期刊文献+
共找到52篇文章
< 1 2 3 >
每页显示 20 50 100
ZnO薄膜p型转变的难点及解决新方法 被引量:2
1
作者 曾昱嘉 叶志镇 +3 位作者 袁国栋 黄靖云 赵炳辉 朱丽萍 《材料导报》 EI CAS CSCD 2004年第1期69-71,79,共4页
论述了ZnO薄膜p型转变的难点及其解决方法的最新研究进展,并讨论了Al+N+H共掺杂生长p-ZnO膜的掺杂机制,提出多层缓冲层生长工艺以实现p-ZnO薄膜的可控掺杂,进而优化薄膜性能。
关键词 zno薄膜 p型转变 掺杂机制 氧化锌 载流子迁移率 半导体
下载PDF
在Si(100)上以AlN作过渡层低温外延生长ZnO薄膜 被引量:4
2
作者 孙林林 刘宏玉 +2 位作者 程文娟 马学鸣 石旺舟 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第6期1132-1136,共5页
采用脉冲激光沉积(PLD)方法在S i(100)上成功生长了高度c轴取向的A lN薄膜,并以此为衬底,实现了ZnO薄膜的低温准外延生长。通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及荧光分光光度计表征ZnO薄膜的结构、表面形貌和发光性能。结果表明,... 采用脉冲激光沉积(PLD)方法在S i(100)上成功生长了高度c轴取向的A lN薄膜,并以此为衬底,实现了ZnO薄膜的低温准外延生长。通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及荧光分光光度计表征ZnO薄膜的结构、表面形貌和发光性能。结果表明,ZnO薄膜能在A lN过渡层上沿c轴准外延生长,采用A lN过渡层后,其荧光强度也有大幅提高。 展开更多
关键词 氧化锌薄膜 外延生长 过渡层 光致发光
下载PDF
Fabrication of ZnO films by radio frequency magnetron sputtering and annealing 被引量:3
3
作者 GAO Haiyong ZHUANG Huizhao XUE Chengshan WANG Shuyun DONG Zhihua HE Jianting 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2005年第3期267-271,共5页
ZnO thin films were deposited on Si(111) substrates through a radio frequency (rf) magnetron sputtering system. Then the samples were annealed at different temperatures in air ambience and ammonia ambience respect... ZnO thin films were deposited on Si(111) substrates through a radio frequency (rf) magnetron sputtering system. Then the samples were annealed at different temperatures in air ambience and ammonia ambience respectively. The structure and composition of the ZnO films were studied by X-ray diffraction (XRD) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The morphology of the samples was studied by scanning electron microscopy (SEM). Measured results show that ZnO films with hexagonal wurtzite structure were grown on Si(111) substrates when annealed in the two ambiences. The volatilization process of ZnO in the ammonia ambience at high temperature was discussed and the mechanism of the reaction was analyzed. 展开更多
关键词 zno films radio frequency magnetron sputtering ANNEALING ammonia ambience buffer layers
下载PDF
Si基ZnO/Ga_2O_3氨化反应制备GaN薄膜 被引量:1
4
