传统的靶材制备方法在靶材大型化方面存在很大局限。等离子喷涂技术可喷涂几乎所有的陶瓷、金属、金属化合物,在靶材制备领域有着巨大的应用潜力。本文重点介绍了目前溅射靶材主要制备方法及存在问题,并对等离子喷涂制备溅射靶材的特点及设备现状及发展方向进行了阐述。 展开更多
关键词 等离子喷涂 溅射靶材 制备
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粉末靶磁控溅射制备F掺杂SnO_2薄膜的结构及光学性能 被引量:3
5
作者 宁洁 周艳文 樊子铭 《材料保护》 CSCD 北大核心 2014年第S1期35-38,共4页
采用粉末靶射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备氟掺杂二氧化锡(FTO)薄膜。结果表明:制备的样品为多晶薄膜,具有二氧化锡的四方金红石结构。沉积气氛的含氧量增加,会使薄膜的主要择优取向由(211)转变成(110)。除沉积气氛中无氧的超厚薄膜外... 采用粉末靶射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备氟掺杂二氧化锡(FTO)薄膜。结果表明:制备的样品为多晶薄膜,具有二氧化锡的四方金红石结构。沉积气氛的含氧量增加,会使薄膜的主要择优取向由(211)转变成(110)。除沉积气氛中无氧的超厚薄膜外,其他FTO可见光区平均透光率可达90%。 展开更多
关键词 磁控溅射 二氧化锡 结构 光学性能 粉末靶
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RF magnetron-sputtered coatings deposited from biphasic calcium phosphate targets for biomedical implant applications 被引量:3
6
作者 K.A.Prosolov K.S.Popova +4 位作者 O.A.Belyavskaya J.V.Rau K.A.Gross A.Ubelis Yu.P.Sharkeev 《Bioactive Materials》 SCIE 2017年第3期170-176,共7页
Bioactive calcium phosphate coatings were deposited by radio-frequency magnetron sputtering from biphasic targets of hydroxyapatite and tricalcium phosphate,sintered at different mass%ratios.According to Raman scatter... Bioactive calcium phosphate coatings were deposited by radio-frequency magnetron sputtering from biphasic targets of hydroxyapatite and tricalcium phosphate,sintered at different mass%ratios.According to Raman scattering and X-ray diffraction data,the deposited hydroxyapatite coatings have a disordered structure.High-temperature treatment of the coatings in air leads to a transformation of the quasi-amorphous structure into a crystalline one.A correlation has been observed between the increase in the Ca content in the coatings and a subsequent decrease in Ca in the biphasic targets after a series of deposition processes.It was proposed that the addition of tricalcium phosphate to the targets would led to a finer coating's surface topography with the average size of 78 nm for the structural elements. 展开更多
关键词 RF-magnetron sputtering Biphasic hydroxyapatite-tricalcium phosphate targets Thin hydroxyapatite coatings Plasma coatings BIOCOMPATIBILITY
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The Status Quo and Development Trend of High-purity Gold Sputtering Targets 被引量:1
