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大功率倒装结构LED芯片热模拟及热分析 被引量:12
1
作者 王立彬 陈宇 +4 位作者 刘志强 伊晓燕 马龙 潘领峰 王良臣 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期769-773,共5页
对功率型倒装结构发光二极管(LED)温度场分布进行了有限元模拟,与实测结果进行了比较,并结合传热学基本原理对模拟结果进行了分析。结果表明,凸点的形状及分布与芯片内部温差有着密切的关系,蓝宝石的厚度对芯片内部温差也有一定的影响... 对功率型倒装结构发光二极管(LED)温度场分布进行了有限元模拟,与实测结果进行了比较,并结合传热学基本原理对模拟结果进行了分析。结果表明,凸点的形状及分布与芯片内部温差有着密切的关系,蓝宝石的厚度对芯片内部温差也有一定的影响。同时,对倒装结构与正装结构的热阻进行了比较。 展开更多
关键词 gan LED 热模拟 有限元 倒装结构
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GaN基倒装焊LED芯片的光提取效率模拟与分析 被引量:9
2
作者 钟广明 杜晓晴 田健 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第8期773-778,共6页
采用蒙特卡罗光线追踪方法,模拟GaN基倒装LED芯片的光提取效率,比较了蓝宝石衬底剥离前后、蓝宝石单面粗化和双面粗化、有无缓冲层下LED光提取效率的变化,并对粗化微元结构和尺寸作了进一步选取与优化。研究结果表明:采用较厚的蓝宝石... 采用蒙特卡罗光线追踪方法,模拟GaN基倒装LED芯片的光提取效率,比较了蓝宝石衬底剥离前后、蓝宝石单面粗化和双面粗化、有无缓冲层下LED光提取效率的变化,并对粗化微元结构和尺寸作了进一步选取与优化。研究结果表明:采用较厚的蓝宝石衬底和引入AlN缓冲层均有利于LED光提取效率的提高;蓝宝石衬底双面粗化对提高光提取效率的效果要明显好于单面粗化;表面粗化的结构和尺寸对光提取效率有较大影响,当微元特征尺寸与微元间距相当时,光提取效率较高。 展开更多
关键词 gan基倒装LED 光提取效率 光线追踪 双面粗化 ALN缓冲层
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高热流密度功放芯片冷却用两相流技术研究 被引量:9
3
作者 孔祥举 李力 +3 位作者 钱吉裕 梅源 张梁娟 孙华冬 《电子机械工程》 2016年第4期16-19,61,共5页
功放芯片是现代雷达和电子战设备最重要的发热器件,其中Ga N芯片在T/R组件中得到了越来越广泛的应用。文中针对Ga N芯片热耗大、热流密度高等特点,探讨了从两相流冷却技术角度解决散热问题的工程可行性。分析了两相流冷却原理,提出了用... 功放芯片是现代雷达和电子战设备最重要的发热器件,其中Ga N芯片在T/R组件中得到了越来越广泛的应用。文中针对Ga N芯片热耗大、热流密度高等特点,探讨了从两相流冷却技术角度解决散热问题的工程可行性。分析了两相流冷却原理,提出了用菱形肋微通道冷板来强化对流沸腾换热的方法,并搭建了试验系统对散热性能进行了测试。试验结果证明了两相流冷却技术应用于高热流密度功放芯片散热的有效性和可行性,为未来高热流密度功放芯片的散热提供了可行的解决方案。 展开更多
关键词 gan芯片 高热流密度 两相流冷却
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超高导热金刚石铜复合材料在GaN器件中的应用 被引量:7
4
作者 季兴桥 来晋明 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2017年第4期310-314,共5页
金刚石铜具有高导热率和低膨胀系数,可用于大功率芯片的散热热沉。未做处理的金刚石表面非常光滑,不易附着其他金属,由于金刚石性质非常稳定,不容易被强酸和强碱进行表面处理。采用JG-01金刚石铜粗化处理液对金刚石进行粗化处理,而对铜... 金刚石铜具有高导热率和低膨胀系数,可用于大功率芯片的散热热沉。未做处理的金刚石表面非常光滑,不易附着其他金属,由于金刚石性质非常稳定,不容易被强酸和强碱进行表面处理。采用JG-01金刚石铜粗化处理液对金刚石进行粗化处理,而对铜无损伤,提升了金刚石表面结合力。金刚石铜镀层对金锡(AuSn)和锡铅(PbSn)焊料的润湿性满足GJB548B-2005要求。GaN功率放大器芯片采用金刚石铜热沉比铜钼铜热沉结温可以降低12℃。金刚石铜载板镀层润湿性良好,焊接后芯片底部的空洞率不大于3%,热沉焊接后空洞率不大于5%,满足高功率芯片散热要求。按照产品环境适应要求,对GaN功率放大器做了高低温冲击和机械振动两种环境筛选实验,最终满足可靠性考核要求。 展开更多
关键词 金刚石铜 gan芯片 镀涂 热沉 散热
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氮化镓晶片的CMP技术现状与趋势 被引量:6
5
