摘要
制作高Q值在片集成电感一直是体硅CMOS射频集成电路工艺中的一大难点,文章讨论和分析了体硅RFIC工艺中提高在片集成电感Q值的几种常用方法,这些方法都与CMOS工艺兼容。
It is quite difficult to fabricate onchip high Qfactor spiral inductors in bulk silicon CMOS RF IC's This paper discusses some conventional techniques to improve the Qfactor of onchip spiral inductors Those methods are all compatible with CMOS technology
出处
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第1期15-18,共4页
Microelectronics
