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Influence of Ti target current on microstructure and properties of Ti-doped graphite-like carbon films 被引量:7
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作者 王永欣 王立平 薛群基 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第6期1372-1380,共9页
Ti-doped graphite-like carbon (Ti-GLC) films were synthesized successfully by magnetron sputtering technique. The compositions, microstructures and properties of the Ti-doped GLC films dependent on the parameter of ... Ti-doped graphite-like carbon (Ti-GLC) films were synthesized successfully by magnetron sputtering technique. The compositions, microstructures and properties of the Ti-doped GLC films dependent on the parameter of Ti target current were systemically investigated by Raman spectra, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM), atomic force microscopy (AFM), nanoindentation and ball-on-disk tribometer. With the increase of the Ti target current, the ratio of sp2 bond and the content of Ti as well as the film hardness and compressive internal stress increase, but the high content of the Ti would result in the loose film due to the formation of the squamose structure. Less incorporated Ti reduces the friction of the GLC film in dry-sliding condition, while pure GLC film exhibits the lowest friction coefficient in water-lubricated condition. Ti-GLC film deposited with low Ti target current shows high wear resistance in both dry-sliding and water-lubricated conditions. 展开更多
关键词 Ti-doped graphite-like carbon film MICROSTRUCTURE tribological performance target current
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类石墨薄膜的场致电子发射研究(英文) 被引量:5
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作者 马会中 张兰 +3 位作者 张俊杰 杜云海 姚宁 张兵临 《液晶与显示》 CAS CSCD 2004年第4期244-248,共5页
利用脉冲激光烧蚀技术在硅衬底上制备了类石墨薄膜,以该薄膜为阴极进行了场致电子发射实验。当在阴阳极之间加电场后,两极之间出现了放电现象。放电之后,类石墨薄膜的阈值电场大大降低了。当电场为20V/μm时,该薄膜的发射点密度可以达到... 利用脉冲激光烧蚀技术在硅衬底上制备了类石墨薄膜,以该薄膜为阴极进行了场致电子发射实验。当在阴阳极之间加电场后,两极之间出现了放电现象。放电之后,类石墨薄膜的阈值电场大大降低了。当电场为20V/μm时,该薄膜的发射点密度可以达到106/cm2。利用Raman光谱、扫描电镜和X射线光电子谱对薄膜的表面形貌和微结构进行了测试。薄膜中的类石墨微结构对该薄膜的场致电子发射特性起了促进作用。场致电子发射实验显示类石墨薄膜作为冷阴极电子材料具有潜在的应用价值。 展开更多
关键词 场致电子发射 类石墨薄膜 聚酰亚胺 激光烧蚀
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自配对含氢类石墨碳薄膜超滑性能 被引量:4