7
作者 YANG Anheng XIE Hongchao ZHU Yong 《贵金属》 CAS CSCD 北大核心 2012年第A01期173-176,共4页
This article gives a brief introduction to manufacturers and markets of sputtering targets as well as the manufacturing technology thereof. Then, it analyzes the application of high-purity gold sputtering targets in t... This article gives a brief introduction to manufacturers and markets of sputtering targets as well as the manufacturing technology thereof. Then, it analyzes the application of high-purity gold sputtering targets in the fields of integrated circuit, information storage, flat panel display, etc. Based on the above, the article analyzes the processing development trend for the high-purity gold sputtering targets in aspects of ultra-high purity, manufacturing technology, analysis and testing technologies. 展开更多
关键词 high-purity gold sputtering targets status quo development trend
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强流溅射源负离子出束实验研究 被引量:2
8
作者 王晓飞 包轶文 秦久昌 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 2004年第3期239-242,共4页
在离子源实验台架上,利用200型强流溅射离子源进行8种元素的负离子出束实验研究。这些负离子对应元素的电子亲合势大部分接近或小于零,负离子难以形成。实验中尝试使用不同的靶材料和辅助气体产生负离子,以提高负离子束的束流强度。
关键词 强流溅射源 负离子 束流强度 电子亲合势
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半导体溅射靶材用超高纯铝及合金研究与展望
9
作者 仝连海 钟伟攀 李凤连 《世界有色金属》 2023年第8期141-143,共3页
介绍了超高纯铝及合金材料在半导体溅射靶材上的应用,总结了制备超高纯铝及合金的提纯和铸造的主流工艺,指出了半导体溅射靶材行业对超高纯铝及合金的技术和品质的特殊要求,并对未来半导体溅射靶材用超高纯铝及合金的发展趋势做了预测。
关键词 超高纯铝 溅射靶材 提纯 铸造
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Cu2Se、In2Se3、Ga2Se3混合球磨过程中的Cu(In,Ga)Se_2形成机制研究 被引量:1
10
作者 李晓龙 赵明 +6 位作者 庄大明 巩前明 曹明杰 欧阳良琦 郭力 孙汝军 高泽栋 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第1期1-5,共5页
对球磨时间不同的Cu2Se、In2Se3和Ga2Se3混合粉末进行热压烧结制备CIGS靶材,发现在球磨时间较短时靶材出现分层,随着球磨时间延长分层缺陷消失。由此考察了粉末在球磨过程中发生的物理化学变化及其对分层的影响。结果表明:Cu2Se、In2Se3... 对球磨时间不同的Cu2Se、In2Se3和Ga2Se3混合粉末进行热压烧结制备CIGS靶材,发现在球磨时间较短时靶材出现分层,随着球磨时间延长分层缺陷消失。由此考察了粉末在球磨过程中发生的物理化学变化及其对分层的影响。结果表明:Cu2Se、In2Se3和Ga2Se3三种硒化物粉末在球磨过程中发生机械合金化反应形成黄铜矿相Cu(In,Ga)Se2(CIGS)。随着球磨时间的延长,黄铜矿相结构Cu In Se2(CIS)首先在Cu-Se二元化合物表面产生,并随着Ga原子的扩散逐步形成CIGS四元相。当球磨时间达到48 h时,粉末由黄铜矿相CIGS和少量Ga2Se3组成。由于Cu2-xSe与CIGS晶体结构相近,因此通过外延反应的方式有效促进了CIGS的合成。球磨过程中Cu-Se二元相的消失和CIGS相的形成有助于抑制烧结过程中分层缺陷的产生。 展开更多
关键词 无机非金属材料 铜铟镓硒 机械合金化 热压烧结 靶材
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射频磁控溅射沉积系统制备BCN薄膜的研究(英文)
