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退火条件对多晶硅薄膜光电性能的影响 被引量:2
1
作者 陈城钊 邱胜桦 +1 位作者 陈洪财 林璇英 《佳木斯大学学报(自然科学版)》 CAS 2007年第2期192-195,共4页
采用氢等离子体加热的方法晶化a-Si:H薄膜制备多晶硅薄膜,用Raman散射谱和傅里叶变换红外吸收谱(FT-IR)等方法进行表征和分析.研究了退火的射频功率、衬底温度和退火时间对薄膜微结构和光电性能的影响.结果表明,薄膜的氢含量是影响薄膜... 采用氢等离子体加热的方法晶化a-Si:H薄膜制备多晶硅薄膜,用Raman散射谱和傅里叶变换红外吸收谱(FT-IR)等方法进行表征和分析.研究了退火的射频功率、衬底温度和退火时间对薄膜微结构和光电性能的影响.结果表明,薄膜的氢含量是影响薄膜光学带隙的主要因素,而薄膜的结晶度是影响薄膜暗电导率的主要因素. 展开更多
关键词 多晶硅薄膜 氢等离子体加热 RAMAN谱 FT-IR谱 暗电导率 光学带隙
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固体纳秒激光器应用于非晶硅薄膜结晶的研究 被引量:1
2
作者 王帅 刘敏 +3 位作者 潘岭峰 张紫辰 王晓峰 杨富华 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2017年第9期1096-1101,共6页
多晶硅薄膜比非晶硅薄膜具有更高的电子迁移率,在器件中表现出更优良的性能,脉冲激光结晶非晶硅薄膜制备多晶硅薄膜的方法具有热积存小、对衬底影响小、成本低等优点。使用532 nm固体纳秒激光器进行了非晶硅薄膜激光结晶实验,为了解决... 多晶硅薄膜比非晶硅薄膜具有更高的电子迁移率,在器件中表现出更优良的性能,脉冲激光结晶非晶硅薄膜制备多晶硅薄膜的方法具有热积存小、对衬底影响小、成本低等优点。使用532 nm固体纳秒激光器进行了非晶硅薄膜激光结晶实验,为了解决直接使用高斯光束结晶时因光斑能量分布带来的结晶效果不均匀,首先基于光束整型系统将圆形的高斯光束整型成为线性平顶光束,而后研究单脉冲能量密度、脉冲个数、非晶硅薄膜厚度对结晶效果的影响。结果表明,线性平顶光束用于非晶硅薄膜结晶具有更好的均匀性,对于100 nm非晶硅薄膜,随着能量密度的增加,晶粒逐渐变大,直到表面出现热损伤,最大晶粒尺寸约为1μm×500 nm。随着脉冲个数的增加,表面粗糙度有减小的趋势,观察到的最小粗糙度约为2.38 nm。对于20nm超薄非晶硅薄膜,只有当能量密度位于134 mJ/cm^2和167 mJ/cm^2之间、脉冲个数大于或等于八个时才能观察到明显的结晶效果。 展开更多
关键词 脉冲激光 激光结晶 超薄非晶硅薄膜 多晶硅薄膜
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高温沉积多晶硅薄膜光伏电池研究进展
3
作者 路爽 张一凡 《化工设计通讯》 CAS 2022年第8期47-49,共3页
高温沉积方法制备多晶硅薄膜太阳电池具有电池效率高、制备成本低等优势,在光伏太阳能电池领域具有良好的发展前景。介绍了不同材料衬底制备高温沉积法制备多晶硅太阳能光伏薄膜的方法,介绍了多晶硅薄膜太阳能电池的基本特点和制备工艺... 高温沉积方法制备多晶硅薄膜太阳电池具有电池效率高、制备成本低等优势,在光伏太阳能电池领域具有良好的发展前景。介绍了不同材料衬底制备高温沉积法制备多晶硅太阳能光伏薄膜的方法,介绍了多晶硅薄膜太阳能电池的基本特点和制备工艺的技术要点,并综述了当前多晶硅薄膜太阳能电池面临的重点以及相关的前沿研究领域的最新进展。 展开更多
关键词 多晶硅薄膜 光伏电池 效率 进展
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表面加工多晶硅薄膜热导率测试结构 被引量:1
4
作者 许高斌 黄庆安 《微纳电子技术》 CAS 2003年第7期224-227,共4页
提出了一种使用表面加工工艺设计多晶硅薄膜热导率的测试结构 ,论文推导了热学模型 ,给出了测试方法。由于其制造工艺能和其它微机械器件制造工艺完全兼容 。
关键词 表面加工 多晶硅薄膜 热导率 测试结构 热学特性
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Cat-CVD方法制备多晶硅薄膜的孕育层控制
5
作者 张玉 荆海 +4 位作者 付国柱 高博 廖燕平 李世伟 黄金英 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期37-41,共5页