作者 熊朋 王铮 +2 位作者 陈威 史霄 杨师 《电子工业专用设备》 2016年第1期10-14,共5页
综述了半导体材料氮化镓(Ga N)抛光技术的发展,介绍了Ga N晶片化学机械平坦化(Chemical Mechanical Planarization,CMP)技术的研究现状,分析了CMP的原理和工艺参数对抛光的影响,指出了CMP亟待解决的技术和理论问题,并对其发展方向进行... 综述了半导体材料氮化镓(Ga N)抛光技术的发展,介绍了Ga N晶片化学机械平坦化(Chemical Mechanical Planarization,CMP)技术的研究现状,分析了CMP的原理和工艺参数对抛光的影响,指出了CMP亟待解决的技术和理论问题,并对其发展方向进行了展望。 展开更多
关键词 gan晶片 化学机械抛光 抛光工艺
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GaN晶片的CMP加工工艺研究 被引量:5
6
作者 孙强 吴健 李伟 《轻工机械》 CAS 2011年第5期48-51,56,共5页
研究了GaN晶片的化学机械抛光(CMP)工艺,分析了在CMP加工工艺过程中对GaN晶片表面质量所产生的影响。实验采用质量分数30%的H2O2溶液与铁经过Fenton化学反应20 min后作为抛光液,并分别利用2种不同磨粒粒度W5和W0.5对晶片表面抛光,对不... 研究了GaN晶片的化学机械抛光(CMP)工艺,分析了在CMP加工工艺过程中对GaN晶片表面质量所产生的影响。实验采用质量分数30%的H2O2溶液与铁经过Fenton化学反应20 min后作为抛光液,并分别利用2种不同磨粒粒度W5和W0.5对晶片表面抛光,对不同工艺参数加工后的晶片表面进行测试分析,并推测加工过程中晶片表面可能发生的化学反应。 展开更多
关键词 化学机械抛光 gan晶片 FENTON反应
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某功放模块散热冷板设计与仿真分析 被引量:3
7
作者 田野 王成非 +1 位作者 范鹏杰 方堃 《机电工程技术》 2022年第10期178-181,共4页
针对某型设备功率放大模块高功耗散热需求,尤其是其中发热量较大的GaN芯片散热需求,设计一款散热冷板。其中单个功放模块热量1080 W,冷板散热量2160 W,根据设备的散热需求进行理论计算,确定液冷板需求的流量。然后结合热仿真软件FloEFD... 针对某型设备功率放大模块高功耗散热需求,尤其是其中发热量较大的GaN芯片散热需求,设计一款散热冷板。其中单个功放模块热量1080 W,冷板散热量2160 W,根据设备的散热需求进行理论计算,确定液冷板需求的流量。然后结合热仿真软件FloEFD对冷板进行结构设计及整体方案的优化设计,通过优化冷板流道、去掉原有功放模块外壳,内部器件直接贴装在散热冷板表面,减小垂向热传导距离、减少转接面层数增强冷板散热能力。优化前后热仿真对比,功放芯片节温从280℃降到190℃,优化效果明显,满足GaN芯片节温小于225℃使用需求。在试验验证中,安捷伦数据采集仪测试结果显示放大模块壳体温度与热仿真数据接近,红外热成像仪测试结果显示功放芯片满功率运行时节温约201℃,验证数据说明热仿真结果与实际数据接近,冷板设计满足功放器件的热设计需求。 展开更多
关键词 功放模块 gan芯片 热设计 仿真分析
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GaN基大功率倒装焊蓝光LED的I-V特性研究 被引量:2
8
作者 林亮 陈志忠 +3 位作者 童玉珍 于彤军 秦志新 张国义 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期766-768,777,共4页
测量了GaN基大功率倒装焊蓝光发光二极管(LED)在不同温度、不同老化阶段的电流-电压(I-V)特性曲线。结果表明,相对理想情形,特性曲线的反向偏压区漏电因深能级隧穿偏大;正向小偏压下因沿着位错汇聚金属产生漏电流;产生-复合电流区和扩... 测量了GaN基大功率倒装焊蓝光发光二极管(LED)在不同温度、不同老化阶段的电流-电压(I-V)特性曲线。结果表明,相对理想情形,特性曲线的反向偏压区漏电因深能级隧穿偏大;正向小偏压下因沿着位错汇聚金属产生漏电流;产生-复合电流区和扩散电流区因多量子阱限制而理想因子偏大;由于有源区低掺杂,在10 A/cm2就开始形成大注入区;在大电流下也因为串联电阻分压而形成串联电阻区。扩散电流区的温度系数和肖克莱方程导出的数值最接近,可用来测量结温。老化过程中反向漏电流增加,是因为有了更多被激活的深能级;随着老化正向漏电增加的速度变慢,是由于位错逐渐被汇集的金属填满。 展开更多
关键词 gan 大功率LED 倒装焊 理想因子 发光效率 老化
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GaN大功率Quasi-MMIC在片测试系统的研究 被引量:2
9
作者 王帅 钟世昌 陈悦 《现代制造技术与装备》 2021年第6期82-83,共2页
