反应离子刻蚀法制备石英纳米压印模板的工艺研究 被引量：3

1

作者 张少峰 刘正堂 +2 位作者 李阳平 陈海波 徐启远 《机械科学与技术》 CSCD 北大核心 2012年第11期1786-1789,共4页

为了使用紫外纳米压印法制备出亚波长结构,研究了在石英衬底上采用光刻和反应离子刻蚀技术制备出紫外纳米压印模板,以及模板制备过程中工艺参数对光刻胶和刻蚀速率的影响。利用激光共聚焦显微镜(LSCM)及原子力显微镜(AFM)对光刻和刻蚀... 为了使用紫外纳米压印法制备出亚波长结构,研究了在石英衬底上采用光刻和反应离子刻蚀技术制备出紫外纳米压印模板,以及模板制备过程中工艺参数对光刻胶和刻蚀速率的影响。利用激光共聚焦显微镜(LSCM)及原子力显微镜(AFM)对光刻和刻蚀图形的表面形貌进行了观察,获得了工艺参数对光刻胶掩膜图形和刻蚀图形的影响规律;在最优工艺参数条件下,所制紫外纳米压印模板整齐、规则,并利用紫外可见近红外光谱仪对其紫外透过率进行了表征,反应离子刻蚀后石英模板的透过率在365 nm处仍大于90%。 展开更多

关键词 光刻 反应离子刻蚀 刻蚀速率 亚波长结构 紫外纳米压印

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100nm周期蛾眼结构制备及其表面拉曼增强性能

2

作者 朱郑乔若 魏本猛 +3 位作者 桑艾霞 廖艳林 葛良进 王旭迪 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期602-606,共5页

以多孔氧化铝(AAO)为模板,基于聚氨酯丙烯酸酯(PUA)在紫外曝光前后的表面能变化的特性,利用逆紫外固化纳米压印技术实现纳米蛾眼结构复制成型。分析图形复制过程中界面间的粘附功差异,根据红外光谱对C=C双键的转化速度来表征PUA的固化... 以多孔氧化铝(AAO)为模板,基于聚氨酯丙烯酸酯(PUA)在紫外曝光前后的表面能变化的特性,利用逆紫外固化纳米压印技术实现纳米蛾眼结构复制成型。分析图形复制过程中界面间的粘附功差异,根据红外光谱对C=C双键的转化速度来表征PUA的固化程度进而优化制作工艺,在柔性聚对苯二甲酸乙二酯薄膜表面制备出周期为100 nm的PUA大面积高深宽比柱状纳米结构阵列。利用具有蛾眼纳米结构的银金属薄膜,进行表面拉曼增强特性实验,得到了葡萄糖分子的表面增强拉曼散射效应。 展开更多

关键词 蛾眼结构 紫外固化纳米压印 表面能 表面增强拉曼散射

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纳米压印技术 被引量：12

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作者 孙洪文 刘景全 +2 位作者 陈迪 顾盼 杨春生 《电子工艺技术》 2004年第3期93-98,共6页

传统光学光刻技术的高成本促使科学家去开发新的非光学方法,以取代集成电路工厂目前所用的工艺。另外,微机电系统(MEMS)的成功启发科学家借用MEMS中的相关技术,将其使用到纳米科技中去,这是得到纳米结构的一种有效途经。纳米压印在过去... 传统光学光刻技术的高成本促使科学家去开发新的非光学方法,以取代集成电路工厂目前所用的工艺。另外,微机电系统(MEMS)的成功启发科学家借用MEMS中的相关技术,将其使用到纳米科技中去,这是得到纳米结构的一种有效途经。纳米压印在过去的几年里受到了高度重视,因为它成功地证明了它有成本低、分辨率高的潜力。纳米压印技术主要包括热压印、紫外压印(含步进—闪光压印)和微接触印刷等。本文详细讨论纳米压印材料的制备及常用的三种工艺的工艺步骤和它们各自的优缺点。并对这三种工艺进行了比较。最后列举了一些典型应用,如微镜、金属氧化物半导体场效应管、光栅等。 展开更多

关键词 纳米压印 热压印 紫外压印 步进-闪光压印 微接触印刷

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纳米压印技术的发展及其近期的应用研究 被引量：4

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作者 张笛 张琰 +1 位作者 孔路瑶 程秀兰 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2022年第5期1-5,共5页

综述了热纳米压印、紫外纳米压印、微接触印刷三种具有代表性的纳米压印(NIL)技术的原理、工艺流程和优缺点,并介绍了近几年来纳米压印技术的研究进展及其在光学器件、存储器、柔性器件和生物传感器等领域中的应用现状。

关键词 热纳米压印 紫外纳米压印 微接触印刷 光学器件 存储器 柔性器件 生物传感器

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基于紫外纳米压印光刻的生物纳米孔测序MEMS芯片设计

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作者 姜保 侍南 +1 位作者 吴炫烨 徐屹峰 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2024年第8期79-82,共4页

