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PCB电镀铜知识(5):电镀铜添加剂性能分析与测试方法(上)

The knowledge of copper electroplating for PCB(5-A):performance analysis and testing methods of additives for copper electrodeposition
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摘要 0引言。印制电路板(printed circuit board,PCB)制造中,酸性硫酸铜体系成本低、体系稳定、电流效率高且易于维护,因此成为目前最常用的镀铜体系。但是,酸性电镀铜液的镀液性能提升非常依赖于添加剂的性能研究。本文介绍电镀铜添加剂性能分析与测试方法,主要包含直流电镀、电化学测试和数值模拟3种。直流电镀法作为最早出现的镀层质量测试方法,在3种方法中最为直观,但误差较大且耗时多,对物料消耗大;随后发展出的电化学测试方法,是目前最有说服力的研究测试方法,能够定性定量地预测添加剂的性能;数值模拟方法是研究添加剂性能的新兴技术,包括量子化学模拟、分子动力学模拟和多物理场耦合模拟[1-3]。
作者 陈苑明 杨瑞泉 郑莉 黎钦源 田玲 何为 CHEN Yuanming;YANG Ruiquan;ZHENG Li;LI Qinyuan;TIAN Ling;HE Wei(School of Materials and Energy,University of Electronic Science and Technology of China,Chengdu 610054,Sichuan,China;Delton Technology(Guangzhou)Co.,Ltd.,Guangzhou 510730,Guangdong,China;Zhuhai Founder Sci&Tech High-Density Electronics Co.,Ltd.,Zhuhai 519175,Guangdong,China)
出处 《印制电路信息》 2024年第3期62-68,共7页 Printed Circuit Information
基金 珠海市创新团队项目(ZH0405190005PWC) 珠海市产学研合作项目(2220004002990) 广州市黄埔区国际科技合作项目(2022GH14)。
  • 相关文献

参考文献6

  • 1郑莉..调控铜沉积的有机添加剂体系及其电化学性能研究[D].电子科技大学,2020:
  • 2朱凯..金属沉积构建电子元件电气互连结构的研究与应用[D].电子科技大学,2019:
  • 3冀林仙..基于多物理场耦合的印制电路电镀铜互连研究[D].电子科技大学,2016:
  • 4袁诗璞.霍尔槽试验原理及实践[J].涂装与电镀,2011(5):3-10. 被引量:3
  • 5郑莉,王翀,王守绪,何为,陈世金,陈际达,张胜涛.含N+杂环基团整平剂对通孔电镀效果的影响研究[J].印制电路信息,2017,25(A02):93-97. 被引量:2
  • 6向静..封装基板互连结构电沉积铜机理与应用研究[D].电子科技大学,2018:

二级参考文献1

共引文献3

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