作者 庄惠照 高海永 +2 位作者 薛成山 王书运 董志华 《微细加工技术》 2004年第2期37-41,共5页
利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上先溅射ZnO缓冲层,接着溅射Ga_2O_3薄膜,然后ZnO/Ga_2O_3膜在开管炉中850℃常压下通氨气进行氨化,反应自组装生成GaN薄膜。XRD测量结果表明利用该方法制备的GaN薄膜是沿c轴方向择优生长的六角纤锌矿多... 利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上先溅射ZnO缓冲层,接着溅射Ga_2O_3薄膜,然后ZnO/Ga_2O_3膜在开管炉中850℃常压下通氨气进行氨化,反应自组装生成GaN薄膜。XRD测量结果表明利用该方法制备的GaN薄膜是沿c轴方向择优生长的六角纤锌矿多晶结构的薄膜,利用傅里叶红外吸收光谱仪测量了薄膜的红外吸收谱,利用SEM和TEM观测了薄膜形貌,PL测量结果发现了位于350nm和421nm处的室温光致发光峰。 展开更多
关键词 Ga2O3薄膜 zno缓冲层 氨化 自组装 射频磁控溅射
下载PDF
Structural and opto-electrical properties of pyrolized ZnO-CdO crystalline thin films 被引量:1
5
作者 A.M.M.Tanveer Karim M.K.R.Khan M.Mozibur Rahman 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2015年第5期1-7,共7页
A series of ZnO-CdO thin films of different molar ratios of Zn and Cd have been deposited on glass sub- strate at substrate temperature -360℃ by the spray pyrolysis technique at an ambient atmosphere. X-ray diffracti... A series of ZnO-CdO thin films of different molar ratios of Zn and Cd have been deposited on glass sub- strate at substrate temperature -360℃ by the spray pyrolysis technique at an ambient atmosphere. X-ray diffraction (XRD) studies confirmed the polycrystalline nature of the film and modulated crystal structures ofwurtzite (ZnO) and cubic (CdO) are formed. The evaluated lattice parameters, and crystallite size are consistent with literature. Dislocation density and strain increased in the film as the grain sizes of ZnO and CdO are decreased. The band gap energy varies from 3.20 to 2.21 eV depending on the Zn/Cd ratios in the film. An incident photon intensity dependent I-V study confirmed that the films are highly photosensitive. Current increased with the increase of the intensity of the light beam. The optical conductivity and the optical constants, such as extinction coefficient, refractive index and complex dielectric constants are evaluated from transmittance and reflectance spectra of the films and these parameters are found to be sensitive to photon energy and displayed intermediate optical properties between ZnO and CdO, making it preferable for applications as the buffer and window layers in solar cells. 展开更多