讨论GaN大功率Quasi-MMIC在片测试系统搭建以及测试中需要解决的各项问题。通过对传统在片测试系统的研究,结合GaN芯片要求高电压、高功率输出的特点,对直流探针和测试夹具进行改进,最终组建了GaN大功率Quasi-MMIC的在片测试系统,并用... 讨论GaN大功率Quasi-MMIC在片测试系统搭建以及测试中需要解决的各项问题。通过对传统在片测试系统的研究,结合GaN芯片要求高电压、高功率输出的特点,对直流探针和测试夹具进行改进,最终组建了GaN大功率Quasi-MMIC的在片测试系统,并用该系统对某款GaN Quasi-MMIC进行了测试评价,证明了该测试系统的可用性和测试的准确性。 展开更多
关键词 gan 芯片 在片测试系统
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基于GaN功率器件的热仿真技术研究 被引量:2
10
作者 郭怀新 韩平 陈堂胜 《固体电子学研究与进展》 CSCD 北大核心 2017年第3期176-181,共6页
针对大功率器件散热瓶颈问题,基于GaN功率芯片,利用有限元分析方法开展了芯片近结区热特性模拟方法的研究。建立了芯片近结区散热能力仿真评估的三维理论模型,系统地研究了不同的初始条件、边界条件、晶格热效应及结构理论假设等因素对... 针对大功率器件散热瓶颈问题,基于GaN功率芯片,利用有限元分析方法开展了芯片近结区热特性模拟方法的研究。建立了芯片近结区散热能力仿真评估的三维理论模型,系统地研究了不同的初始条件、边界条件、晶格热效应及结构理论假设等因素对仿真精度的影响,分析了理论建模因素对计算结果的影响的原因。同时采用红外热成像仪对不同功率下的GaN芯片结温进行测试验证,模拟计算的结果和测试值的偏差在10%之内,表明合理建模的热仿真技术可有效评估器件散热能力。 展开更多
关键词 gan芯片 热仿真 结温 有限元分析
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蓝光LED和GaN PD集成芯片双向照明通信性能研究 被引量:2
11
作者 杨馥瑞 蒋振宇 +3 位作者 沈建华 于德鲁 慎邦威 许键 《光学仪器》 2015年第3期253-258,共6页
针对LED照明通信集成芯片的应用,设计了一种包括蓝光LED和GaN PD的双向通信集成芯片。工作时蓝光和紫外光形成两路光通信。集成芯片的小尺寸可使LED照明通信减少一半的灯珠数量以利于缩小系统体积。对集成芯片采用串口通信协议和开关键... 针对LED照明通信集成芯片的应用,设计了一种包括蓝光LED和GaN PD的双向通信集成芯片。工作时蓝光和紫外光形成两路光通信。集成芯片的小尺寸可使LED照明通信减少一半的灯珠数量以利于缩小系统体积。对集成芯片采用串口通信协议和开关键控(OOK)调制解调装置进行单向、双向通信测试及分析。实验结果显示,集成芯片实现单向照明通信时,紫外通信误码率在10-6以下,在双向通信且蓝光LED电流密度不大于2.8mA/mm2时,紫外通信误码率在10-3以下。 展开更多
关键词 LED照明通信 蓝光LED gan PD 集成芯片
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SiO_(2)图形化蓝宝石衬底对GaN生长及LED发光性能的影响 被引量:2
12
作者 李思宏 侯想 +3 位作者 罗荣煌 刘杨 钟梦洁 罗学涛 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第4期526-533,共8页
为了提高氮化镓(GaN)基发光二极管(LEDs)的发光性能,采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)在蓝宝石衬底上沉积SiO_(2)薄膜,经过光刻和干法刻蚀技术制备了SiO_(2)图形化蓝宝石衬底(SiO_(2)patterned sapphire substrate,SPSS),利用LED器... 为了提高氮化镓(GaN)基发光二极管(LEDs)的发光性能,采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)在蓝宝石衬底上沉积SiO_(2)薄膜,经过光刻和干法刻蚀技术制备了SiO_(2)图形化蓝宝石衬底(SiO_(2)patterned sapphire substrate,SPSS),利用LED器件的外延生长和微纳加工技术获得了基于SPSS的GaN基LED器件。通过分析GaN外延层晶体质量、光提取效率和LED器件性能,重点研究了SPSS对GaN生长及LED发光性能的影响。实验及模拟仿真结果表明,与常规图形化蓝宝石衬底(Conventional patterned sapphire substrate,CPSS)相比,SPSS上生长的GaN外延层位错密度较低,晶体质量较高,SPSS-LED的光提取效率提高26%、光输出功率和亮度均提高约5%。 展开更多
关键词 SiO_(2)蓝宝石复合衬底 LED芯片 位错密度 gan 光提取效率
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GaN基交流高压大功率LED芯片及其灯具的研制 被引量:3