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作者 欧玉静 王永富 +1 位作者 岳照凡 张俊彦 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第1期72-77,共6页
采用等离子体增强化学气相沉积与原位渗氮复合技术在硅片和轴承钢球上制备了类石墨碳薄膜,将两者组成摩擦配伍对,并讨论自配对类石墨薄膜在氮气中摩擦学行为。利用往复摩擦机、扫描电子显微镜、三维表面轮廓仪考察自配对类石墨碳薄膜在... 采用等离子体增强化学气相沉积与原位渗氮复合技术在硅片和轴承钢球上制备了类石墨碳薄膜,将两者组成摩擦配伍对,并讨论自配对类石墨薄膜在氮气中摩擦学行为。利用往复摩擦机、扫描电子显微镜、三维表面轮廓仪考察自配对类石墨碳薄膜在不同载荷下摩擦磨损性能;采用高分辨透射电镜、拉曼光谱和红外吸收谱分析类石墨碳薄膜摩擦前后结构变化。摩擦测试结果表明:在载荷4 N时,薄膜摩擦因数为0.01;在8 N时,薄膜摩擦因数降低到0.005。这种变化归因于摩擦诱导薄膜结构进一步有序化以及沿滑动方向形成更加有序且更长石墨烯以及片状磨屑。证实了采用自配对碳薄膜方案是实现固体超滑一种有效途径。 展开更多
关键词 超滑 摩擦磨损 类石墨 类金刚石 碳薄膜
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一种类石墨薄膜的场发射研究 被引量:1
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作者 马会中 张兰 +3 位作者 姚宁 毕兆琪 张兵临 胡欢陵 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第4期363-366,共4页
利用 Kr F准分子激光器及聚酰亚胺靶在硅衬底上沉积出了类石墨薄膜。借助于 X射线光电子谱及 Raman光谱手段对薄膜微结构进行了分析。并用该薄膜作阴极 ,研究了其场发射特性。实验结果显示出该薄膜具有较好的场电子发射性能 ,发射点密... 利用 Kr F准分子激光器及聚酰亚胺靶在硅衬底上沉积出了类石墨薄膜。借助于 X射线光电子谱及 Raman光谱手段对薄膜微结构进行了分析。并用该薄膜作阴极 ,研究了其场发射特性。实验结果显示出该薄膜具有较好的场电子发射性能 ,发射点密度高达 1× 1 0 5 / cm2 以上。 展开更多
关键词 类石墨薄膜 场电子发射 准分子激光器
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类石墨碳膜的制备及其与类金刚石碳膜的区分 被引量:19
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作者 杜军 何家文 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2005年第4期6-8,12,共4页
类金刚石碳膜的碳键结构一般以sp3为主,用离子束辅助磁控溅射制备了以sp2为主的非晶碳膜,即类石墨碳膜.分析类石墨碳膜的成分、组织结构,并通过这些结果区分类石墨碳膜与类金刚石碳膜.采用卢瑟福背散射谱(RBS)、x射线衍射(XRD)、透射电... 类金刚石碳膜的碳键结构一般以sp3为主,用离子束辅助磁控溅射制备了以sp2为主的非晶碳膜,即类石墨碳膜.分析类石墨碳膜的成分、组织结构,并通过这些结果区分类石墨碳膜与类金刚石碳膜.采用卢瑟福背散射谱(RBS)、x射线衍射(XRD)、透射电镜(TEM)、x射线光电子谱(XPS)、四点探针法(FPM)分析了成分、组织结构及电阻率,结果表明:制备碳膜的晶体结构是非晶,碳键结构以sp2为主,电阻率在10-4~10-2 Ω·(m之间.证明这种非晶碳膜不同于类金刚石碳膜(sp3为主). 展开更多
关键词 类金刚石碳膜 类石墨碳膜 碳键结构
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非平衡磁控溅射沉积类石墨碳膜结构及其摩擦学性能 被引量:12
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作者 王永军 李红轩 +4 位作者 吉利 刘晓红 吴艳霞 周惠娣 陈建敏 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期17-22,共6页
利用非平衡磁控溅射技术在单晶硅基底上沉积了类石墨非晶碳膜。利用X射线光电子光谱、Ram an光谱、高分辨透射电子显微镜及原子力显微镜对沉积薄膜的微观结构进行了详细表征;利用纳米压痕仪和球盘摩擦试验机分别对其力学性能和摩擦学性... 利用非平衡磁控溅射技术在单晶硅基底上沉积了类石墨非晶碳膜。利用X射线光电子光谱、Ram an光谱、高分辨透射电子显微镜及原子力显微镜对沉积薄膜的微观结构进行了详细表征;利用纳米压痕仪和球盘摩擦试验机分别对其力学性能和摩擦学性能进行了测试。结果表明,当前制备的非晶碳膜中sp2杂化碳占主导呈现出类石墨特征,但薄膜硬度可达14.2 GPa。大气环境中的摩擦性能测试表明,所制备的类石墨非晶薄膜具有优异的摩擦学性能:其承载能力高达2.8 GPa,同时具有较低摩擦因数(~0.05)和磨损率(~10-11cm3/Nm)。类石墨碳膜优异的摩擦学性能主要归因于其独特的结构、较低的内应力及良好的热稳定性。 展开更多
关键词 类石墨碳膜 磁控溅射 摩擦磨损