采用催化化学气相沉积法(Cat-CVD)制备多晶硅(p-Si)薄膜的初期会形成一层比较厚的非晶硅(a-Si)孕育层。这层孕育层作为p-Si的前驱生长物,给p-Si的晶化提供晶核,同时这层薄膜又存在较多的缺陷,严重影响了p-Si器件的性能。文章采用p-Si的... 采用催化化学气相沉积法(Cat-CVD)制备多晶硅(p-Si)薄膜的初期会形成一层比较厚的非晶硅(a-Si)孕育层。这层孕育层作为p-Si的前驱生长物,给p-Si的晶化提供晶核,同时这层薄膜又存在较多的缺陷,严重影响了p-Si器件的性能。文章采用p-Si的间断生长,对预先沉积的a-Si孕育层进行数分钟的氢原子刻蚀,目的是刻蚀掉有严重缺陷的Si—Si键,保留与晶体硅匹配的Si—Si键,促进晶核形成,抑制孕育层的再生长。经XRD和SEM测试发现,间断p-Si的生长,经若干分钟的H原子处理后多晶硅很快就形成,结晶取向在(111)面上最强,晶粒尺寸平均为80nm。而传统方法连续生长20min的硅薄膜经XRD测试未出现多晶硅特征峰。结果表明,用Cat-CVD制备p-Si薄膜,间断生长过程,用氢原子处理预先沉积的一层a-Si孕育层,可以抑制孕育层的生长,提高了p-Si薄膜的晶化速率。 展开更多
关键词 催化化学气相沉积法 多晶硅薄膜 非晶硅孕育层 氢原子刻蚀 晶核 晶化速率
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p型多晶硅薄膜应变因子与掺杂浓度关系理论研究
6
作者 王健 揣荣岩 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第24期190-196,共7页
多晶硅薄膜具有良好的压阻特性,晶粒结构和掺杂浓度决定其压阻特性.一般通过调节掺杂浓度改变压阻参数,但现有的多晶硅薄膜压阻系数与掺杂浓度的理论关系和适用范围不够全面.为了完善多晶硅薄膜压阻理论,基于多晶硅纳米薄膜隧道压阻模型... 多晶硅薄膜具有良好的压阻特性,晶粒结构和掺杂浓度决定其压阻特性.一般通过调节掺杂浓度改变压阻参数,但现有的多晶硅薄膜压阻系数与掺杂浓度的理论关系和适用范围不够全面.为了完善多晶硅薄膜压阻理论,基于多晶硅纳米薄膜隧道压阻模型,以及硅价带和空穴电导质量随应力改变的机理,提出了一种p型多晶硅薄膜压阻系数算法.该算法分别求取了晶粒中性区和复合晶界区的压阻系数π_(11),π_(12)和π_(44)的理论公式,据此可以计算任意择优晶向排列多晶硅的纵向和横向压阻系数.根据材料的结构特性,求取了p型多晶硅纳米薄膜和普通多晶硅薄膜应变因子,绘制了应变因子与掺杂浓度的关系曲线,与测试结果比较,具有较好的一致性.因此,该算法全面和准确,对多晶硅薄膜的压阻特性的改进和应用具有重要意义. 展开更多
关键词 多晶硅薄膜 应变因子 压阻系数
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表面加工多晶硅薄膜热扩散系数的在线提取
7
作者 矫妹 许高斌 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2006年第2期273-278,共6页
提出了一种在线提取多晶硅薄膜热扩散系数的简单测量方法,测试结构可随表面器件工艺加工制作,无需附加工艺。通过分析两个长度相同、宽度与厚度相同梁的瞬态冷却特性,获得其冷却时的温度衰减时间常数,便可以提取出表面加工多晶硅薄膜的... 提出了一种在线提取多晶硅薄膜热扩散系数的简单测量方法,测试结构可随表面器件工艺加工制作,无需附加工艺。通过分析两个长度相同、宽度与厚度相同梁的瞬态冷却特性,获得其冷却时的温度衰减时间常数,便可以提取出表面加工多晶硅薄膜的热扩散系数。给出了瞬态冷却热电分析模型,综合考虑了梁冷却过程中各种散热因素即对流、辐射以及向衬底传热的影响。实验测得的该表面加工多晶硅薄膜热扩散系数是0.165 cm2-s 1(方块电阻是116.25Ω/sq)。该方法能够实现多晶硅薄膜热扩散系数的在线测试。 展开更多
关键词 多晶硅薄膜 热扩散系数 表面加工技术 在线提取
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新型三明治结构铝诱导非晶硅薄膜低温晶化增强
8
作者 贺海晏 李翔 韩高荣 《真空》 CAS 2012年第1期45-47,共3页
本文对比探索了新型Al/α-Si/Al三明治结构与传统的Al/α-Si双层结构对铝诱导非晶硅薄膜低温晶化结果的影响,结果表明在相同的制备及退火条件下,前者更利于形成高度晶化的多晶硅薄膜。本研究工作利用拉曼光谱、掠入射X射线衍射、光学显... 本文对比探索了新型Al/α-Si/Al三明治结构与传统的Al/α-Si双层结构对铝诱导非晶硅薄膜低温晶化结果的影响,结果表明在相同的制备及退火条件下,前者更利于形成高度晶化的多晶硅薄膜。本研究工作利用拉曼光谱、掠入射X射线衍射、光学显微镜、方块电阻等表征方法探讨了薄膜厚度比和退火温度对金属诱导非晶硅薄膜晶化的程度、晶体结构以及电学性能的影响,最终制备出了电阻率仅为2.5Ω.cm的多晶硅薄膜。 展开更多