关键词 zno-CdO buffer layers XRD spray pyrolysis
原文传递
氮化Si基ZnO/Ga_2O_3制备GaN薄膜 被引量:1
6
作者 高海永 庄惠照 +3 位作者 薛成山 王书运 董志华 李忠 《微纳电子技术》 CAS 2004年第6期26-29,共4页
利用射频磁控溅射法在Si衬底上先溅射ZnO缓冲层,接着溅射Ga2O3薄膜,然后ZnO/Ga2O3膜在管式炉中常压下通氨气进行氮化,反应自组生成GaN薄膜。XRD测量结果表明,利用该方法制备的GaN薄膜是沿c轴方向择优生长的六角纤锌矿多晶结构的薄膜,利... 利用射频磁控溅射法在Si衬底上先溅射ZnO缓冲层,接着溅射Ga2O3薄膜,然后ZnO/Ga2O3膜在管式炉中常压下通氨气进行氮化,反应自组生成GaN薄膜。XRD测量结果表明,利用该方法制备的GaN薄膜是沿c轴方向择优生长的六角纤锌矿多晶结构的薄膜,利用SEM观测了其表面形貌,PL测量结果发现了位于351nm处的室温光致发光峰。 展开更多
关键词 GAN薄膜 射频磁控溅射 zno缓冲层 Ga2O3薄膜 氮化
下载PDF
退火温度和ZnO缓冲层对氨化Ga_2O_3/ZnO薄膜合成GaN纳米结构的影响 被引量:1
7
作者 王书运 庄惠照 高海永 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期568-570,591,共4页
利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上先溅射ZnO缓冲层,再溅射Ga2O3薄膜,然后在开管炉中不同温度下通氨气进行氨化反应生长GaN薄膜。分析结果表明,利用该方法制备的GaN薄膜是六角纤锌矿多晶结构,并且随着氨化温度的升高,GaN薄膜向棒状和... 利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上先溅射ZnO缓冲层,再溅射Ga2O3薄膜,然后在开管炉中不同温度下通氨气进行氨化反应生长GaN薄膜。分析结果表明,利用该方法制备的GaN薄膜是六角纤锌矿多晶结构,并且随着氨化温度的升高,GaN薄膜向棒状和线状形态转变。同时分析了ZnO缓冲层对形成GaN纳米结构的影响。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 GAN薄膜 zno缓冲层 氨化反应
下载PDF
Si基ZnO缓冲层溅射Ga_2O_3氨化反应生长GaN薄膜
8
作者 王书运 庄惠照 高海永 《理化检验(物理分册)》 CAS 2005年第9期456-459,共4页
利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上先溅射ZnO缓冲层,再溅射Ga2O3薄膜,然后在开管炉中分别以850℃,900℃,950℃和1 000℃等温度及常压下通氨气进行氨化,反应生长GaN薄膜。利用该方法制备的GaN薄膜是沿c轴方向择优生长的六角纤锌矿多晶结... 利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上先溅射ZnO缓冲层,再溅射Ga2O3薄膜,然后在开管炉中分别以850℃,900℃,950℃和1 000℃等温度及常压下通氨气进行氨化,反应生长GaN薄膜。利用该方法制备的GaN薄膜是沿c轴方向择优生长的六角纤锌矿多晶结构,并且随着氨化温度的升高,GaN向棒状和线状形态生长。 展开更多
关键词 Ga2O3薄膜 zno缓冲层 氨化 射频磁控溅射 扫描电镜 透射电镜
下载PDF
缓冲层和退火气氛对Cu掺杂ZnO薄膜稀磁性的影响
9
作者 郝嘉伟 赵鹤平 +1 位作者 肖立娟 李长山 《磁性材料及器件》 北大核心 2014年第4期11-14,40,共5页
采用直流与射频双靶共溅射的方法在石英衬底上制备Cu掺杂的ZnO薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、霍尔测试仪(HALL8800)以及超导量子干涉仪(SQUID)分别对样品的结构、表面形貌、电学特性和磁性进行表征,研究了AZO缓冲层... 采用直流与射频双靶共溅射的方法在石英衬底上制备Cu掺杂的ZnO薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、霍尔测试仪(HALL8800)以及超导量子干涉仪(SQUID)分别对样品的结构、表面形貌、电学特性和磁性进行表征,研究了AZO缓冲层以及不同气氛下退火处理对薄膜磁性的影响。结果表明,加入缓冲层的样品结晶质量有所改善,但不利于磁性的产生;空气退火使样品中氧空位大量减少,同时磁性减弱;真空退火使样品中氧空位得以保留,磁性增强,氧空位缺陷对磁性的产生有很大贡献。样品中载流子浓度不高,电阻率较大,载流子浓度对样品磁性的影响不明显。 展开更多