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非平衡磁控溅射制备类石墨碳膜及性能研究 被引量:8
7
作者 王永军 李红轩 +4 位作者 吉利 刘晓红 吴艳霞 周惠娣 陈建敏 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期340-346,共7页
利用中频非平衡磁控溅射技术在单晶硅基底上沉积了类石墨碳膜,采用Raman光谱、高分辨透射电子显微镜、原子力显微镜分析了薄膜微观结构和表面形貌;采用纳米压痕仪和CSM摩擦磨损试验机测试了碳膜力学性能和摩擦学性能.结果表明:利用中频... 利用中频非平衡磁控溅射技术在单晶硅基底上沉积了类石墨碳膜,采用Raman光谱、高分辨透射电子显微镜、原子力显微镜分析了薄膜微观结构和表面形貌;采用纳米压痕仪和CSM摩擦磨损试验机测试了碳膜力学性能和摩擦学性能.结果表明:利用中频非平衡磁控溅射技术沉积的碳膜是一种以sp^2键合碳为主、结构非晶、硬度适中、应力较低、表面粗糙度较大、摩擦性能优异的薄膜.脉冲占空比对薄膜微观结构和性能有显著影响,随着脉冲占空比的增大,Raman光谱D峰和G峰的强度比ID/IG先减小后增大,而硬度随脉冲占空比的增大却呈现出相反的变化趋势,即先增大后减小;大气氛围中的摩擦性能测试表明,本实验制备的薄膜具有优异的抗磨性能(~10^(-11)cm^3/N^(-1)·m^(-1))和承载能力(~2.5 GPa).随脉冲占空比的增大,薄膜摩擦系数变化甚微而磨损率却呈现先显著减小后轻微增大的变化趋势.类石墨碳膜优异的摩擦学性能主要归因于其独特的结构、较低的内应力及良好的结构稳定性. 展开更多
关键词 磁控溅射 类石墨碳膜 微观结构 性能
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主动磁悬浮轴承系统保护轴承热特性研究及减摩设计
8
作者 李迎春 聂傲男 +3 位作者 杨明宣 朱定康 邱明 杨更生 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期646-655,共10页
针对主动磁悬浮轴承系统(AMBs)转子跌落过程中转子与保护轴承碰摩产生巨大冲击、振动和大量摩擦热,易使保护轴承失效的问题,对立式转子跌落到保护轴承过程中的热特性进行了研究,分析了转子跌落对保护轴承造成破坏的主要影响因素,进而提... 针对主动磁悬浮轴承系统(AMBs)转子跌落过程中转子与保护轴承碰摩产生巨大冲击、振动和大量摩擦热,易使保护轴承失效的问题,对立式转子跌落到保护轴承过程中的热特性进行了研究,分析了转子跌落对保护轴承造成破坏的主要影响因素,进而提出了一种采用磁控溅射技术在保护轴承关键表面沉积固体润滑薄膜(类石墨碳基薄膜,GLC)的减摩方法,并对镀膜、未镀膜的保护轴承进行了转子跌落试验。研究结果表明:跌落转速为20000 r/min时,保护轴承的最高温度为210.60℃,出现在转子与轴承内圈端面高速碰摩阶段,该温度超过了轴承钢160℃的回火温度,导致轴承烧伤而失效。在跌落试验中,镀有GLC薄膜的自润滑保护轴承试验后的沟道和端面外观明显优于未镀膜保护轴承,由碰摩发热导致的内圈端面硬度下降也较轻,质心轨迹和轴向位移更加平稳,温升更低,GLC薄膜起到了关键的自润滑和减摩功能,提高了保护轴承的使用寿命和服役可靠性,为解决主动磁悬浮轴承系统中保护轴承易失效而发生重大事故的问题提供了一种思路和方法。 展开更多
关键词 主动磁悬浮轴承系统 保护轴承 类石墨碳基薄膜 减摩
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类石墨非晶碳膜与不同硅油构建的固-油协同润滑研究 被引量:1
9
作者 何翕 庄佳伟 +3 位作者 安广萍 林燕飞 刘小强 郝俊英 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第7期758-767,共10页
硅油由于具有良好的化学稳定性、黏温特性和耐高温等性能,在机械设备的润滑方面发挥了重要作用.但是在边界润滑条件下,硅油在常见金属摩擦副界面的摩擦系数较高且造成的磨损较大,润滑效果不理想.利用类石墨非晶碳与硅油构建固-油协同润... 硅油由于具有良好的化学稳定性、黏温特性和耐高温等性能,在机械设备的润滑方面发挥了重要作用.但是在边界润滑条件下,硅油在常见金属摩擦副界面的摩擦系数较高且造成的磨损较大,润滑效果不理想.利用类石墨非晶碳与硅油构建固-油协同润滑体系,对比研究了氢离子注入改性前后的类石墨非晶碳膜(GLC)与不同基团封端硅油的固-油复合边界润滑条件下的摩擦学性能.结果表明:类石墨碳膜与硅油复合后表现出显著的固-油协同润滑效应,其摩擦系数低至0.02,磨损率低至5.3×10^(−8 )mm^(3)/(N·m).相比于注入改性的GLC膜,未改性GLC膜与含有极性基团封端的硅油复合表现出更低的摩擦系数.这可能主要源于未改性GLC膜的碳原子主要以sp^(2)杂化键存在,其π电子能够与硅油的极性基团产生偶极诱导作用,使油膜在摩擦界面吸附更为稳固.但是,注入改性的GLC膜由于力学性能的改善,其与多数类型的硅油复合后的抗磨损性能总体优于未注入的GLC膜. 展开更多
关键词 类石墨薄膜 硅油 离子注入 固-油复合润滑 边界润滑