关键词 铝诱导结晶 三明治结构 多晶硅薄膜
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a-Si:H薄膜的再结晶技术及Si膜的Raman光谱分析 被引量:5
9
作者 冯团辉 张宇翔 +2 位作者 王海燕 靳瑞敏 卢景霄 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第3期462-465,共4页
论述了非晶硅薄膜的几种主要再结晶技术 ,着重指出了各种晶化技术已取得的研究成果、优缺点、有待进一步研究的内容及其在多晶硅薄膜太阳电池工业生产中的应用前景。另外 ,还讨论了通过Raman光谱求纳晶硅薄膜的晶粒尺寸和结晶度的方法。
关键词 非晶硅薄膜 再结晶技术 多晶硅薄膜太阳电池 RAMAN光谱 晶粒尺寸 结晶度
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不同宽长比的柔性LTPS TFT的电应力可靠性
10
作者 张之壤 朱慧 +3 位作者 刘行 张轶群 徐朝 郑文轩 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第6期589-595,共7页
为了研究不同宽长比的柔性低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS TFT)的电应力可靠性,测试了器件的I-V特性,以表征器件在强电场直流应力下由于自热效应和热载流子效应带来的电学性能退化。通过瞬态电流法表征了器件在强电场直流应力下的时间常数谱... 为了研究不同宽长比的柔性低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS TFT)的电应力可靠性,测试了器件的I-V特性,以表征器件在强电场直流应力下由于自热效应和热载流子效应带来的电学性能退化。通过瞬态电流法表征了器件在强电场直流应力下的时间常数谱,并对其产生的新陷阱进行定位,分析了产生陷阱的内在机理。结果表明,在相同的强电场直流应力下宽长比为3/2.5的器件,其电学参数变化最大,自热效应以及热载流子效应带来的影响也最大。自热效应导致器件性能退化的主要原因是较大的栅源电压导致Si/SiO2界面处和栅氧化层中的陷阱增多,而热载流子效应导致器件性能退化的主要原因则是由于较大的漏源电压使得漏极晶界陷阱态密度急剧升高。 展开更多
关键词 柔性低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS TFT) 自热效应 热载流子效应 瞬态电流 强电场直流应力
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多晶硅薄膜晶体管液晶显示器件的优化设计 被引量:2
11
作者 纪世阳 李牧菊 +1 位作者 王宗凯 杨柏梁 《液晶与显示》 CAS CSCD 2001年第3期203-208,共6页
针对多晶硅薄膜晶体管液晶显示器件关态漏电流较大的问题 ,采用源漏轻掺杂结构以降低关态时电荷的泄漏 ,增加晶体管的开关电流比值。通过模拟轻掺杂区不同的物理参数 ,如掺杂浓度及掺杂区宽度等 ,研究薄膜晶体管的开关电流比值。由此确... 针对多晶硅薄膜晶体管液晶显示器件关态漏电流较大的问题 ,采用源漏轻掺杂结构以降低关态时电荷的泄漏 ,增加晶体管的开关电流比值。通过模拟轻掺杂区不同的物理参数 ,如掺杂浓度及掺杂区宽度等 ,研究薄膜晶体管的开关电流比值。由此确定像素各部分的尺寸 ,对液晶显示器件进行优化设计。 展开更多
关键词 液晶显示 多晶硅薄膜晶体管 优化设计 源漏轻掺杂液 关态漏电流
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AMOLED像素电路的设计与仿真研究 被引量:3
12
作者 沈匿 林祖伦 +3 位作者 陈文彬 祁康成 王小菊 杨隆杰 《电子器件》 CAS 2011年第5期550-554,共5页
为了解决驱动管阈值电压漂移带来的OLED亮度不均匀的问题,介绍了一种新的AMOLED四管像素电路,利用HSPICE仿真软件详细分析了电路各参数对其输出特性的影响,同时给出了参数设计的方法。最后从延长OLED的使用寿命出发,对电路进行了改进并... 为了解决驱动管阈值电压漂移带来的OLED亮度不均匀的问题,介绍了一种新的AMOLED四管像素电路,利用HSPICE仿真软件详细分析了电路各参数对其输出特性的影响,同时给出了参数设计的方法。最后从延长OLED的使用寿命出发,对电路进行了改进并根据已设计的参数进行了仿真,结果表明改进后的电路功能不变,且在驱动阶段,驱动电流变化为0.01μA,小于一个灰阶对应的电流,满足显示的要求。 展开更多
