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研发强度与战略性新兴产业成长性研究——基于门限面板模型 被引量:12

R&D Input Intensity Andthe Growth of Strategic Emerging Industries——Based on the Panel Threshold Model
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摘要 本文以属于战略性新兴产业的A股上市公司为研究对象,使用门限面板模型研究了研发投入对成长性的非线性影响。研究结果表明,研发投入强度对战略性新兴产业的成长性存在显著的门限效应,随着研发强度的增加,其对成长性的促进作用表现出边际递减的规律。进一步基于空间异质性视角进行研究,结果表明:在东部、中部和西部地区分别存在唯一的门限值,在东部地区,研发强度对战略性新兴产业成长性始终表现为促进作用,而在中西部地区,研发强度一旦超过门限值,其对战略性新兴产业成长性转变为抑制作用。 Based on the listed companies in strategic emerging industries in China, this paper examines the non- linear relationship between R&D input intensity and the growth of strategic emerging industries by using Panel Threshold Model. The results show that R&D input intensity has two threshold effect on the growth of strategic emerging industries, it has an positive effect of diminishing marginal effi- ciency on the growth of strategic emerging industries. Furthermore, R&D input intensity has an spatial heterogeneity on the threshold effect of the strategic emerging industries' growth. R&D input intensity has a positive effect on the growth of strategic emerging industries in the eastern regions, while in the western and central regions, R&D input intensity has a negative effect on the growth of strategic emerging industries when it is bigger than the threshold value.
作者 孙焱林 陈微
机构地区 华中科技大学
出处 《工业技术经济》 CSSCI 北大核心 2017年第5期30-35,共6页 Journal of Industrial Technological Economics
关键词 战略性新兴产业 研发强度 门限效应 空间异质性 成长性 strategic emerging industries R&D input intensity threshold effect spatial heterogeneity growth
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