摘要
利用考夫曼离子源辅助电子束蒸发（IBAD）在K9玻璃上制备了HfO2薄膜。采用DX-2000型X射线衍射仪fXRD）对薄膜晶体结构进行分析得知制备的薄膜呈现单斜晶相结构。采用SE850宽谱变角度反射式光谱型椭偏仪对薄膜在280—2500nm波段的椭偏参数进行测量，光谱拟合中考虑了界面层和表面粗糙层，分别采用Cauchy模型、Tauc—Lorentz模型、Forouhi-Bloomer模型、Sellmeier-Transparent模型进行分析，得到薄膜紫外至近红外波段光学参数。椭偏拟合结果表明Tauc-Lorentz模型最符合HfO2薄膜光学特性，光谱曲线的拟合值与理论值最接近，均方根误差（MSE）为0．57。利用Lumda950分光光度计测量薄膜透射率并计算出HfO2薄膜光学带隙（-5．40eV）。
HfO2 thin films are deposited on K9 glass by Kaufman ion source assisted electron beam evaporation. The X-ray diffraction （XRD） results show that the films presented monoclinic phase. Spectroscopic ellipsometer SE850 is used to test elliptic partial parameters in 280-2500 nm waveband, and Cauchy index model, Tauc-Lorentz model, Forouhi-Bloomer model, Sellmeier-Transparent model are used to analyze the ellipsometric data with considering rough surface layer and interface layer, and optical parameters are obtained from ultraviolet （UV） to near-infrared （NIR） band. The fitting results show the Tauc-Lorentz model is the best model to describe the HfO2 film optical properties （MSE 0.57）. Thin films transmittance are measured by Lumda 950 spectrophotometer and HfO2 films optical band gap are calculated （-5.40 eV）.
出处
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2016年第3期262-267,共6页
Laser & Optoelectronics Progress
基金
西南民族大学研究生"创新型科研项目"(CX2015SZ111)
关键词
薄膜
HFO2薄膜
晶体结构
光学常数
光学带隙
thin films
HfO2 thin film
crystal structure
film characteristics
optical band gap