关键词 AMOLED 四管像素驱动电路 仿真 阈值电压漂移 多晶硅薄膜晶体管
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源漏轻掺杂结构多晶硅薄膜晶体管模拟研究 被引量:3
13
作者 纪世阳 李牧菊 杨柏梁 《液晶与显示》 CAS CSCD 2001年第2期129-134,共6页
采用同型结模型模拟计算了源漏轻掺杂结构的关态漏极电流 ,同时考虑热电子效应修正漏极电流模拟结果 ,使漏极电流降低到 1 0 - 11A量级 ,晶体管的开关电流比值达到 1 0 6量级。模拟研究掺杂区浓度和宽度与多晶硅薄膜晶体管开关电流比的... 采用同型结模型模拟计算了源漏轻掺杂结构的关态漏极电流 ,同时考虑热电子效应修正漏极电流模拟结果 ,使漏极电流降低到 1 0 - 11A量级 ,晶体管的开关电流比值达到 1 0 6量级。模拟研究掺杂区浓度和宽度与多晶硅薄膜晶体管开关电流比的变化关系。 展开更多
关键词 多晶硅薄膜晶体管 同型结 热电子 漏电流 源漏轻掺杂结构 高清晰度彩色有源平板显示 模拟研究
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基于微制造的多晶硅薄膜型柔性铰链 被引量:2
14
作者 张永宇 陈晓阳 赵江铭 《机械工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期193-198,共6页
将宏机械柔性铰链设计思想应用到硅微机械机构设计中,采用表面硅牺牲层工艺制作了结构层厚度为2 μm 的多晶硅薄膜型微机械柔性铰链及在线测试机构,对微米尺度柔性铰链的微机械性能进行了理论和试验研究。以直圆型多晶硅薄膜柔性铰链为... 将宏机械柔性铰链设计思想应用到硅微机械机构设计中,采用表面硅牺牲层工艺制作了结构层厚度为2 μm 的多晶硅薄膜型微机械柔性铰链及在线测试机构,对微米尺度柔性铰链的微机械性能进行了理论和试验研究。以直圆型多晶硅薄膜柔性铰链为例,对其转动刚度采用现有宏机械柔性铰链理论的计算值为8 N·μm/rad,试验测试结果为120N·μm/rad。宏理论计算和微机械测试结果之间的偏差较大,这表明在微尺度效应的影响下,宏机械柔性铰链理论模型不能直接用于薄膜型硅微机械柔性铰链的计算。根据试验数据对宏机械柔性铰链计算公式进行了修正,得到了描述薄膜型硅微机械柔性铰链静态特性的近似经验公式,可满足薄膜型硅微机械柔性铰链的设计与计算。 展开更多
关键词 微制造 多晶硅 薄膜 柔性铰链 直圆柔性铰链 微机电系统
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多晶硅薄膜晶体管的栅电容模型 被引量:2
15
作者 邓婉玲 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2011年第2期178-182,共5页
多晶硅薄膜晶体管具有独特的栅电容特性,即泄漏区中栅源电容的反常增大和饱和区中栅漏电容由于kink效应的增大。基于Meyer模型,考虑了泄漏产生效应和kink效应,对多晶硅薄膜晶体管的栅漏电容和栅源电容特性进行了建模研究。对实验数据进... 多晶硅薄膜晶体管具有独特的栅电容特性,即泄漏区中栅源电容的反常增大和饱和区中栅漏电容由于kink效应的增大。基于Meyer模型,考虑了泄漏产生效应和kink效应,对多晶硅薄膜晶体管的栅漏电容和栅源电容特性进行了建模研究。对实验数据进行拟合发现,提出的模型与实验数据符合得较好,能准确地预测多晶硅薄膜晶体管的栅电容特性。 展开更多
关键词 多晶硅薄膜晶体管 栅漏电容 栅源电容 模型
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A physical surface-potential-based drain current model for polysilicon thin-film transistors
16
作者 李希越 邓婉玲 黄君凯 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2012年第3期32-37,共6页