纳米孔测序作为最新一代的基因测序技术,在生物医学和临床应用中起着至关重要的作用。测序系统中的MEMS结构通常采用传统光刻工艺来实现,本文首次运用紫外纳米压印光刻(UV-NIL)工艺来验证实现纳米孔测序系统中的MEMS芯片的可能性。采用... 纳米孔测序作为最新一代的基因测序技术,在生物医学和临床应用中起着至关重要的作用。测序系统中的MEMS结构通常采用传统光刻工艺来实现,本文首次运用紫外纳米压印光刻(UV-NIL)工艺来验证实现纳米孔测序系统中的MEMS芯片的可能性。采用传统光刻工艺,制造了3种用于纳米孔测序的MEMS双层结构的硅晶圆。这些硅晶圆被用作母板,将其MEMS结构图案精准复制到聚二甲基硅氧烷(PDMS)上,形成压印软模,再用UV-NIL工艺在硅基底上压印出所需的MEMS结构。最后,通过光学和电学两种测试表征手段,成功证实UV-NIL工艺在制造MEMS芯片方面的有效性和可行性。相较于传统光刻,UV-NIL的成功运用将极大提高工艺稳定性并大幅缩减成本。 展开更多

关键词 纳米孔 基因测序 紫外纳米压印光刻

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纳米压印技术的研究 被引量：3

6

作者 段家现 《装备制造技术》 2010年第7期32-34,共3页

介绍了纳米压印技术的原理,讨论了纳米压印中材料的制备及热压印、紫外压印、微接触印刷等3种常用的压印工艺及其关键技术,提出纳米压印技术的研究方向和面临的挑战。

关键词 纳米压印 材料制备 热压印 紫外压印 微接触印刷

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凸面锗窗口亚波长抗反射结构的设计与制备 被引量：1

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作者 陈佛奎 丁江 +2 位作者 余明 马翠 林慧 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2023年第5期222-227,共6页

红外光学成像系统的灵敏度与光学窗口透射率密切相关,锗窗口是红外光学系统的常用窗口,在锗窗口上制备亚波长结构可以增强抗反射性能从而提高透射率,且常选择凸面窗口以获得更大的视场角。针对在曲面窗口上亚波长结构的制备工艺较为复... 红外光学成像系统的灵敏度与光学窗口透射率密切相关,锗窗口是红外光学系统的常用窗口,在锗窗口上制备亚波长结构可以增强抗反射性能从而提高透射率,且常选择凸面窗口以获得更大的视场角。针对在曲面窗口上亚波长结构的制备工艺较为复杂的难题,本文运用柔性紫外纳米压印方法(soft UV-NIL),在凸面锗窗口表面高效、高质量地制作了亚波长抗反射结构。首先基于时域有限差分方法优化设计了亚波长抗反射结构参数,然后基于soft UV-NIL工艺制备了符合设计要求的亚波长结构。测试结果表明,在3.55~5.55μm波长范围内,凸面锗窗口单面平均透射率由65.81%提升到78.68%,在波长为4.4μm处,透射率由65.85%提升至83.13%,实现了中红外宽波段抗反射效果。 展开更多

关键词 光学设计 微结构制造 亚波长结构 柔性紫外纳米压印 抗反射

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硅油稀释PDMS法制备紫外纳米压印软模板 被引量：2

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作者 李海鑫 黄其煜 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2010年第3期188-192,共5页

软模板的制作是紫外纳米压印中关键的技术,模版的分辨率直接决定了压印图形的最小分辨率。使用具有高度均匀、100nm级孔洞阵列结构的多孔氧化铝作为母版,使用基于液态浇铸的硅油稀释聚二甲基硅氧烷(硅油和聚二甲基硅氧烷的质量比为1:2)... 软模板的制作是紫外纳米压印中关键的技术,模版的分辨率直接决定了压印图形的最小分辨率。使用具有高度均匀、100nm级孔洞阵列结构的多孔氧化铝作为母版,使用基于液态浇铸的硅油稀释聚二甲基硅氧烷(硅油和聚二甲基硅氧烷的质量比为1:2)法制备出具有规则点阵结构的软模板。通过SEM和AFM表征发现,特征图形得到了有效转移,特征尺度保持在100nm左右。相对于传统的模板制备方法,此方法成本低、流程简单、适合大规模生产,是一种非常有前途的软模板制备方法。 展开更多

关键词 聚二甲基硅氧烷 硅油 紫外纳米压印 软模板 浇铸法

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新型含硅丙烯酸酯型纳米压印胶的研究与应用 被引量：1

9

作者 董会杰 辛忠 +2 位作者 陆馨 吕宇皓 王磊 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2012年第9期630-636,共7页

