摘要
介绍了半导体制进业专用设备,紫外光刻设备所使用的光学材料。介绍了该材料的选择,研究现状,该材料制造工艺技术的创新,以及与材料制造技术相配套的技术发展状况,同时分析了国际市场现状及该技术的发展趋势。
This article describes optical materials used in UV lithography technology for semiconductor manufacturing industry, the current status of its R&D efforts, and characteristics of hew technology for making the material.This article also analyses the trends of international market,and the trends of technology progress in 157nm lithography.
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
2003年第6期34-36,共3页
Materials Reports
基金
长春市政府科技引导计划项目(02-143X09)