关键词 稀磁半导体 zno薄膜 CU掺杂 缓冲层 退火
下载PDF
一维GaN纳米结构的制备、表征及其特性研究
10
作者 薛守斌 张兴 +1 位作者 庄惠照 薛成山 《德州学院学报》 2008年第4期36-40,53,共6页
采用在石英炉中,氨化Ga2O3薄膜的方法,在Si(111)衬底上成功了制备GaN纳米结构薄膜:纳米线、纳米棒.分别用X射线衍射仪(XRD,Rigaku D/Max-rB Cu Kα)、傅立叶红外透射谱(FTIR,TENSOR27)、扫描电子显微镜(SEM,Hitachi S-570)、高分辨电镜(... 采用在石英炉中,氨化Ga2O3薄膜的方法,在Si(111)衬底上成功了制备GaN纳米结构薄膜:纳米线、纳米棒.分别用X射线衍射仪(XRD,Rigaku D/Max-rB Cu Kα)、傅立叶红外透射谱(FTIR,TENSOR27)、扫描电子显微镜(SEM,Hitachi S-570)、高分辨电镜(HRTEM,Philips TECNAI F30)和光致发光谱对样品的结构、成分、形貌和光学特性进行了测量分析.最后,简要的讨论了其生长机制. 展开更多
关键词 一维GaN纳米结构 zno缓冲层 磁控溅射
下载PDF
Cu_2O/ZnO氧化物异质结太阳电池的研究进展 被引量:7
11
作者 陈新亮 陈莉 +2 位作者 周忠信 赵颖 张晓丹 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第11期22-32,共11页
介绍了近年来低成本Cu_2O/ZnO氧化物异质结太阳电池方面的研究进展.应用于光伏器件的吸收层材料Cu_2O是直接带隙半导体材料,天然呈现p型;其原材料丰富,且对环境友好.Cu_2O/ZnO异质结太阳电池结构主要有平面结构和纳米线/纳米棒结构.纳... 介绍了近年来低成本Cu_2O/ZnO氧化物异质结太阳电池方面的研究进展.应用于光伏器件的吸收层材料Cu_2O是直接带隙半导体材料,天然呈现p型;其原材料丰富,且对环境友好.Cu_2O/ZnO异质结太阳电池结构主要有平面结构和纳米线/纳米棒结构.纳米结构的Cu_2O太阳电池提高了器件的电荷收集作用;通过热氧化Cu片技术获得的具有大晶粒尺寸平面结构Cu_2O吸收层在Cu_2O/ZnO太阳电池应用中展现出了高质量特性.界面缓冲层(如i-ZnO,a-ZTO,Ga_2O_3等)和背表面电场(如p^+-Cu_2O层等)可有效地提高界面处能级匹配和增强载流子输运.10 nm厚度的Ga_2O_3提供了近理想的导带失配,减少了界面复合;Ga_2O_3非常适合作为界面层,其能够有效地提高Cu_2O基太阳电池的开路电压V_(oc)(可达到1.2 V)和光电转换效率.p^+-Cu_2O(如Cu_2O:N和Cu_2O:Na)能够减少器件中背接触电阻和形成电子反射的背表面电场(抑制电子在界面处复合).利用p型Na掺杂Cu_2O(Cu_2O:Na)作为吸收层和Zn_(1-x)Ge_x-O作为n型缓冲层,Cu_2O异质结太阳电池(器件结构:MgF_2/ZnO:Al/Zn_(0.38)Ge_(0.62)-O/Cu_2O:Na)光电转换效率达8.1%.氧化物异质结太阳电池在光伏领域展现出极大的发展潜力. 展开更多
关键词 Cu2O/zno 缓冲层 异质结 太阳电池
下载PDF
ZnO薄膜的晶体性能的分析 被引量:6
12
作者 李剑光 汪雷 +2 位作者 叶志镇 赵炳辉 袁骏 《真空科学与技术》 EI CSCD 北大核心 1999年第5期349-352,共4页
在硅基上制备出了c轴取向高度一致的ZnO薄膜 ,这将有可能成为新型GaN单晶薄膜的过渡层。对ZnO薄膜的晶体性能进行了分析 ,研究不同衬底和不同衬底温度对ZnO薄膜的结晶状况的影响 ,并着重用TEM研究了硅基ZnO薄膜的晶体性能。
关键词 晶体 性能 过渡层 氧化锌 薄膜
下载PDF
制备高质量ZnO光电薄膜的关键技术 被引量:6
13
作者 丁瑞钦 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2005年第12期46-49,共4页
提高ZnO薄膜的质量,使之适应制备光电器件的要求,是目前ZnO薄膜研究的一个主要问题。在对近年来人们在ZnO薄膜的制备上所作的工作进行调研的基础上,总结出对提高薄膜的质量有普遍参考价值的三种关键技术:“缓冲层”,“氢钝化”和“表面... 提高ZnO薄膜的质量,使之适应制备光电器件的要求,是目前ZnO薄膜研究的一个主要问题。在对近年来人们在ZnO薄膜的制备上所作的工作进行调研的基础上,总结出对提高薄膜的质量有普遍参考价值的三种关键技术:“缓冲层”,“氢钝化”和“表面化学处理”。对三种关键技术的主要内容,及其在提高薄膜结晶质量与光电性能方面的效果和物理机制,作了较详细的介绍。并对这些技术提出了自己的一些见解。 展开更多
关键词 电子技术 zno薄膜 综述 缓冲层 氢钝化 表面化学处理
下载PDF