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不同润滑环境类石墨碳膜的摩擦特性 被引量:4
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作者 马中伟 王佐平 +3 位作者 何源 张汝仙 陈分宏 陈喜锋 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第8期1368-1372,共5页
采用闭合场非平衡磁控溅射技术在渗碳淬火钢基体表面制备了类石墨碳膜,分别在无润滑、水润滑和油润滑下,用POD销–盘磨损仪研究了同质对磨(试样和对磨钢球表面均制备了类石墨碳膜)的类石墨碳膜摩擦学特性。研究表明:类石墨碳膜在不同润... 采用闭合场非平衡磁控溅射技术在渗碳淬火钢基体表面制备了类石墨碳膜,分别在无润滑、水润滑和油润滑下,用POD销–盘磨损仪研究了同质对磨(试样和对磨钢球表面均制备了类石墨碳膜)的类石墨碳膜摩擦学特性。研究表明:类石墨碳膜在不同润滑环境和线速度下有优良的耐磨、减摩性能;线速度为0.3 m/s时,干摩擦和水润滑类同质对磨的类石墨碳膜有异常磨损现象,干摩擦为微切削犁沟磨损,水润滑为片状剥落磨损。 展开更多
关键词 类石墨碳膜 闭合场非平衡磁控溅射 犁沟磨损 片状剥落磨损
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偏压对类石墨非晶碳膜结构和机械性能的影响 被引量:4
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作者 张学谦 黄美东 +1 位作者 柯培玲 汪爱英 《天津师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2013年第2期29-33,共5页
采用高功率脉冲磁控溅射法在Si和高速钢基底上制备类石墨(Graphite-like carbon,GLC)非晶碳膜,研究了基底偏压对薄膜微观结构、机械性能和摩擦学性能的影响.结果表明:随着基底偏压的增大,GLC薄膜sp2键含量先减小后增大,在基底偏压为-10... 采用高功率脉冲磁控溅射法在Si和高速钢基底上制备类石墨(Graphite-like carbon,GLC)非晶碳膜,研究了基底偏压对薄膜微观结构、机械性能和摩擦学性能的影响.结果表明:随着基底偏压的增大,GLC薄膜sp2键含量先减小后增大,在基底偏压为-100 V时达到最小值;薄膜的硬度和弹性模量先增大后减小,表面粗糙度先减小后增大;GLC薄膜的摩擦学性能与其机械性能和表面粗糙度密切相关,在基底偏压为-100 V时,薄膜的平均摩擦系数最小. 展开更多
关键词 高功率脉冲磁控溅射 类石墨非晶碳膜 基底偏压 微观结构 摩擦性能 机械性能
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掺铬类石墨碳膜的显微组织与摩擦性能 被引量:4
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作者 张永宏 蒋百灵 严少平 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2010年第5期40-45,共6页
采用非平衡磁控溅射离子镀技术在不同衬底上制备了不同铬含量的掺铬类石墨非晶碳膜;用X射线光电子能谱仪、扫描电子显微镜、高分辨透射电子显微镜和拉曼光谱仪等分析了碳膜的成分、表面形貌、显微组织和碳键结构;通过销-盘摩擦试验机测... 采用非平衡磁控溅射离子镀技术在不同衬底上制备了不同铬含量的掺铬类石墨非晶碳膜;用X射线光电子能谱仪、扫描电子显微镜、高分辨透射电子显微镜和拉曼光谱仪等分析了碳膜的成分、表面形貌、显微组织和碳键结构;通过销-盘摩擦试验机测试了碳膜在干摩擦及不同润滑条件下的摩擦因数。结果表明:适量掺铬碳膜可保持纯碳膜均一、无结晶的显微组织;掺铬对碳膜中碳元素的价键结构产生了重要影响,随着铬含量的增大,sp^2碳原子在碳膜中的含量先增大后减小,使得掺铬碳膜的sp^2碳含量比纯碳膜的更高;适量掺铬能有效降低碳膜的摩擦因数,而掺铬碳膜的摩擦因数随着铬含量增大的变化趋势与碳膜的碳键结构变化明显相关。 展开更多
关键词 非平衡磁控溅射 类石墨非晶碳膜 摩擦性能
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Superior tribological properties of an amorphous carbon film with a graphite-like structure 被引量:1
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作者 Wang Yong-Jun Li Hong-Xuan +4 位作者 Ji Li Liu Xiao-Hong Wu Yan-Xia Zhou Hui-Di Chen Jian-Min 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第1期320-328,共9页