13
作者 汪延明 何鹏 +1 位作者 苗振林 季辉 《照明工程学报》 2017年第1期30-34,共5页
设计并制备了110V Ga N基交流高压LED芯片,阐述了其制作的关键工艺,并通过I-U-L曲线,近场光型等手段进行表征,该芯片具有良好的光电性能,通过两并两串方式封装在陶瓷支架并匹配相应的限流电阻组装成灯具,对比测试了灯具初态和稳态下的... 设计并制备了110V Ga N基交流高压LED芯片,阐述了其制作的关键工艺,并通过I-U-L曲线,近场光型等手段进行表征,该芯片具有良好的光电性能,通过两并两串方式封装在陶瓷支架并匹配相应的限流电阻组装成灯具,对比测试了灯具初态和稳态下的光电参数。 展开更多
关键词 氮化镓 发光二极管 交流高压芯片 大功率
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GaAs及GaN微波毫米波多功能集成电路芯片综述 被引量:2
14
作者 彭龙新 邹文静 +1 位作者 孔令峥 张占龙 《固体电子学研究与进展》 CAS 北大核心 2023年第2期121-135,共15页
综合论述了GaAs和GaN微波毫米波的收发多功能芯片、幅相多功能芯片和GaAs限幅放大器集成芯片的发展状况、电路结构和性能特性,简述了收发多功能中的功率放大器和低噪声放大器的设计方法、幅相多功能中数字移相器和衰减器的设计方法,给... 综合论述了GaAs和GaN微波毫米波的收发多功能芯片、幅相多功能芯片和GaAs限幅放大器集成芯片的发展状况、电路结构和性能特性,简述了收发多功能中的功率放大器和低噪声放大器的设计方法、幅相多功能中数字移相器和衰减器的设计方法,给出了限幅低噪声放大器中限幅器的设计参考。 展开更多
关键词 砷化镓赝配高电子迁移率晶体管 氮化镓高电子迁移率晶体管 微波单片集成电路 多功能芯片 低噪声放大器 功率放大器 数控衰减器 数控移相器 开关 GaAs数字电路
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采用碳纳米管改善GaN HEMT器件结构散热 被引量:1
15
作者 张国斌 赵妙 吴宗刚 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 2018年第12期95-98,共4页
自热效应是影响GaN HEMT器件特性的一个重要因素.本文我们对比研究了不同衬底的GaN HEMT器件传统封装、倒装结构的热特性,并采用高热导率的碳纳米管改善倒装器件散热.从仿真结果看,倒装结构对器件的散热能力有一定提升,而碳纳米管又增... 自热效应是影响GaN HEMT器件特性的一个重要因素.本文我们对比研究了不同衬底的GaN HEMT器件传统封装、倒装结构的热特性,并采用高热导率的碳纳米管改善倒装器件散热.从仿真结果看,倒装结构对器件的散热能力有一定提升,而碳纳米管又增强了的倒装结构的散热能力.采用碳纳米管的倒装结构使得以蓝宝石,硅和碳化硅为衬底的器件总热阻分别降低了77.1%、50.6%、32.9%.因此,碳纳米管能够改善倒装结构的散热,并增强器件的特性和可靠性. 展开更多
关键词 gan HEMT 碳纳米管 倒装 散热
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High power and high reliability GaN/InGaN flip-chip light-emitting diodes
16
作者 张剑铭 邹德恕 +4 位作者 徐晨 朱颜旭 梁庭 达小丽 沈光地 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2007年第4期1135-1139,共5页
High-power and high-reliability GaN/InGaN flip-chip light-emitting diodes (FCLEDs) have been demonstrated by employing a flip-chip design, and its fabrication process is developed. FCLED is composed of a LED die and... High-power and high-reliability GaN/InGaN flip-chip light-emitting diodes (FCLEDs) have been demonstrated by employing a flip-chip design, and its fabrication process is developed. FCLED is composed of a LED die and a submount which is integrated with circuits to protect the LED from electrostatic discharge (ESD) damage. The LED die is flip-chip soldered to the submount, and light is