纳米压印技术因其成本低、产量高的优点广受关注,而开发可适用于纳米压印的压印胶成为该工艺的关键。合成了一种硅含量高的单体三(三甲基硅氧基)甲基丙烯酰氧丙基硅烷(TRIS),制备了一种新型紫外纳米压印用含硅丙烯酸酯型压印胶,用四点... 纳米压印技术因其成本低、产量高的优点广受关注,而开发可适用于纳米压印的压印胶成为该工艺的关键。合成了一种硅含量高的单体三(三甲基硅氧基)甲基丙烯酰氧丙基硅烷(TRIS),制备了一种新型紫外纳米压印用含硅丙烯酸酯型压印胶,用四点弯曲实验机和接触角测试仪表征了压印胶与模板的黏附性能,研究了配方组成对模板黏附性能的影响,优化得到了抗黏附性能优异的配方。压印实验结果表明,该压印胶与模板分离时无粘连。AFM与SEM测试结果表明,压印胶上复制得到了线宽149 nm、周期298 nm、深宽比为1的纳米光栅图形,图形结构完整。 展开更多

关键词 紫外纳米压印 压印胶 含硅丙烯酸酯 抗黏附 表面能

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基于紫外纳米压印的菲涅耳透镜制作

10

作者 邹建兵 浦东林 +1 位作者 申溯 陈林森 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第6期1085-1088,共4页

针对传统聚光系统中菲涅耳透镜成本较高并且光强分布不均匀的弊端,提出了利用紫外纳米压印技术制作菲涅耳透镜的方法.利用几何光学的光线追迹理论,设计了菲涅耳透镜模具.采用自行研制的紫外纳米压印系统对模具进行压印,紫外曝光后制得... 针对传统聚光系统中菲涅耳透镜成本较高并且光强分布不均匀的弊端,提出了利用紫外纳米压印技术制作菲涅耳透镜的方法.利用几何光学的光线追迹理论,设计了菲涅耳透镜模具.采用自行研制的紫外纳米压印系统对模具进行压印,紫外曝光后制得薄膜菲涅耳透镜.在太阳光下进行了测试,测试结果表明,低成本、高聚光倍数和光强分布均匀的菲涅耳透镜是可以实现的. 展开更多

关键词 菲涅耳透镜 紫外纳米压印 聚光型太阳能系统

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基于多苯烯丙基醚无氟抗粘的巯基-烯纳米压印光刻胶

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作者 李桃 廖兵 +4 位作者 韦代东 汪慧怡 雍奇文 罗业燊 庞浩 《微纳电子技术》 北大核心 2018年第6期401-407,共7页

为了减小纳米压印光刻胶与模板间的接触黏附力，合成了一种无氟抗粘巯基一烯纳米压印光刻胶。以A，A，A’-三（4-羟苯基）-1-乙基-4-异丙苯（TPA）和溴丙烯为原料，采用相转移催化法制备了一种功能性单体A，A，A’-三（4-丙烯基苯基醚）... 为了减小纳米压印光刻胶与模板间的接触黏附力，合成了一种无氟抗粘巯基一烯纳米压印光刻胶。以A，A，A’-三（4-羟苯基）-1-乙基-4-异丙苯（TPA）和溴丙烯为原料，采用相转移催化法制备了一种功能性单体A，A，A’-三（4-丙烯基苯基醚）-1-乙基-4-异丙苯（TPAE），并将其按特定配比与三羟甲基丙烷三（3-巯基丙酸酯）和光引发剂配制成纳米压印光刻胶。实时傅里叶红外光谱（FT-IR）分析表明，当辐射剂量为200mJ／cm^2时，双键的转化率为78．0％，巯基的转化率为78．1％。胶膜的去离子水接触角为90°。纳米压印光刻胶脱模后的图形结构规整，保真度高，具有良好的脱模性能。 展开更多

关键词 紫外纳米压印 光刻胶 巯基-烯反应 无氟抗粘 脱模

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紫外纳米压印用PMMA转移层膜的制备及性能

12

作者 董会杰 辛忠 陆馨 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2009年第9期561-565,共5页

以苯甲醚为溶剂,采用旋涂法制备PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)转移层膜。当PMMA的质量分数为5%、旋涂速度为2000～6000r/min时,转移层膜的厚度为90～150nm,粗糙度为0.3nm,可满足纳米压印要求。采用接触角测量仪测试计算出PMMA、PS转移层膜的... 以苯甲醚为溶剂,采用旋涂法制备PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)转移层膜。当PMMA的质量分数为5%、旋涂速度为2000～6000r/min时,转移层膜的厚度为90～150nm,粗糙度为0.3nm,可满足纳米压印要求。采用接触角测量仪测试计算出PMMA、PS转移层膜的表面能,并通过转移层膜与压印胶之间的粘附功和界面张力的计算,评价了PMMA、PS和Si片对压印胶的润湿和粘附性能。结果表明,PMMA膜可改善压印胶在基片上的润湿铺展性能和粘附性能,而PS膜虽能改善基片的润湿铺展性能,却不利于压印胶的粘附。 展开更多

关键词 紫外纳米压印 聚甲基丙烯酸甲酯 转移层膜 压印胶 粘附功

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