Amorphous carbon films with high sp2 concentrations are deposited by unbalanced magnetron sputtering with a narrow range of substrate bias voltage. Field emission scanning electron microscopes (FESEMs), high resolut... Amorphous carbon films with high sp2 concentrations are deposited by unbalanced magnetron sputtering with a narrow range of substrate bias voltage. Field emission scanning electron microscopes (FESEMs), high resolution transmission electron microscopes (HRTEMs), atomic force microscopes (AFMs), the Raman spectrometers, nano- indentation, and tribometers are subsequently used to characterize the microstructures and the properties of the resulting films. It is found that the present films are dominated by the sp2 sites. However, the films demonstrate a moderate hardness together with a low internal stress. The high hardness of the deposited film originates from the crosslinking of the sp2 clusters by the sp3 sites. The presence of the graphite-like clusters in the film structure may be responsible for the low internal stress. What is more important is that the resulting films show excellent tribological properties with high load capacity and excellent wear resistance in humid atmospheres. The relationship between the microstructure determined by the deposition condition and the film characteristic is discussed in detail. 展开更多
关键词 magnetron sputtering graphite-like carbon film MICROSTRUCTURE performance
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Study on the Tribological Properties of Graphite-like Amorphous Carbon Film under Different Testing Conditions
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作者 Wang Yongjun Li Hongxuan +5 位作者 Ji Li Zhao Fei Liu Xiaohong Wu Yanxia Zhou Huidi Chen Jianmin 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第S1期359-365,共7页
Graphite-like amorphous carbon film was fabricated by unbalanced magnetron sputtering technique.Raman spectroscopy,atomic force microscopy(AFM)and tribometer were subsequently used to investigate the microstructure an... Graphite-like amorphous carbon film was fabricated by unbalanced magnetron sputtering technique.Raman spectroscopy,atomic force microscopy(AFM)and tribometer were subsequently used to investigate the microstructure and tribological properties of the resultant film.It is found that the deposited carbon film is dominated by sp 2 sites,and the intensity ratio of the D and G peaks is