extracted through the transparent sapphire substrate instead of an absorbing Ni/Au contact layer as in conventional GaN/InGaN LED epitaxial designs. The optical and electrical characteristics of the FCLED are presented. According to ESD IEC61000-4-2 standard (human body model), the FCLEDs tolerated at least 10 kV ESD shock have ten times more capacity than conventional GaN/InGaN LEDs. It is shown that the light output from the FCLEDs at forward current 350mA with a forward voltage of 3.3 V is 144.68 mW, and 236.59 mW at 1.0A of forward current. With employing an optimized contact scheme the FCLEDs can easily operate up to 1.0A without significant power degradation or failure. The li.fe test of FCLEDs is performed at forward current of 200 mA at room temperature. The degradation of the light output power is no more than 9% after 1010.75 h of life test, indicating the excellent reliability. FCLEDs can be used in practice where high power and high reliability are necessary, and allow designs with a reduced number of LEDs. 展开更多
关键词 gan light emitting diode FLIP-chip high power
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Light-extraction enhancement of freestanding GaN-based flip-chip light-emitting diodes using two-step roughening methods
17
作者 安铁雷 孙波 +5 位作者 魏同波 赵丽霞 段瑞飞 廖元勋 李晋闽 伊福廷 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2013年第11期49-52,共4页
The light extraction enhancement of freestanding GaN-based flip-chip light-emitting diodes (FS- FCLEDs) using two-step roughening methods is investigated. The output power of LEDs fabricated by using one-step and tw... The light extraction enhancement of freestanding GaN-based flip-chip light-emitting diodes (FS- FCLEDs) using two-step roughening methods is investigated. The output power of LEDs fabricated by using one-step and two-step roughening methods are compared. The results indicate that two-step roughening meth- ods show more potential for light extraction. Compared with flat FS-FCLEDs, the output power of FS-FCLEDs with a nanotextured hemisphere surface shows an enhancement of 90.7%. 展开更多
关键词 freestanding gan flip chip LED CSCI wet etching light extraction
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Preparation of GaN-on-Si based thin-film flip-chip LEDs