A physical drain current model of polysilicon thin-film transistors based on the charge-sheet model, the density of trap states and surface potential is proposed.The model uses non-iterative calculations,which are sin... A physical drain current model of polysilicon thin-film transistors based on the charge-sheet model, the density of trap states and surface potential is proposed.The model uses non-iterative calculations,which are single-piece and valid in all operation regions above flat-band voltage.The distribution of the trap states,including both Gaussian deep-level states and exponential band-tail states,is also taken into account,and parameter extraction of trap state distribution is developed by the optoelectronic modulation spectroscopy measurement method. Comparisons with the available experimental data are accomplished,and good agreements are obtained. 展开更多
关键词 polysilicon thin-film transistors surface potential drain current model trap state distribution
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基于物理并适用于电路仿真的多晶硅薄膜晶体管薄层电荷模型(英文) 被引量:1
17
作者 邓婉玲 郑学仁 +1 位作者 陈荣盛 吴为敬 《电子器件》 CAS 2008年第1期117-120,123,共5页
本文利用薄层电荷理论,建立了一个基于表面势的、物理的多晶硅薄膜晶体管(Polysilicon Thin-Film Transistors ,poly-Si TFTs)的电流模型,且该模型适用于电路仿真。推导了poly-Si TFTs表面势的近似解法,该求解法非迭代的计算大大地提高... 本文利用薄层电荷理论,建立了一个基于表面势的、物理的多晶硅薄膜晶体管(Polysilicon Thin-Film Transistors ,poly-Si TFTs)的电流模型,且该模型适用于电路仿真。推导了poly-Si TFTs表面势的近似解法,该求解法非迭代的计算大大地提高了计算效率,且精确度高并得到实验验证。基于物理的迁移率方程考虑了晶界势垒高度,和由于声子散射与表面粗糙散射引起的迁移率退化。基于Brews的薄层电荷模型和上述非迭代计算表面势,本电流模型同时考虑了漏致势垒降低(DIBL)效应、kink效应和沟道长度调制效应。对不同沟长的器件实验数据比较发现,提出的模型在很广的工作电压内与实验数据符合得非常好。同时本模型的所有方程都具有解析形式,电流方程光滑连续,适用于电路仿真器如SPICE。 展开更多
关键词 多晶硅薄膜晶体管 表面势 薄层电荷模型
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多晶硅薄膜晶体管的电流和电容分析模型(英文) 被引量:1
18
作者 郑学仁 邓婉玲 陈荣盛 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第10期221-226,共6页
提出一种用于电路模拟的基于表面势的多晶硅薄膜晶体管(poly-Si TFTs)的电流和电容分析模型.采用非迭代方法计算poly-Si TFTs表面势随端电压的变化,从而大大地提高了上述模型的计算效率.基于表面势的解析计算和薄层电荷方法,提出了包括... 提出一种用于电路模拟的基于表面势的多晶硅薄膜晶体管(poly-Si TFTs)的电流和电容分析模型.采用非迭代方法计算poly-Si TFTs表面势随端电压的变化,从而大大地提高了上述模型的计算效率.基于表面势的解析计算和薄层电荷方法,提出了包括小尺寸效应和翘曲效应的电流电压模型.同时,文中还提出了基于电荷的电容模型.电流和电容模型在线性区和饱和区都是连续和准确的,不需要没有物理意义的光滑处理.与实验数据的比较发现,模型和实验数据符合得较好,这也证明了所提出模型的准确性.并且,该模型适用于电路仿真器. 展开更多