11
作者 王健 张东 +9 位作者 王晓文 赵琰 李昱材 王刚 王宝石 郭瑞 宋世巍 丁艳波 刘莉莹 王晗 《沈阳师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2015年第3期333-336,共4页
在自然界中,金刚石是最硬的一种材料,但把金刚石高温暴露在空气中时变得容易被氧化,所以在该条件下它不能用来做成切割工具。立方氮化硼有许多优异的特性,但它的内应力比较大,很大程度上影响了它在工业生产上的发展。人们期望能够合成... 在自然界中,金刚石是最硬的一种材料,但把金刚石高温暴露在空气中时变得容易被氧化,所以在该条件下它不能用来做成切割工具。立方氮化硼有许多优异的特性,但它的内应力比较大,很大程度上影响了它在工业生产上的发展。人们期望能够合成出一种新的三元化合物硼碳氮材料,并且希望这种化合物既具有金刚石和c-BN的优点而且还能克服2种物质原有的缺点。采用射频磁控溅射方法,以石墨靶材和甲烷气体作为碳源,通过调控石墨靶功率在硅基片上沉积非晶B-C-N薄膜。利用傅里叶变换红外光谱(FTIR),原子力显微镜(AFM),X射线衍射(XRD),台阶仪等表征手段,分别对B-C-N薄膜的表面形貌粗糙度、成键、沉积速率进行分析。 展开更多
关键词 CN薄膜 磁控溅射 基片 靶材
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1J22合金材料应用于溅射垂直磁记录薄膜的尝试
12
作者 陈远星 刘志坚 黄伟嘉 《南方金属》 CAS 2012年第2期7-8,24,共3页
1J22合金带作为溅射靶材的一种尝试,充分利用1J22合金冷轧带材产品具有高饱和磁感应强度、高居里温度、成分均匀、纯度高的优点.避免粉末法制备FeCo产品所产生的纯度低、成分不均匀等缺陷.磁控溅射出成分均匀、磁性能较好,用于垂直磁记... 1J22合金带作为溅射靶材的一种尝试,充分利用1J22合金冷轧带材产品具有高饱和磁感应强度、高居里温度、成分均匀、纯度高的优点.避免粉末法制备FeCo产品所产生的纯度低、成分不均匀等缺陷.磁控溅射出成分均匀、磁性能较好,用于垂直磁记录的薄膜,可以替代其它FeCo和FeNi合金靶材,成为更加理想的垂直磁记录溅射靶材. 展开更多
关键词 1J22合金 溅射靶材 垂直磁记录薄膜 磁性能 居里温度
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双靶反应溅射Ti-B-N复合膜的研制 被引量:9
13
作者 李戈扬 王公耀 +3 位作者 吴亮 李鹏兴 张流强 郑永铭 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第4期108-113,共6页
采用基片架旋转的多靶磁控溅射仪,通过六方氮化硼(h-BN)和Ti靶反应溅射制备Ti-B-N复合薄膜,并用AES、XRD和TEM等方法研究了薄膜的微结构.结果表明,室温下沉积薄膜均呈非晶态,经过400°C热处理薄膜... 采用基片架旋转的多靶磁控溅射仪,通过六方氮化硼(h-BN)和Ti靶反应溅射制备Ti-B-N复合薄膜,并用AES、XRD和TEM等方法研究了薄膜的微结构.结果表明,室温下沉积薄膜均呈非晶态,经过400°C热处理薄膜晶化.基片加热为400°C沉积的薄膜则已晶化,TEM分析确定薄膜结构为TiN结构.显微硬度表征发现,室温沉积Ti与h-BN的原子数约为2∶1时的薄膜达到最高硬度HK2600. 展开更多
关键词 磁控溅射 双靶反应溅射 薄膜 钛-硼-氮复合膜
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采用中频反应磁控溅射技术沉积氮化锆薄膜 被引量:7
14
作者 杨钰瑛 孙维连 +2 位作者 李新领 王会强 孙玉梅 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期30-32,共3页
采用中频反应磁控溅射技术沉积ZrN薄膜,在真空镀膜机内对称安装了3对矩形孪生靶。利用等离子体发射光谱和质谱仪QMS200分别实时监控真空炉内靶材表面的谱线变化和各种气氛的分压强,并通过控制系统氮气流量自动调控,从而消除了靶中毒和... 采用中频反应磁控溅射技术沉积ZrN薄膜,在真空镀膜机内对称安装了3对矩形孪生靶。利用等离子体发射光谱和质谱仪QMS200分别实时监控真空炉内靶材表面的谱线变化和各种气氛的分压强,并通过控制系统氮气流量自动调控,从而消除了靶中毒和打火现象,确保了溅射镀膜的稳定进行。通过对氮化锆膜层的显微组织观察、X射线衍射和俄歇半定量分析,沉积的氮化锆薄膜膜层致密,与基体的结合牢固。结果表明:当炉内氮气分压强为45%,控制靶电压200V,靶电流为25A,逐步调节Ar与N2比例,可获得成分均匀,膜层致密,结合力较好的金黄色氮化锆薄膜。 展开更多
关键词 中频溅射 孪生对靶 氮化锆 薄膜
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退火对无氢钛掺杂类金刚石(Ti-DLC)膜结构及性能的影响 被引量:5
15
作者 徐均琪 李传志 +1 位作者 严一心 刘衡平 《真空》 CAS 北大核心 2009年第2期29-32,共4页