18
作者 章少华 封波 +1 位作者 孙钱 赵汉民 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2013年第5期35-37,共3页
GaN based MQW epitaxial layers were grown on Si (111) substrate by MOCVD using AIN as the buffer layer. High light extraction LEDs were prepared by substrate transferring technology in combination with thin-film and... GaN based MQW epitaxial layers were grown on Si (111) substrate by MOCVD using AIN as the buffer layer. High light extraction LEDs were prepared by substrate transferring technology in combination with thin-film and flip-chip design. The blue and white 1.1 × 1.1 mm2 LED lamps are measured. The optical powers and external quantum efficiency for silicone encapsulated blue lamp are 546 mW, and 50.3% at forward current of 350 mA, while the photometric light output for a white lamp packaged with standard YAG phosphor is 120.1 lm. 展开更多
关键词 silicon substrate gan flip chip LED
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氮化镓器件芯片表面银迁移抑制方法研究 被引量:2
19
作者 别业楠 裴轶 赵树峰 《中国集成电路》 2022年第10期55-60,共6页
封装贴片所用烧结银胶中的银元素有可能在高温高湿度条件下转化为离子并在高电场作用下沿芯片表面迁移从而导致器件电极间漏电甚至短路。本研究工作采用高加速应力实验(HAST)作为加速检验手段,通过对失效样品的物理分析,首先确认了银迁... 封装贴片所用烧结银胶中的银元素有可能在高温高湿度条件下转化为离子并在高电场作用下沿芯片表面迁移从而导致器件电极间漏电甚至短路。本研究工作采用高加速应力实验(HAST)作为加速检验手段,通过对失效样品的物理分析,首先确认了银迁移是引起所观察到失效的根源。器件表面电场模拟结果显示,引入适当的环形屏蔽电极可以有效降低关键区域的电场强度。实验结果证实采用了带有优化设计屏蔽电极芯片的产品其芯片表面的银迁移现象得到了充分抑制,极大提高了采用烧结银胶贴片工艺生产的氮化镓器件的可靠性(栅漏电异常比例由48%降为0%),使其达到满足实际工业应用的水平。 展开更多
关键词 氮化镓 器件芯片 烧结银胶 银迁移
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超高导热金刚石铜表面镀涂技术研究 被引量:2
20
作者 季兴桥 何国华 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第6期659-664,共6页
金刚石铜复合材料具有高导热率和低膨胀系数,在微电子领域用作Ga N和Si C等高功率芯片的散热热沉,可以显著降低大功率芯片的结温,提高电子产品的可靠性和寿命。通过在金刚石铜复合材料表面上化学镀镍金的方法使表面金属化以改善其焊接... 金刚石铜复合材料具有高导热率和低膨胀系数,在微电子领域用作Ga N和Si C等高功率芯片的散热热沉,可以显著降低大功率芯片的结温,提高电子产品的可靠性和寿命。通过在金刚石铜复合材料表面上化学镀镍金的方法使表面金属化以改善其焊接性。未做处理的金刚石表面非常光滑,难以和其他金属附着,由于金刚石性质非常稳定,不容易被强酸和强碱表面处理,铜较活泼,采用一般处理方法容易使铜处理过度,而金刚石没反应。对比采用了硝酸、硫酸、氢氧化纳、喷砂、人工打磨等多种方法对金刚石铜表面前处理,效果有限。根据金刚石铜材料特性采用JG-01金刚石铜粗化处理液,能够有效对金刚石进行粗化处理,且对铜无损伤,在金刚石表面形成了连续的蜂窝状微孔,提升金刚石表面镀涂结合力。金刚石铜粗化后通过活化、敏化、化学镍、镀金等镀涂工艺,镍金镀层附着力满足军标热震试验、高温烘烤要求,镀金层覆盖率达到100%,镀层粗糙度显著降低,镀层对金锡和锡铅焊料的可焊性满足产品使用要求。 展开更多
关键词 金刚石铜 粗化液 镀涂 可焊性 GA N芯片
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