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硅上氮化硅膜厚样片的制备
被引量：
1
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摘要
首先论述了膜厚测量仪应用的广泛性以及膜厚样片用于校准膜厚测量仪的重要性;其次,介绍了硅上氮化硅(Si_3N_4/Si)膜厚样片制作的必要性,并从样片的图形设计、加工工艺选择等方面详细阐述了硅上氮化硅膜厚样片的研制过程;最后,对已试制的膜厚样片的均匀性、稳定性进行了相应的考核及分析,分析结果表明研制的硅上氮化硅膜厚样片具有较好的稳定性。
作者
赵琳
李锁印
韩志国
赵革艳
邓敏庆
梁法国
机构地区
中国电子科技集团公司第十三研究所
出处
《计测技术》
2016年第S1期309-310,316,共3页
Metrology & Measurement Technology
关键词
膜厚测量仪
校准
Si3N4/Si膜厚样片
均匀性
稳定性
分类号
TN304.05 [电子电信—物理电子学]
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