利用非平衡磁控溅射复合靶技术制备了一系列掺钛的无氢类金刚石(Ti-DLC)薄膜,并对薄膜的热稳定性能、机械性能、应力分布以及表面形貌进行了研究。实验结果表明:退火处理对Ti-DLC膜的性能具有重要影响。随着热处理温度的升高,成膜晶粒... 利用非平衡磁控溅射复合靶技术制备了一系列掺钛的无氢类金刚石(Ti-DLC)薄膜,并对薄膜的热稳定性能、机械性能、应力分布以及表面形貌进行了研究。实验结果表明:退火处理对Ti-DLC膜的性能具有重要影响。随着热处理温度的升高,成膜晶粒逐渐细化,电阻率上升但至一定值后趋于稳定。退火温度的升高,会促使薄膜应力逐渐减小,硬度变低,但其耐火温度可以达到600℃以上而不发生石墨化,这一结果为DLC膜在高温环境下的应用提供了一定思路。 展开更多
关键词 类金刚石膜 非平衡磁控溅射 钛掺杂 复合靶 热稳定性
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掺铜TiO2薄膜的制备及结构与光学性能的研究 被引量:4
16
作者 高飞 吴再华 刘晓艳 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2009年第1期87-89,98,共4页
采用双靶直流磁控共溅射法制备了掺铜TiO2薄膜,通过控制Cu靶的溅射功率改变Cu的掺杂量,研究了掺铜对TiO2薄膜的结构、光吸收及光催化性能的影响。结果表明:掺Cu能够改善薄膜的表面形貌与结晶质量,提高薄膜的光吸收性能。随着掺铜量的增... 采用双靶直流磁控共溅射法制备了掺铜TiO2薄膜,通过控制Cu靶的溅射功率改变Cu的掺杂量,研究了掺铜对TiO2薄膜的结构、光吸收及光催化性能的影响。结果表明:掺Cu能够改善薄膜的表面形貌与结晶质量,提高薄膜的光吸收性能。随着掺铜量的增加,TiO2薄膜的锐钛矿(101)衍射峰越来越强,且吸收边逐渐红移。Cu靶的溅射功率大于3 W,薄膜中就会出现CuO晶相。掺Cu后,TiO2薄膜的光催化性能明显增强。随着Cu的溅射功率的增大,TiO2薄膜的光催化性能先增强,后减弱。Cu的溅射功率为5 W的样品光催化性能最好。 展开更多
关键词 TIO2薄膜 双靶直流磁控共溅射 铜掺杂
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直流磁控溅射法制备单一相高质量β-FeSi_2薄膜 被引量:4
17
作者 侯国付 郁操 +1 位作者 赵颖 耿新华 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第7期861-865,共5页
报道了在单晶Si(100)衬底上,采用室温直流磁控溅射Fe-Si组合靶的方法,并经过后续气氛退火来制备β-FeSi_2薄膜的结果。主要研究了退火时间、退火温度等实验条件对样品结构特性、光学特性和电学特性的影响,制备出了单一相高质量的β-FeS... 报道了在单晶Si(100)衬底上,采用室温直流磁控溅射Fe-Si组合靶的方法,并经过后续气氛退火来制备β-FeSi_2薄膜的结果。主要研究了退火时间、退火温度等实验条件对样品结构特性、光学特性和电学特性的影响,制备出了单一相高质量的β-FeSi_2薄膜。霍尔测试表明未掺杂薄膜是P型导电的,载流子浓度5.747×10^(16)cm^(-3),空穴迁移率168cm^2/Vs。由反射-透射法得到薄膜的禁带宽度为0.879eV,吸收系数在光子能量为1.0eV时达到了1.42×10~5cm^(-1)。基于以上优异的光电性能,β-FeSi_2薄膜可望用作太阳电池的有源层。 展开更多
关键词 β-FeSi2薄膜 直流磁控溅射 Fe—Si组合靶 太阳电池
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基于磁控溅射系统的大尺寸Ga_(2)O_(3)薄膜沉积模型与性能研究
18
作者 肖厚恩 王顺利 《浙江理工大学学报(自然科学版)》 2024年第3期310-318,共9页
薄膜型Ga_(2)O_(3)光电探测器具有成本低廉、性能优异、可重复性高等优点,实现Ga_(2)O_(3)薄膜大尺寸均匀生长对批量制备薄膜型Ga_(2)O_(3)光电探测器具有重要意义。为了实现大尺寸Ga_(2)O_(3)薄膜的高效生长,采用Matlab软件对磁控溅射... 薄膜型Ga_(2)O_(3)光电探测器具有成本低廉、性能优异、可重复性高等优点,实现Ga_(2)O_(3)薄膜大尺寸均匀生长对批量制备薄膜型Ga_(2)O_(3)光电探测器具有重要意义。为了实现大尺寸Ga_(2)O_(3)薄膜的高效生长,采用Matlab软件对磁控溅射系统中倾斜圆形平面靶与旋转水平工作台上Ga_(2)O_(3)薄膜沉积模型进行了仿真,分析了靶基距和溅射靶转动角度对薄膜性能的影响,并进行了实验验证。结果表明:靶基距的增加会提高沉积薄膜的均匀性,在一定的靶基距下溅射靶转动角度的增加会使薄膜均匀性先提高后降低,Ga_(2)O_(3)薄膜均匀性实验分析结果与仿真结果基本一致;在靶基距为100 mm、溅射靶转动角度为35°的条件下,在蓝宝石衬底上沉积得到了平均厚度偏差为1.27%的Ga_(2)O_(3)薄膜;以沉积的薄膜批量制备Ga_(2)O_(3)光电探测器,得到的光电探测器对254 nm的光源具有基本一致的光响应。该研究为大批量制备高质量Ga_(2)O_(3)薄膜探测器提供了一定的理论依据。 展开更多