ZnO空穴缓冲层对OLED性能的影响 被引量:4
14
作者 贾许望 关云霞 +3 位作者 牛连斌 黄琳琳 刘德江 傅小强 《重庆师范大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2012年第2期72-76,共5页
本文利用无机材料ZnO作为空穴缓冲层,制备了结构为ITO/ZnO/NPB/Alq3/Al的有机电致发光器件。用计算机控制的KEITHLEY2400-PR655系统测量器件的电压-电流-亮度特性。研究结果表明,当ZnO薄膜的厚度为2 nm时,器件的电流效率可达1.65 cd/A,... 本文利用无机材料ZnO作为空穴缓冲层,制备了结构为ITO/ZnO/NPB/Alq3/Al的有机电致发光器件。用计算机控制的KEITHLEY2400-PR655系统测量器件的电压-电流-亮度特性。研究结果表明,当ZnO薄膜的厚度为2 nm时,器件的电流效率可达1.65 cd/A,最大亮度为3 449 cd/m2;而没有加入缓冲层的同类器件,最大亮度仅为869.7 cd/m2,最大电流效率为0.46 cd/A。由此可以看出,加入ZnO空穴缓冲层后,最大亮度提高3.97倍,最大电流效率提高3.59倍。分析认为适当厚度的ZnO薄膜降低了发光层空穴的浓度,提高了电子和空穴的复合率,从而降低了电流密度,提高了器件的电流效率,改善了器件性能。 展开更多
关键词 有机电致发光器件 修饰层 zno
原文传递
ZnO纳米结构的电化学法可控生长及其机理 被引量:1
15
作者 李金钗 朱昱 +1 位作者 卢红兵 田玉 《武汉大学学报(理学版)》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期337-341,共5页
以溶胶-凝胶法制备c轴取向为主的ZnO薄膜作缓冲层,采用阴极电化学沉积技术制备高c轴取向ZnO纳米结构.在0.7 mA/cm^2的恒定电流密度下生长出直径约50 nm、密度为2.5×107 mm^-2的垂直向上的ZnO纳米杆阵列,通过逐渐增大电流密度(0.4... 以溶胶-凝胶法制备c轴取向为主的ZnO薄膜作缓冲层,采用阴极电化学沉积技术制备高c轴取向ZnO纳米结构.在0.7 mA/cm^2的恒定电流密度下生长出直径约50 nm、密度为2.5×107 mm^-2的垂直向上的ZnO纳米杆阵列,通过逐渐增大电流密度(0.4~0.9 mA/cm^2)或逐渐减小电流密度(0.9~0.4 mA/cm^2)分别研制出直径逐渐变小或变大的纳米杆阵列,实现了纳米杆形貌、尺寸的可控生长.c轴择优取向的同质ZnO缓冲层既为纳米杆的定向生长提供了形核中心又减小了纳米杆的晶格失配度,有ZnO缓冲层样品的强紫外光发射和较弱的与缺陷相关的可见光发射的光致发光结果证实了缓冲层对提高样品晶体质量的重要作用. 展开更多
关键词 zno纳米杆 可控生长 电化学沉积 缓冲层
下载PDF
ZnO缓冲层上低温生长Al掺杂的ZnO薄膜 被引量:2
16
作者 马李刚 马书懿 +1 位作者 陈海霞 黄新丽 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第8期1516-1519,共4页
采用射频磁控溅射法在ZnO缓冲层上制备了不同Al掺杂量的ZnO(AZO)薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和光致发光(PL)等表征技术,研究了AZO薄膜的微观结构、表面形貌和发光特性。结果表明,随着Al掺杂量的增加,ZnO薄膜的择优... 采用射频磁控溅射法在ZnO缓冲层上制备了不同Al掺杂量的ZnO(AZO)薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和光致发光(PL)等表征技术,研究了AZO薄膜的微观结构、表面形貌和发光特性。结果表明,随着Al掺杂量的增加,ZnO薄膜的择优取向性发生了改变,且当Al的掺杂量为0.81%(原子分数)时,(002)衍射峰与其它衍射峰强度的比值达到最大,表明适合的Al掺杂使ZnO薄膜的择优取向性得到了改善。在可见光范围内薄膜的平均透过率超过70%。通过对样品光致发光(PL)谱的研究,发现所有样品出现了3个发光峰,分别对应于以444nm(2.80eV)、483nm(2.57eV)为中心的蓝光发光峰和以521nm(2.38eV)为中心较弱的绿光峰。并对样品的发光机理进行了详细的探讨。 展开更多
关键词 磁控溅射法 zno缓冲层 Al掺杂zno薄膜 XRD 光致发光
下载PDF
以ZnO为缓冲层制备硅基氮化镓薄膜 被引量:3
17
作者 何建廷 宿元斌 +1 位作者 杨淑连 卢恒炜 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第A01期162-164,共3页