关键词 多晶硅薄膜晶体管 表面势 电流模型 电容模型
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基于表面势的多晶硅薄膜晶体管的栅电容模型 被引量:1
19
作者 邓婉玲 郑学仁 陈荣盛 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2008年第2期248-252,共5页
显式地推导多晶硅薄膜晶体管(Polysilicon thin-film transistors,poly-SiTFT)表面势隐含方程的近似解,该求解法非迭代的计算大大地提高了计算效率,且精确度非常高,与数值迭代结果比较,绝对误差范围只在纳伏数量级。利用求得的表面势,... 显式地推导多晶硅薄膜晶体管(Polysilicon thin-film transistors,poly-SiTFT)表面势隐含方程的近似解,该求解法非迭代的计算大大地提高了计算效率,且精确度非常高,与数值迭代结果比较,绝对误差范围只在纳伏数量级。利用求得的表面势,建立了一个poly-SiTFT栅电容模型,该电容电压模型能连续、准确地描述poly-SiTFT在线性区和饱和区的动态特性,同时该模型考虑了kink效应、沟道长度调制效应和寄生电容等。对实验数据进行拟合发现,提出的模型与实验数据符合得较好,能准确地预测poly-SiTFT的栅电容特性。 展开更多
关键词 多晶硅薄膜晶体管 表面势 栅电容
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Explicit solution of channel potential and drain current model in symmetric double-gate polysilicon TFTs
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作者 马晓玉 邓婉玲 黄君凯 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2014年第3期5-10,共6页
A physical and explicit surface potential model for undoped symmetric double-gate polysilicon thinfilm transistors has been derived based on an effective charge density approach of Poisson's equation with both expone... A physical and explicit surface potential model for undoped symmetric double-gate polysilicon thinfilm transistors has been derived based on an effective charge density approach of Poisson's equation with both exponential deep and tail state terms included. The proposed surface potential calculation is single-piece and eliminatestheregionalapproach.Modelpredictionsarecomparedtonumericalsimulationswithcloseagreement,having absolute error in the millivolt range. Furthermore, expressions of the drain current are given for a wide range of operation regions, which have been justified by thorough comparisons with experimental data. 展开更多
关键词 double-gate drain current surface potential polysilicon thin-film transistor
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