通用工艺与设备

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摘要 05192542002年电解工业报告=Report on the Electrolytic In-dustries for the Year 2002[刊,英]/V.Srinivasan,L.Lipp//Journal d The Electrochemical Society.—2003,150(12).—K15(E)0519255垂直腔面发射激光器的氧化工艺研究[刊,中]/谢浩锐//半导体光电.—2005,26(2).—124-127(D)0519256真空吸滤过程影响纸浆模塑制品质量问题的分析[刊,中)/杨广衍//真空.—2005,42(3).—49-50(D)

出处《电子科技文摘》 2005年第12期41-53,共13页 Sci.& Tech.Abstract

关键词通用工艺电子束光刻掩模等离子体蚀刻等离子体刻蚀 LITHOGRAPHY 极端紫外压铸机注射成型溶胶一凝胶

分类号 TN304.055 [电子电信—物理电子学]

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1基本电子电路[J].中国无线电电子学文摘,2004,0(4):41-45.
2一丁.Al的螺旋波等离子体蚀刻特点[J].等离子体应用技术快报,1994(11):16-17.
3晓青.负离子等离子体蚀刻硅[J].等离子体应用技术快报,1996(10):6-7.
4宏民.螺旋波等离子体蚀刻装置研制[J].等离子体应用技术快报,1995(3):8-10.
5李民.在ECR等离子体的选择性SiO2／Si蚀刻中添加氢气的效应[J].等离子体应用技术快报,1997(6):17-18.
6Chap.,BN,张一鸣.等离子体蚀刻基础（上）[J].国外核聚变与等离子体应用,1992(1):61-75.
7Chap.,BN,张一鸣.等离子体蚀刻基础（下）[J].国外核聚变与等离子体应用,1992(2):60-72.
8电子工艺[J].电子科技文摘,2002,0(5):27-28.
9关键点横向注射专用热咀[J].塑料制造,2009(1):94-94.
10华虹半导体功率器件平台累计出货量突破500万片晶圆[J].集成电路应用,2017,34(4):90-90.

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