as high as 4.0,which is one order of magnitude larger than that of diamond-like carbon films with high sp 3 content,indicating a more graphite-like structure.However,the as-deposited carbon film exhibits moderately high hardness(13.7 GPa),low internal stress(0.38 GPa)and superior tribological properties with high load bearing capacity(Hertz contact stress about 3.2 GPa)and low wear rate(2.73×10-10 cm3/N.m)in ambient atmosphere.Although it displays a poor wear resistance in water lubricated condition,a superior wear resistance is achieved in oil lubricated condition.Its inherent physical property,the formation of transfer layer and the friction induced chemical reactions may be commonly responsible for its tribological properties. 展开更多
关键词 MAGNETRON SPUTTERING graphite-like carbon film microstructure TRIBOLOGICAL properties load BEARING capacity
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磁控溅射类石墨碳膜的导电性和耐蚀性 被引量:1
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作者 胡仁涛 陆境莲 +1 位作者 朱光明 汤皎宁 《电池》 CAS CSCD 北大核心 2019年第3期195-198,共4页
利用中频非平衡磁控溅射技术,在304不锈钢基底上沉积类石墨非晶碳膜,研究非晶碳膜的结构、形貌、导电性、耐蚀性及耐磨性。与纯304不锈钢双极板相比,镀类石墨碳膜后的不锈钢表面的导电性、耐蚀性及耐磨性均得到提高。在质子交换膜燃料电... 利用中频非平衡磁控溅射技术,在304不锈钢基底上沉积类石墨非晶碳膜,研究非晶碳膜的结构、形貌、导电性、耐蚀性及耐磨性。与纯304不锈钢双极板相比,镀类石墨碳膜后的不锈钢表面的导电性、耐蚀性及耐磨性均得到提高。在质子交换膜燃料电池(PEMFC)电堆压紧力(140 N/cm^2)下,镀类石墨碳膜后的不锈钢双极板接触电阻(9. 1 mΩ-cm^2)较低;在模拟PEMFC阴极工作环境中腐蚀电位和腐蚀电流密度分别为0. 27 V和8.72μA/cm^2,摩擦系数约0. 103,较低。 展开更多
关键词 类石墨碳膜 质子交换膜燃料电池(PEMFC) 磁控溅射 接触电阻 耐蚀性
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掺铬类石墨薄膜摩擦学性能研究 被引量:1
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作者 严少平 蒋百灵 +2 位作者 段冰 顾广颐 孙雅琴 《安徽理工大学学报(自然科学版)》 CAS 2007年第3期62-66,共5页
采用非平衡磁控溅射离子镀技术,以电流控制方式在高速钢和硅基底上制备了不同Cr含量的C/Cr类石墨薄膜,测量了类石墨膜的显微硬度、膜基结合强度、摩擦系数和比磨损率,分析了薄膜的相结构,观察了薄膜的表面和断面形貌。结果表明:... 采用非平衡磁控溅射离子镀技术,以电流控制方式在高速钢和硅基底上制备了不同Cr含量的C/Cr类石墨薄膜,测量了类石墨膜的显微硬度、膜基结合强度、摩擦系数和比磨损率,分析了薄膜的相结构,观察了薄膜的表面和断面形貌。结果表明:所制备的类石墨薄膜随Cr含量的增高,硬度逐渐降低,结合强度先增后降,摩擦系数和比磨损率则先降后升;类石墨膜是含有多种纳米晶的非晶结构;金属元素Cr含量影响了类石墨碳膜的表面形貌和组织结构。当Cr含量在0.5%~2.5%时,薄膜表面光滑而结构致密,摩擦系数小且比磨损率低,膜基结合强度高,具有良好减摩耐磨性能。 展开更多
关键词 类石墨膜 摩擦学性能 非平衡磁控溅射 显微硬度 组织结构
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类石墨非晶碳膜的结构、制备、表征及改性 被引量:1
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作者 胡仁涛 陆境莲 +1 位作者 朱光明 汤皎宁 《电池工业》 CAS 2018年第3期147-152,共6页