用脉冲激光沉积法(PLD)先在600℃的Si(111)衬底上沉积ZnO薄膜,然后用磁控溅射法再沉积GaN薄膜。直接沉积得到的GaN薄膜是非晶结构,将样品在氨气氛围中在850、900、950℃下退火15min得到结晶的GaN薄膜。用X射线衍射(XRD)、傅立叶红外吸收... 用脉冲激光沉积法(PLD)先在600℃的Si(111)衬底上沉积ZnO薄膜,然后用磁控溅射法再沉积GaN薄膜。直接沉积得到的GaN薄膜是非晶结构,将样品在氨气氛围中在850、900、950℃下退火15min得到结晶的GaN薄膜。用X射线衍射(XRD)、傅立叶红外吸收谱(FTIR)、光致发光谱(PL)和扫描电子显微镜(SEM)研究了ZnO缓冲层对GaN薄膜的结晶和形貌的影响。 展开更多
关键词 zno缓冲层 GAN薄膜 退火 结晶
下载PDF
ZnO缓冲层厚度对Al掺杂ZnO薄膜性能的影响 被引量:3
18
作者 马书懿 马李刚 +1 位作者 艾小倩 黄新丽 《西北师范大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2011年第6期20-24,共5页
采用射频磁控溅射法在不同厚度的ZnO缓冲层上制备了Al掺杂ZnO(AZO)薄膜.利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV-VIS)和荧光分光光度计(PL)等表征技术,研究了AZO薄膜的微观结构、表面形貌和发光特性.XRD分析... 采用射频磁控溅射法在不同厚度的ZnO缓冲层上制备了Al掺杂ZnO(AZO)薄膜.利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV-VIS)和荧光分光光度计(PL)等表征技术,研究了AZO薄膜的微观结构、表面形貌和发光特性.XRD分析结果表明,加入适当厚度的ZnO缓冲层后可有效地降低晶格失配和因热膨胀系数不同引起的晶格畸变.薄膜在可见光范围内的透射率随着缓冲层厚度的增加先增大后降低,平均透过率超过80%.通过对样品光致发光(PL)谱的研究发现ZnO缓冲层样品在室温下的光致发光峰有了明显增高.这说明利用低温缓冲层生长的AZO薄膜的结晶质量和光学性质都得到了明显改善. 展开更多
关键词 磁控溅射法 zno缓冲层 AZO薄膜 XRD 光致发光
下载PDF
掺杂ZnO薄膜作为电子传输层的高效聚合物光伏电池研究 被引量:1
19
作者 王传坤 李萌 +1 位作者 马恒 张星 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2020年第4期60-63,72,共5页
采用Al或Mg掺杂ZnO作为电子传输层层,制备了基于P3HT∶PCBM的聚合物太阳能电池(PSCs)。采用原子力显微镜和紫外-可见分光光度计研究了Al、Mg浓度对传输层表面形貌和光学性能的影响。结果表明:Al或Mg掺杂浓度对器件的性能有一定的影响。... 采用Al或Mg掺杂ZnO作为电子传输层层,制备了基于P3HT∶PCBM的聚合物太阳能电池(PSCs)。采用原子力显微镜和紫外-可见分光光度计研究了Al、Mg浓度对传输层表面形貌和光学性能的影响。结果表明:Al或Mg掺杂浓度对器件的性能有一定的影响。掺杂质量为3%的Al掺杂ZnO层太阳能电池光电转化效率最高为1.96%。通过Al或Mg掺杂ZnO层作为电子传输层太阳能电池性能的研究,结果表明器件性能与活性层与电子传输层界面材料粗糙度有关。 展开更多
关键词 聚合物太阳能电池 铝掺杂zno 镁掺杂zno 阴极缓冲层
下载PDF
ZnO缓冲层对Mg_(0.3)Zn_(0.7)O紫外探测器的影响 被引量:2
20
作者 黄志娟 喻志农 +3 位作者 杨伟声 李言 苏秉华 薛唯 《半导体光电》 CAS 北大核心 2018年第3期322-325,共4页
利用溶胶-凝胶法制备了Mg_(0.3)Zn_(0.7)O薄膜,并制作了金属-半导体-金属结构的深紫外探测器。研究了高质量ZnO缓冲层的引入对Mg_(0.3)Zn_(0.7)O薄膜的吸收谱和结晶特性以及Mg_(0.3)Zn_(0.7)O紫外探测器响应参数的影响。实验结果表明:Zn... 利用溶胶-凝胶法制备了Mg_(0.3)Zn_(0.7)O薄膜,并制作了金属-半导体-金属结构的深紫外探测器。研究了高质量ZnO缓冲层的引入对Mg_(0.3)Zn_(0.7)O薄膜的吸收谱和结晶特性以及Mg_(0.3)Zn_(0.7)O紫外探测器响应参数的影响。实验结果表明:ZnO缓冲层的引入使Mg_(0.3)Zn_(0.7)O薄膜的紫外-可见光吸收谱有轻微的红移,但可以明显提高薄膜的结晶质量,同时ZnO/Mg_(0.3)Zn_(0.7)O探测器的I-V特性表明,ZnO缓冲层的引入可以显著提高器件的光电流,改善其响应特性,在20V偏压下将Mg_(0.3)Zn_(0.7)O探测器的响应度由0.035A/W提高至0.63A/W。 展开更多
关键词 zno缓冲层 Mg0.3Zn0.7O 溶胶-凝胶法 紫外探测器 光响应特性
下载PDF
上一页 1 2 3 下一页 到第
使用帮助 返回顶部