摘要
Y2002-63234-149 0224580多缓冲浅沟道隔离中等离子体充电缺陷检测与监视=Plasma charging defect inspection and monitors in poly-buffered STI[会,英]/Yu,C.H.& Liou,Y.H.//2001 IEEE International Symposium on SemiconductorManufacturing.—149~152(E)0224581透明导电 IMO 薄膜的载流子迁移率研究[刊]/孟扬//真空科学与技术学报.—2002,22(4).—265~269(L)
出处
《电子科技文摘》
2002年第12期17-17,共1页
Sci.& Tech.Abstract