非晶碳是一种由sp2和sp3共同构成的无定型碳,按照杂化比例的多少可以分为类金刚石非晶碳和类石墨非晶碳。类石墨非晶碳膜是近年来发现的一种新型碳材料,其制备方法比较独特、与类金刚石碳膜有明显的区别,具有摩擦系数小、磨损率低、硬... 非晶碳是一种由sp2和sp3共同构成的无定型碳,按照杂化比例的多少可以分为类金刚石非晶碳和类石墨非晶碳。类石墨非晶碳膜是近年来发现的一种新型碳材料,其制备方法比较独特、与类金刚石碳膜有明显的区别,具有摩擦系数小、磨损率低、硬度适中、导电性好等优点,因而在机械和电子领域具有广阔的应用前景,然而目前关于类石墨非晶碳膜的报道较少。本文详细介绍了类石墨碳膜的结构和制备方法、并对其检测手段和改性研究进行了综述和介绍,为广大科研工作者提供了指导。 展开更多
关键词 类石墨非晶碳膜 结构 制备 表征 改性
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类石墨桥膜的发火可靠性研究 被引量:1
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作者 李东奇 沈李啸 +1 位作者 陈岱松 朱顺官 《爆破器材》 CAS 北大核心 2020年第6期15-19,共5页
以相同工艺制作类石墨桥膜点火桥,对其进行蘸药等处理,形成点火头结构;升降法试验得到不同激发条件下50%发火时的电流或电压,并验证其发火可靠性;测试点火头的响应状态,得到裸桥状态下类石墨桥膜对不同能量输入的响应。以相同方式制作... 以相同工艺制作类石墨桥膜点火桥,对其进行蘸药等处理,形成点火头结构;升降法试验得到不同激发条件下50%发火时的电流或电压,并验证其发火可靠性;测试点火头的响应状态,得到裸桥状态下类石墨桥膜对不同能量输入的响应。以相同方式制作桥丝式点火头,得到发火参数与电压、电流特性。涂覆有150目下叠氮肼镍(NHA)的类石墨桥膜,99%恒流发火电流为325.65 mA;99%恒压发火电压为2.43 V;在电容47μF条件下99%脉冲发火电压为10.45 V。同样蘸药的桥丝式点火头,99%恒流发火电流为89.61 mA;在电容47μF条件下99%脉冲发火电压为4.72 V。对比发现,类石墨桥膜点火头在使用钝感药剂时可满足0.99(0.90置信度下)可靠度要求。 展开更多
关键词 换能元 类石墨桥膜 叠氮肼镍(NHA) 发火特性 可靠性研究
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铜基体上类石墨膜结合强度评价及其与干摩擦性能关系
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作者 陈垚 丁兰 +2 位作者 李红伟 林基辉 鲍明东 《热加工工艺》 北大核心 2019年第6期151-155,160,共6页
用非平衡磁控溅射离子镀技术在铜合金上制备了不同Ti含量的类石墨碳膜,用维氏压入、洛氏压入、划痕等方法测试薄膜的附着性能,用高速线性往复磨损实验机检测薄膜的干磨性能,并用光学显微镜、白光干涉仪观察磨痕。结果表明:压痕法更适合... 用非平衡磁控溅射离子镀技术在铜合金上制备了不同Ti含量的类石墨碳膜,用维氏压入、洛氏压入、划痕等方法测试薄膜的附着性能,用高速线性往复磨损实验机检测薄膜的干磨性能,并用光学显微镜、白光干涉仪观察磨痕。结果表明:压痕法更适合评价软基体上硬膜的结合强度,且维氏压入法因加载载荷较小,基体塑性变形小,评定的结合强度与干摩擦磨损时膜基体系的耐磨性具有对应关系。当靶电流为0.2 A时,铜合金上的类石墨膜与对磨球的摩擦系数和磨损率达最小值,分别为0.14和2.89×10^(-16)m^3/(N·m)。划痕法不适合用来快速评定和预测软基硬膜体系的结合强度。载荷较小的维氏压入法具有更好的结合强度鉴别区分度。 展开更多
关键词 铜合金 类石墨碳膜 附着性能 干磨 磨损率
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乏油环境下不同掺杂GLC膜的摩擦学行为
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作者 李迎春 邹春生 +2 位作者 邱明 庞晓旭 程蓓 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第20期2431-2438,共8页
利用磁控溅射技术制备了类石墨碳膜(GLC)、掺杂金属Cr的类石墨碳膜(GLC/Cr)及掺杂WC的类石墨碳膜(GLC/WC),考察了不同掺杂物对薄膜结构及其在乏油环境下摩擦学性能的影响。结果表明:掺杂Cr、WC使GLC薄膜中sp^2键结构含量增加,促进了GLC... 利用磁控溅射技术制备了类石墨碳膜(GLC)、掺杂金属Cr的类石墨碳膜(GLC/Cr)及掺杂WC的类石墨碳膜(GLC/WC),考察了不同掺杂物对薄膜结构及其在乏油环境下摩擦学性能的影响。结果表明:掺杂Cr、WC使GLC薄膜中sp^2键结构含量增加,促进了GLC膜的石墨化,降低了GLC薄膜的硬度及弹性模量;在乏油环境下,3种薄膜的摩擦因数相差不大,但表现出不同的抗磨损能力,其磨损寿命由高到低依次是GLC/Cr、GLC、GLC/WC。研究结果为提高航空发动机主轴轴承在超常工况下的寿命和可靠性提供了理论和试验依据。 展开更多
关键词 磁控溅射 类石墨碳膜 乏油 摩擦学性能
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