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我国抛光处理材料的研发现状
被引量：
8
Present Situation of Research and Development about Polishing Material in China
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摘要
通过对国内近二十多年来抛光处理材料的研究,并将抛光处理材料分为二大类进行讨 论,介绍了近年来我国抛光处理材料的研发现状。
作者
马云
刘存海
王锦江
田小博
机构地区
陕西科技大学
西安市天然气总公司
出处
《新技术新工艺》
北大核心
2003年第12期48-50,共3页
New Technology & New Process
关键词
表面处理
抛光处理材料
研发现状
抛光膏
抛光液
机械抛光
化学抛光
电化学抛光
polishing,material,present situation of research
分类号
TG175 [金属学及工艺—金属表面处理]
TG580.692 [金属学及工艺—金属学]
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