关键词 Ga_(2)O_(3) 磁控溅射 大尺寸 倾斜圆型平面靶 MATLAB
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Facing targets sputtered iron nitride gradient films
19
作者 姜恩永 孙多春 +2 位作者 田民波 林川 刘裕光 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 1995年第19期1596-1601,共6页
Iron nitride film is a qualifed material for high-density magnetic recording head for its excellent magnetic properties and good corrosion resistance. It is well known that there are four iron nitride phases, α″-Fe&... Iron nitride film is a qualifed material for high-density magnetic recording head for its excellent magnetic properties and good corrosion resistance. It is well known that there are four iron nitride phases, α″-Fe<sub>16</sub>N<sub>2</sub>, γ′-Fe<sub>4</sub>N, ε-Fe<sub>x</sub>N,(2【x≤3) and ζ-Fe<sub>2</sub>N. Their saturation magnetization (M<sub>s</sub>) and Curie temperature decrease with the increase of 展开更多
关键词 FACING targets sputtering iron NITRIDE thin FILMS GRADIENT FILMS magnetic properties.
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Fe_(16)N_2 single-crystal films with high saturation magnetization
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作者 姜恩永 刘明升 +6 位作者 孙多春 林川 王合英 袁红莉 汪际 张荣实 吴萍 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 1995年第22期1922-1926,共5页
Though the structure of α"-Fe<sub>16</sub>N<sub>2</sub> was well known, the great interest in Fe<sub>16</sub>N<sub>2</sub> arose from its giant saturation magnetic... Though the structure of α"-Fe<sub>16</sub>N<sub>2</sub> was well known, the great interest in Fe<sub>16</sub>N<sub>2</sub> arose from its giant saturation magnetic flux density which was found to be 2.58T at room temperature. The research work on preparing Fe<sub>16</sub>N<sub>2</sub> in high abundance is active on both bulk materials and thin film form. However, up to now, only Sugita and his coworkers have successfully prepared Fe<sub>16</sub>N<sub>2</sub> single-crystal films on semiconductor substrates because of its metastable property. They manifested that the M<sub>s</sub> was up to 2.9 T at 展开更多
关键词 FACING targets sputtering α-Fe16N2 SINGLE-CRYSTAL FILMS high SATURATION magnetization.
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